In Bearbeitung

Bitte warten ...

Einstellungen

Einstellungen

Gehe zu Anmeldung

1. WO2022058106 - OPTISCHES SYSTEM UND LITHOGRAPHIEANLAGE

Veröffentlichungsnummer WO/2022/058106
Veröffentlichungsdatum 24.03.2022
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2021/072693
Internationales Anmeldedatum 16.08.2021
IPC
G03F 7/20 2006.1
GSektion G Physik
03Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
FFotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken ; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20Belichten; Vorrichtungen dafür
G02B 7/00 2021.1
GSektion G Physik
02Optik
BOptische Elemente, Systeme oder Geräte
7Halterungen, Fassungen, Justiereinrichtungen oder lichtdichte Verbindungen für optische Elemente
G01B 11/02 2006.1
GSektion G Physik
01Messen; Prüfen
BMessen der Länge, der Dicke oder ähnlicher linearer Abmessungen; Messen von Winkeln; Messen von Flächen; Messen von Unregelmäßigkeiten an Oberflächen oder Umrissen
11Messanordnungen gekennzeichnet durch die Verwendung optischer Messmittel
02zum Messen der Länge, Breite oder Dicke
CPC
G02B 7/00
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
7Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
G03F 7/70258
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70258Projection system adjustment, alignment during assembly of projection system
G03F 7/70825
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals, windows for passing light in- and out of apparatus
70825Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
G03F 7/7085
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
7085Detection arrangement, e.g. detectors of apparatus alignment possibly mounted on wafers, exposure dose, photo-cleaning flux, stray light, thermal load
Anmelder
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE]
Erfinder
  • SCHAFFER, Dirk
  • SCHERM, Wolfgang
Vertreter
  • HORN KLEIMANN WAITZHOFER PATENTANWÄLTE PARTG MBB
Prioritätsdaten
10 2020 211 691.117.09.2020DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (de)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) OPTISCHES SYSTEM UND LITHOGRAPHIEANLAGE
(EN) OPTICAL SYSTEM AND LITHOGRAPHY APPARATUS
(FR) SYSTÈME OPTIQUE ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Zusammenfassung
(DE) Ein optisches System (200) für eine Lithographieanlage (100A, 100B), umfassend: ein bewegbares Element (201), welches als optisches Element oder als Referenzstruktur ausgebildet ist; und ein Funktionselement (202) mit einem ersten und einem zweiten Abschnitt (202a, 202b), wobei der erste Abschnitt (202a) mit einem Fügemittel entlang einer Befestigungsebene (204) an dem bewegbaren Element (201) befestigt ist und der zweite Abschnitt (202b) eine Funktionsfläche (203) umfasst; wobei das Funktionselement (202) eine Entkopplungseinrichtung (207) zur Deformationsentkopplung des ersten Abschnitts (202a) von dem zweiten Abschnitt (202b) aufweist, wobei die Entkopplungseinrichtung (207) durch eine Einschnürung (205) des Funktionselements (202) gebildet ist; die Einschnürung (205) lateral außerhalb eines Bereichs der Funktionsfläche (203) angeordnet ist; und die Funktionsfläche (203) eine Messfläche ist, die geeignet ist, zur Positionierung und/oder Orientierung des bewegbaren Elements (201) erfasst zu werden.
(EN) The invention relates to an optical system (200) for lithography apparatus (100A, 100B), comprising: a movable element (201), which is designed as an optical element or as a reference structure; and a functional element (202) having a first and a second portion (202a, 202b), wherein the first portion (202a) is fastened to the movable element (201) by a joining means along a fastening plane (204) and the second portion (202b) comprises a functional surface (203); wherein the functional element (202) comprises a decoupling device (207) for decoupling by deformation the first portion (202a) from the second portion (202b), wherein the decoupling device (207) is formed by a narrowing (205) of the functional element (202); the narrowing (205) is located laterally outside a region of the functional surface (203); and the functional surface (203) is a measurement surface which is suitable for acquisition for the purposes of positioning and/or orientating the movable element (201).
(FR) L'invention concerne un système optique (200) pour appareil lithographique (100A, 100B), comprenant : un élément mobile (201) qui est conçu sous la forme d'un élément optique ou d'une structure de référence ; et un élément fonctionnel (202) ayant une première et une seconde parties (202a, 202b), la première partie (202a) étant fixée à l'élément mobile (201) par un moyen d'assemblage le long d'un plan de fixation (204) et la seconde partie (202b) comprenant une surface fonctionnelle (203) ; l'élément fonctionnel (202) comprenant un dispositif de découplage (207) servant à découpler la première partie (202a) de la seconde partie (202b) par déformation, le dispositif de découplage (207) étant formé par le rétrécissement (205) de l'élément fonctionnel (202) ; le rétrécissement (205) est situé de façon latérale à l'extérieur d'une région de la surface fonctionnelle (203) ; et la surface fonctionnelle (203) est une surface de mesure qui est appropriée pour effectuer une acquisition à des fins de positionnement et/ou d'orientation de l'élément mobile (201).
Verwandte Patentdokumente
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten