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1. WO2022089885 - OPTISCHES ELEMENT, INSBESONDERE ZUR REFLEXION VON EUV-STRAHLUNG, OPTISCHE ANORDNUNG UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES OPTISCHEN ELEMENTS

Veröffentlichungsnummer WO/2022/089885
Veröffentlichungsdatum 05.05.2022
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2021/077360
Internationales Anmeldedatum 05.10.2021
IPC
G02B 5/08 2006.1
GSektion G Physik
02Optik
BOptische Elemente, Systeme oder Geräte
5Optische Elemente außer Linsen
08Spiegel
G03F 7/20 2006.1
GSektion G Physik
03Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
FFotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken ; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20Belichten; Vorrichtungen dafür
CPC
G02B 5/0816
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
08Mirrors
0816Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
G02B 5/0891
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
08Mirrors
0891Ultraviolet [UV] mirrors
G03F 7/70
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
Anmelder
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE]
Erfinder
  • SHKLOVER, Vitaliy
Vertreter
  • KOHLER SCHMID MÖBUS PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFTSGESELLSCHAFT MBB
Prioritätsdaten
10 2020 213 639.429.10.2020DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (de)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) OPTISCHES ELEMENT, INSBESONDERE ZUR REFLEXION VON EUV-STRAHLUNG, OPTISCHE ANORDNUNG UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES OPTISCHEN ELEMENTS
(EN) OPTICAL ELEMENT, IN PARTICULAR FOR REFLECTING EUV RADIATION, OPTICAL ARRANGEMENT, AND METHOD FOR MANUFACTURING AN OPTICAL ELEMENT
(FR) ÉLÉMENT OPTIQUE, EN PARTICULIER POUR LA RÉFLEXION D'UN RAYONNEMENT ULTRAVIOLET EXTRÊME, ENSEMBLE OPTIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ÉLÉMENT OPTIQUE
Zusammenfassung
(DE) Die Erfindung betrifft ein reflektierendes optisches Element (17), insbesondere zur Reflexion von EUV-Strahlung (16), umfassend: ein Substrat (25), sowie eine reflektierende Beschichtung (26), die auf das Substrat (25) aufgebracht ist. Bei einem Aspekt der Erfindung ist das Substrat (25) in seinem Volumen (V) mit mindestens einem Edelmetall (27) dotiert. Bei einem weiteren Aspekt der Erfindung ist die reflektierende Beschichtung (26) und/oder eine strukturierte Schicht (28), die zwischen dem Substrat (25) und der reflektierenden Beschichtung (26) angeordnet ist, mit mindestens einem Edelmetall (27) dotiert. Die Erfindung betrifft auch eine optische Anordnung, bevorzugt eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, insbesondere für die EUV-Lithographie, die mindestens ein solches reflektierendes optisches Element (17) aufweist, sowie ein Verfahren zum Herstellen eines solchen reflektierenden optischen Elements (17).
(EN) The invention relates to a reflective optical element (17), in particular for reflecting EUV radiation (16), comprising: a substrate (25) and a reflective coating (26) that is applied to the substrate (25). In one aspect of the invention, the volume (V) of the substrate (25) is doped with at least one noble metal (27). In a further aspect of the invention, the reflective coating (26) and/or a structured layer (28), which is situated between the substrate (25) and the reflective coating (26), is doped with at least one noble metal (27). The invention also relates to an optical arrangement, preferably a projection exposure system for microlithography, in particular for EUV lithography, which arrangement comprises at least one such reflective optical element (17), and to a method for manufacturing such a reflective optical element (17).
(FR) L'invention concerne un élément optique réfléchissant (17), en particulier pour la réflexion d'un rayonnement ultraviolet extrême (16), comprenant : un substrat (25) ainsi qu'un revêtement réfléchissant (26) qui est appliqué sur le substrat (25). Selon un aspect de l'invention, le volume (V) du substrat (25) est dopé avec au moins un métal noble (27). Selon un autre aspect de l'invention, le revêtement réfléchissant (26) et/ou une couche structurée (28), qui se trouve entre le substrat (25) et le revêtement réfléchissant (26), sont dopés avec au moins un métal noble (27). L'invention concerne également un ensemble optique, de préférence une installation de lithographie par projection pour la microlithographie, en particulier pour la lithographie EUV, qui comprend au moins un tel élément optique réfléchissant (17), ainsi qu’un procédé de fabrication d'un tel élément optique réfléchissant (17).
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