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1. WO2022198251 - VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR BEREITSTELLUNG ELEMENTARER STOFFE

Veröffentlichungsnummer WO/2022/198251
Veröffentlichungsdatum 29.09.2022
Internationales Aktenzeichen PCT/AT2022/060083
Internationales Anmeldedatum 22.03.2022
IPC
H01J 37/32 2006.1
HSektion H Elektrotechnik
01Grundlegende elektrische Bauteile
JElektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
32Gasgefüllte Entladungsröhren
B01D 59/00 2006.1
BSektion B Arbeitsverfahren; Transportieren
01Physikalische oder chemische Verfahren oder Vorrichtungen allgemein
DTrennen
59Trennen verschiedener Isotope desselben chemischen Elements
H05H 1/54 2006.1
HSektion H Elektrotechnik
05Elektrotechnik, soweit nicht anderweitig vorgesehen
HPlasmatechnik; Erzeugung von beschleunigten elektrisch geladenen Teilchen oder von Neutronen; Erzeugung oder Beschleunigung von neutralen Molekularstrahlen oder Atomstrahlen
1Erzeugen von Plasma; Handhaben von Plasma
54Plasmabeschleuniger
CPC
H01J 37/04
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
H01J 37/32
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
H01J 37/32422
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32422Arrangement for selecting ions or species in the plasma
H01J 37/32669
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
3266Magnetic control means
32669Particular magnets or magnet arrangements for controlling the discharge
H05H 1/02
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
02Arrangements for confining plasma by electric or magnetic fields; Arrangements for heating plasma
H05H 1/10
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
02Arrangements for confining plasma by electric or magnetic fields; Arrangements for heating plasma
10using externally-applied magnetic fields only ; , e.g. Q-machines, Yin-Yang, base-ball
Anmelder
  • HETTMER, Manfred [AT]/[AT]
Erfinder
  • HETTMER, Manfred
Vertreter
  • SONN PATENTANWÄLTE OG
Prioritätsdaten
A 50190/202122.03.2021AT
Veröffentlichungssprache Deutsch (de)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR BEREITSTELLUNG ELEMENTARER STOFFE
(EN) METHOD AND APPARATUS FOR PROVIDING ELEMENTAL SUBSTANCES
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE FOURNITURE DE SUBSTANCES ÉLÉMENTAIRES
Zusammenfassung
(DE) Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bereitstellung elementarer Stoffe, aufweisend zumindest die Schritte: - Erzeugen eines Plasmas, wobei das Plasma zumindest einen molekularen Bestandteil aufweist; - Führen des Plasmas in einer Plasmakammer (4); - Vorsehen eines Magnetfeldes in der Plasmakammer (4) zur Bildung von Alfven-Wellen im Plasma und zur Erhitzung des Plasmas, wobei das Magnetfeld von einem magnetischen Primärfeld und einem magnetischen Sekundärfeld gebildet wird, wobei das Sekundärfeld dem Primärfeld entgegengesetzt gepolt ist und oszilliert, sodass das Primärfeld periodisch deformiert wird; - Vorsehen eines Plasmagrenzankers (7), der einen Austritt von Ionen des Plasmas aus der Plasmakammer (4) verhindert, deren kinetische Energie einer Temperatur entspricht, die niedriger als die Zerfallstemperatur des molekularen Bestandteils ist. Weiters betrifft die Erfindung eine entsprechende Vorrichtung (1).
(EN) The invention relates to a method for providing elemental substances, comprising at least the following steps: - generating a plasma, said plasma comprising at least one molecular component; - guiding the plasma in a plasma chamber (4); - providing a magnetic field in the plasma chamber (4) in order to form Alfven waves in the plasma and to heat the plasma, which magnetic field is formed by a primary magnetic field and a secondary magnetic field, the secondary field having an opposing polarity to that of the primary field and oscillating, so that the primary field is periodically deformed; - providing a plasma boundary anchor (7) by which plasma ions having kinetic energy corresponding to a temperature lower than the decomposition temperature of the molecular component are prevented from escaping from the plasma chamber (4). The invention also relates to a corresponding apparatus (1).
(FR) L'invention concerne un procédé de fourniture de substances élémentaires, comprenant au moins les étapes suivantes : - la génération d'un plasma, ledit plasma comprenant au moins un composant moléculaire ; - le guidage du plasma dans une chambre à plasma (4) ; - la fourniture d'un champ magnétique dans la chambre à plasma (4) afin de former des ondes Alfven dans le plasma et de chauffer le plasma, ledit champ magnétique étant formé par un champ magnétique primaire et un champ magnétique secondaire, le champ secondaire ayant une polarité opposée à celle du champ primaire et oscillant, de telle sorte que le champ primaire est périodiquement déformé ; - la fourniture d'un ancrage de limite de plasma (7) par lequel des ions de plasma ayant une énergie cinétique correspondant à une température inférieure à la température de décomposition du composant moléculaire sont empêchés de s'échapper de la chambre à plasma (4). L'invention concerne également un appareil correspondant (1).
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