In Bearbeitung

Bitte warten ...

PATENTSCOPE ist einige Stunden aus Wartungsgründen am Dienstag 25.01.2022 um 12:00 PM MEZ nicht verfügbar
Einstellungen

Einstellungen

Gehe zu Anmeldung

1. WO2022002848 - TRANSPORTRING FÜR EINEN CVD-REAKTOR

Veröffentlichungsnummer WO/2022/002848
Veröffentlichungsdatum 06.01.2022
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2021/067689
Internationales Anmeldedatum 28.06.2021
IPC
C23C 16/458 2006.1
CSektion C Chemie; Hüttenwesen
23Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
CBeschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
16Chemisches Beschichten durch Zersetzen gasförmiger Verbindungen ohne Verbleiben von Reaktionsprodukten des Oberflächenmaterials im Überzug, d.h. Verfahren zur chemischen Abscheidung aus der Dampfphase
44gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
458gekennzeichnet durch die Art der Substrat-Halterung im Reaktionsraum
H01L 21/677 2006.1
HSektion H Elektrotechnik
01Grundlegende elektrische Bauteile
LHalbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
21Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von Halbleiterbauelementen oder Festkörperbauelementen oder Teilen davon
67Vorrichtungen, besonders ausgebildet zur Handhabung von Halbleiterbauelementen oder elektrischen Festkörperbauelementen während ihrer Herstellung oder Behandlung; Vorrichtungen, besonders ausgebildet zur Handhabung von Wafern während der Herstellung oder Behandlung von Halbleiterbauelementen, elektrischen Festkörperbauelementen oder einzelnen Schaltungselementen
677zum Transportieren oder Fördern, z.B. zwischen verschiedenen Bearbeitungsstationen
C23C 14/50 2006.1
CSektion C Chemie; Hüttenwesen
23Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
CBeschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
22gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
50Substrathalter
C23C 16/46 2006.1
CSektion C Chemie; Hüttenwesen
23Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
CBeschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
16Chemisches Beschichten durch Zersetzen gasförmiger Verbindungen ohne Verbleiben von Reaktionsprodukten des Oberflächenmaterials im Überzug, d.h. Verfahren zur chemischen Abscheidung aus der Dampfphase
44gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
46gekennzeichnet durch das Verfahren zum Erhitzen des Substrats
H01L 21/687 2006.1
HSektion H Elektrotechnik
01Grundlegende elektrische Bauteile
LHalbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
21Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von Halbleiterbauelementen oder Festkörperbauelementen oder Teilen davon
67Vorrichtungen, besonders ausgebildet zur Handhabung von Halbleiterbauelementen oder elektrischen Festkörperbauelementen während ihrer Herstellung oder Behandlung; Vorrichtungen, besonders ausgebildet zur Handhabung von Wafern während der Herstellung oder Behandlung von Halbleiterbauelementen, elektrischen Festkörperbauelementen oder einzelnen Schaltungselementen
683zum Aufnehmen oder Greifen
687mit mechanischen Mitteln, z.B. Haltevorrichtungen, Klemmvorrichtungen oder Pressvorrichtungen
Anmelder
  • AIXTRON SE [DE]/[DE]
Erfinder
  • RUDA Y WITT, Francisco
  • KOLLBERG, Marcel
  • QUARTIER, Georg
  • RAUF, Hendrik
  • CREMER, Stefan
Vertreter
  • GRUNDMANN, Dirk
  • MÜLLER, Enno
  • BRÖTZ, Helmut
  • BOURREE, Hendrik
Prioritätsdaten
10 2020 117 645.703.07.2020DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (de)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) TRANSPORTRING FÜR EINEN CVD-REAKTOR
(EN) TRANSPORT RING FOR A CVD REACTOR
(FR) BAGUE DE TRANSPORT CONÇUE POUR UN RÉACTEUR CVD
Zusammenfassung
(DE) Die Erfindung betrifft einen Transportring zum Transportieren eines Substrates (21), aufweisend einen sich um eine Achse (A) erstreckenden ringförmigen Körper (1) mit einem ringförmigen Unterteil (2), wobei das Unterteil (2) einen Außenabschnitt (6) und radial innerhalb des Außenabschnitts (6) eine Auflagefläche (5) zur Auflage eines Randes des Substrates (21) aufweist, wobei der Außenabschnitt (6) mit Distanzmitteln (7, 7') ein ringförmiges Oberteil (3) trägt, das gegenüber einem radial äußeren Bereich des Außenabschnittes (6) in einer Richtung parallel zur Achse (A) um einen Abstand (D) beabstandet ist. Erfindungsgemäß werden die Distanzmittel (7, 7') von in Umfangsrichtung um die Achse (A) voneinander beanstandeten Einzelstegen gebildet, zwischen denen sich ein beidseitig offener Spalt ausbildet. Die Fertigung der Einzelstege erfolgt beispielsweise durch Drahterosion.
(EN) The invention relates to a transport ring for transporting a substrate (21), having an annular body (1) extending around an axis (A), with an annular lower part (2), the lower part (2) having an outer portion (6) and, radially inside the outer portion (6), a support surface (5) for supporting an edge of the substrate (21), the outer portion (6) carrying, with spacers (7, 7'), an annular upper part (3) which is distanced from a radially outer region of the outer portion (6) in a direction parallel to the axis (A) by a distance (D). According to the invention, the spacers (7, 7') are formed by individual ribs distanced from one another about the axis (A) in the circumferential direction, between which there is formed a gap which is open on both sides. The individual ribs are produced, for example, by wire erosion.
(FR) L’invention concerne une bague de transport conçue pour transporter un substrat (21) comprenant un corps (21) annulaire s’étendant autour d’un axe (A), qui comporte une partie inférieure (2) annulaire, cette partie inférieure (2) comportant zone externe (6) et, radialement à l’intérieur de cette zone externe (6), une surface d’appui (5) servant à supporter un bord du substrat (21), ladite zone externe (6) portant, à l’aide de moyens d’espacement (7, 7'), une partie supérieure (3) annulaire qui est espacée d’une distance (D) par rapport à une zone radialement à l’extérieur de la zone externe (6) dans une direction parallèle à l’axe (A). Selon l’invention, les moyens d’espacement (7, 7') sont formés par des éléments de liaison individuels espacés les uns des autres autour de l’axe (A) dans la direction circonférentielle, entre lesquels un interstice ouvert est formé de part et d’autre. La production des éléments de liaison individuels intervient par exemple par électroérosion à fil.
Related patent documents
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten