(DE) Die Erfindung betrifft ein reflektierendes optisches Element (17), insbesondere zur Reflexion von EUV-Strahlung (16), umfassend: ein Substrat (25), sowie eine reflektierende Beschichtung (26), die auf das Substrat (25) aufgebracht ist. Bei einem Aspekt der Erfindung ist das Substrat (25) in seinem Volumen (V) mit mindestens einem Edelmetall (27) dotiert. Bei einem weiteren Aspekt der Erfindung ist die reflektierende Beschichtung (26) und/oder eine strukturierte Schicht (28), die zwischen dem Substrat (25) und der reflektierenden Beschichtung (26) angeordnet ist, mit mindestens einem Edelmetall (27) dotiert. Die Erfindung betrifft auch eine optische Anordnung, bevorzugt eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, insbesondere für die EUV-Lithographie, die mindestens ein solches reflektierendes optisches Element (17) aufweist, sowie ein Verfahren zum Herstellen eines solchen reflektierenden optischen Elements (17).
(EN) The invention relates to a reflective optical element (17), in particular for reflecting EUV radiation (16), comprising: a substrate (25) and a reflective coating (26) that is applied to the substrate (25). In one aspect of the invention, the volume (V) of the substrate (25) is doped with at least one noble metal (27). In a further aspect of the invention, the reflective coating (26) and/or a structured layer (28), which is situated between the substrate (25) and the reflective coating (26), is doped with at least one noble metal (27). The invention also relates to an optical arrangement, preferably a projection exposure system for microlithography, in particular for EUV lithography, which arrangement comprises at least one such reflective optical element (17), and to a method for manufacturing such a reflective optical element (17).
(FR) L'invention concerne un élément optique réfléchissant (17), en particulier pour la réflexion d'un rayonnement ultraviolet extrême (16), comprenant : un substrat (25) ainsi qu'un revêtement réfléchissant (26) qui est appliqué sur le substrat (25). Selon un aspect de l'invention, le volume (V) du substrat (25) est dopé avec au moins un métal noble (27). Selon un autre aspect de l'invention, le revêtement réfléchissant (26) et/ou une couche structurée (28), qui se trouve entre le substrat (25) et le revêtement réfléchissant (26), sont dopés avec au moins un métal noble (27). L'invention concerne également un ensemble optique, de préférence une installation de lithographie par projection pour la microlithographie, en particulier pour la lithographie EUV, qui comprend au moins un tel élément optique réfléchissant (17), ainsi qu’un procédé de fabrication d'un tel élément optique réfléchissant (17).
