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1. WO2022043004 - OPTISCHE BAUGRUPPE, VERFAHREN ZUR ANSTEUERUNG EINER OPTISCHEN BAUGRUPPE UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE

Veröffentlichungsnummer WO/2022/043004
Veröffentlichungsdatum 03.03.2022
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2021/071538
Internationales Anmeldedatum 02.08.2021
IPC
G03F 7/20 2006.1
GSektion G Physik
03Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
FFotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken ; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20Belichten; Vorrichtungen dafür
G02B 26/06 2006.1
GSektion G Physik
02Optik
BOptische Elemente, Systeme oder Geräte
26Optische Vorrichtungen oder Anordnungen mit beweglichen oder verformbaren optischen Elementen zum Steuern der Intensität, Farbe, Phase, Polarisation oder Richtung von Licht, z.B. Schalten, Austasten oder Modulieren
06zum Steuern der Phase von Licht
CPC
G02B 26/0825
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
26Optical devices or arrangements using movable or deformable optical elements for controlling the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light, e.g. switching, gating, modulating
08for controlling the direction of light
0816by means of one or more reflecting elements
0825the reflecting element being a flexible sheet or membrane, e.g. for varying the focus
G03F 7/70258
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70258Projection system adjustment, alignment during assembly of projection system
G03F 7/70266
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70258Projection system adjustment, alignment during assembly of projection system
70266Adaptive optics, e.g. deformable optical elements for wavefront control
Anmelder
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE]
Erfinder
  • RAAB, Markus
  • RABA, Andreas
  • LIPPERT, Johannes
  • MANGER, Matthias
Vertreter
  • RAUNECKER, Klaus, P.
Prioritätsdaten
10 2020 210 773.426.08.2020DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (de)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) OPTISCHE BAUGRUPPE, VERFAHREN ZUR ANSTEUERUNG EINER OPTISCHEN BAUGRUPPE UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
(EN) OPTICAL MODULE, METHOD FOR CONTROLLING AN OPTICAL MODULE, AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM
(FR) MODULE OPTIQUE, PROCÉDÉ DE COMMANDE D’UN MODULE OPTIQUE ET INSTALLATION DE LITHOGRAPHIE PAR PROJECTION
Zusammenfassung
(DE) Die Erfindung betrifft eine optische Baugruppe (20) für die Halbleiterlithographie mit einem optischen Element (21) und einem Aktuator (26.4) zur Deformation des optischen Elementes (21), wobei der Aktuator (26.4) abschnittsweise aus mindestens drei Abschnitten (27) aufgebaut ist. Dabei ist mindestens eine erste (31) und eine zweite (32) Gruppe von jeweils mittels einer Ansteuerung ansteuerbaren Abschnitten (27) vorhanden, wobei die erste Gruppe (31) zu einer Grobaktuierung und die zweite Gruppe (32) zu einer Feinaktuierung dient. Die Ansteuerung (29) ist dazu eingerichtet, die Gruppen (31,32) unabhängig voneinander und die Abschnitte (27) einer Gruppe (31,32) gemeinsam anzusteuern. Weiterhin ist die Ansteuerung dazu eingerichtet, die Anzahl der pro Gruppe (31,32) gemeinsam angesteuerten Abschnitte (27) variabel einzustellen. Ferner betrifft die Erfindung eine mit der erfindungsgemäßen Baugruppe (20) ausgestattete Projektionsbelichtungsanlage (1,101) sowie ein Verfahren zur Ansteuerung der optischen Baugruppe (20).
(EN) The invention relates to an optical assembly (20) for semiconductor lithography, comprising an optical element (21) and an actuator (26.4) for deforming the optical element (21), wherein the actuator (26.4) is constructed in some sections from at least three portions (27). The at least one first group (31) and one second group (32) are provided by portions (27) each controllable by means of a controller, the first group (31) being used for rough actuation and the second group (32) being used for fine actuation. The controller (29) is designed to control the groups (31, 32) independently of one another and to control the portions (27) of a group (31, 32) jointly. The controller is also designed to variably set the number of portions (27) jointly controlled per group (31, 32). The invention also relates to a projection exposure system (1, 101) equipped with the module (20) according to the invention and to a method for controlling the optical module (20).
(FR) L’invention concerne un module optique (20) destiné à la lithographie de l’industrie des semi-conducteurs, comprenant un élément optique (21) et un actionneur (26.4) pour la déformation de l’élément optique (21), ledit actionneur (26.4) étant constitué, dans certaines zones, d'au moins trois parties (27). Il y a au moins un premier (31) et un deuxième groupe (32) composés respectivement de parties (27) pouvant être commandées au moyen d'un dispositif de commande, le premier groupe (31) servant à une activation approximative et le deuxième groupe (32) servant une activation précise. Le dispositif de commande (29) est conçu pour commander les groupes (31, 32) indépendamment l’un de l’autre et commander les parties (27) d’un groupe (31, 32) conjointement. Le dispositif de commande est également conçu pour régler de manière variable le nombre de parties (27) commandée conjointement par groupe (31, 32). L'invention concerne en outre une installation de lithographie par projection (1, 101) équipée du module (20) selon l’invention ainsi qu'un procédé de commande dudit module optique (20).
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