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1. WO2021043484 - SPIEGELANORDNUNG UND OPTISCHE ANORDNUNG DAMIT

Veröffentlichungsnummer WO/2021/043484
Veröffentlichungsdatum 11.03.2021
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2020/069905
Internationales Anmeldedatum 14.07.2020
IPC
G03F 7/20 2006.01
GSektion G Physik
03Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
FFotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken ; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20Belichten; Vorrichtungen dafür
G02B 26/06 2006.01
GSektion G Physik
02Optik
BOptische Elemente, Systeme oder Geräte
26Optische Vorrichtungen oder Anordnungen mit beweglichen oder verformbaren optischen Elementen zum Steuern der Intensität, Farbe, Phase, Polarisation oder Richtung von Licht, z.B. Schalten, Austasten oder Modulieren
06zum Steuern der Phase von Licht
CPC
G02B 26/06
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
26Optical devices or arrangements using movable or deformable optical elements for controlling the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light, e.g. switching, gating, modulating
06for controlling the phase of light
G03F 7/70233
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70233Optical aspects of catoptric systems
G03F 7/70266
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70258Projection system adjustment, alignment during assembly of projection system
70266Adaptive optics, e.g. deformable optical elements for wavefront control
G03F 7/70883
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
70883of optical system
Anmelder
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE]
Erfinder
  • PAZIDIS, Alexandra
  • HILD, Kerstin
  • POLLAK, Thilo
Vertreter
  • KOHLER SCHMID MÖBUS PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFTSGESELLSCHAFT MBB
Prioritätsdaten
10 2019 213 345.203.09.2019DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) SPIEGELANORDNUNG UND OPTISCHE ANORDNUNG DAMIT
(EN) MIRROR ASSEMBLY AND OPTICAL ASSEMBLY COMPRISING SAME
(FR) ENSEMBLE MIROIR ET ENSEMBLE OPTIQUE LE COMPRENANT
Zusammenfassung
(DE)
Die Erfindung betrifft eine Spiegelanordnung (30), umfassend: ein Substrat (31), welches eine Vorderseite (31a) mit einer Spiegelfläche (32a) zur Reflexion von Strahlung (5) sowie eine der Vorderseite (31a) abgewandte Rückseite (31b) aufweist, an der mindestens ein Aktuator (27) zur Erzeugung von Deformationen der Spiegelfläche (32a) angeordnet ist, wobei ein Wasserdampf (36) aufnehmendes, insbesondere organisches Material (33, 42) an der Rückseite (31b) des Substrats (31) gebildet ist, und wobei das Wasserdampf (36) aufnehmende Material bevorzugt eine Kleberschicht (33) zur Befestigung des mindestens einen Aktuators (27) an der Rückseite (31b) des Substrats (31) bildet, die sich insbesondere in Zwischenräume (35) zwischen den Aktuatoren (27) erstreckt. Eine Oberfläche (33a, 42a) des Wasserdampf (36) aufnehmenden Materials (33, 42), insbesondere eine Oberfläche (33a) der Kleberschicht (33), ist zumindest teilweise, insbesondere vollständig von einer Beschichtung (37) überdeckt, die eine Wasserdampf-Diffusionsbarriere bildet. Die Erfindung betrifft auch eine optische Anordnung, insbesondere eine EUV- Lithographievorrichtung oder eine DUV-Lithographievorrichtung, die mindestens eine solche Spiegelanordnung (30) umfasst.
(EN)
The invention relates to a mirror assembly (30), comprising: a substrate (31), which has a front side (31a) with a reflective face (32a) for reflecting radiation (5) and a rear side (31b) which faces away from the front side (31a) and on which there is at least one actuator (27) for producing deformations of the reflective face (32a), wherein a material (33, 42) which absorbs water vapour (36), in particular an organic material, is formed on the rear side (31b) of the substrate (31), and wherein the material which absorbs water vapour (36) preferably forms an adhesive layer (33) for fastening the at least one actuator (27) to the rear side (31b) of the substrate (31), said adhesive layer extending in particular into interstices (35) between the actuators (27). A surface (33a, 42a) of the material (33, 42) which absorbs water vapour (36), in particular a surface (33a) of the adhesive layer (33), is covered at least partially, in particular fully, by a coating (37) which forms a water-vapour-diffusion barrier. The invention also relates to an optical assembly, in particular an EUV lithography device or a DUV lithography device, which comprises at least one such mirror assembly (30).
(FR)
L'invention concerne un ensemble miroir (30), comprenant : un substrat (31) qui présente un côté avant (31a) doté d'une face réfléchissante (32a) servant à réfléchir le rayonnement (5) et un côté arrière (31b) opposé à la face avant (31a) et sur lequel se trouve au moins un actionneur (27) servant à produire des déformations de la face réfléchissante (32a), un matériau (33, 42) qui absorbe la vapeur d'eau (36), en particulier un matériau organique, étant formé sur le côté arrière (31b) du substrat (31), et le matériau absorbant la vapeur d'eau (36) formant de préférence une couche adhésive (33) servant à fixer le ou les actionneurs (27) sur le côté arrière (31b) du substrat (31), ladite couche adhésive s'étendant notamment dans des interstices (35) entre les actionneurs (27). Une surface (33a, 42a) du matériau (33, 42) qui absorbe la vapeur d'eau (36), en particulier une surface (33a) de la couche adhésive (33), est recouverte au moins partiellement, en particulier complètement, d'un revêtement (37) qui forme une barrière contre la diffusion de vapeur d'eau. L'invention concerne également un ensemble optique, en particulier un dispositif de lithographie EUV ou un dispositif de lithographie DUV, qui comprend au moins un tel ensemble miroir (30).
Auch veröffentlicht als
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