(DE) Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Bestimmung einer Lage einer Strahltaille eines fokussierten Strahls (10) relativ zu einer Referenzoberfläche (12) mit einer Steuerung (30), welche dazu programmiert und/oder ausgelegt ist, eine Fokussiereinrichtung (32) dazu anzusteuern, den Strahl (10) derart zu fokussieren, dass die Strahltaille auf mehrere Positionen nacheinander verstellt ist, anhand von mittels einer Detektiereinrichtung (38) für die Positionen gemessenen Werte einer Intensität eines mittels des fokussierten elektromagnetischen Strahls (10) oder Teilchenstrahls bewirkten Prozessleuchtens (16) und/oder einer Größe mindestens eine Messkurve festzulegen, und ein lokales Maximum, ein lokales Minimum oder einer Symmetrieachse der mindestens einen festgelegten Messkurve zu ermitteln, bei welchem/welcher die Strahltaille des fokussierten Strahls (10) auf der Referenzebene (12) liegt. Die Erfindung betrifft auch ein korrespondierendes Verfahren zum Bestimmen einer Lage einer Strahltaille eines fokussierten Strahls (10) relativ zu einer Referenzoberfläche (12).
(EN) The invention relates to a device for determining the location of a beam waist of a focussed beam (10) relative to a reference surface (12), the device having a controller (30) programmed and/or designed to control a focussing device (32) so as to focus the beam (10) such that the beam waist is successively adjusted to a plurality of positions, to specify at least one measurement curve using values, measured by means of a detecting device (38) for the positions, of an intensity of a process radiation (16) caused by the focussed electromagnetic beam (10) or particle beam and/or values of a variable, and to determine a local maximum, a local minimum or an axis of symmetry of the at least one specified measurement curve at which the beam waist of the focussed beam (10) lies in the reference plane (12). The invention also relates to a corresponding method for determining the location of a beam waist of a focussed beam (10) relative to a reference surface (12).
(FR) L'invention concerne un dispositif pour déterminer l'emplacement d'un col de faisceau d'un faisceau (10) focalisé par rapport à une surface de référence (12), comprenant un dispositif de commande (30) qui est programmé et/ou conçu pour commander un dispositif de focalisation (32) pour focaliser le faisceau (10) de façon que le col de faisceau soit successivement ajusté sur une pluralité de positions successives, pour spécifier au moins une courbe de mesure au moyen de valeurs, mesurées au moyen d'un dispositif de détection (38) pour les positions, d'une intensité d'un rayonnement de traitement (16) produit au moyen du faisceau électromagnétique focalisé (10) ou d’un faisceau de particules et/ou d'une variable, et pour déterminer un maximum local, un minimum local ou un axe de symétrie de la ou des courbes de mesure spécifiées pour laquelle ou lesquelles le col de faisceau du faisceau focalisé (10) se situe dans le plan de référence (12). Cette invention concerne également un procédé correspondant pour déterminer l'emplacement d'un col de faisceau d'un faisceau focalisé (10) par rapport à une surface de référence (12).
