(EN) An imaging optical unit (7) for a projection exposure apparatus is used to image an object field (4) into an image field (8). The projection exposure apparatus is embodied in such a way that a rectangular structuring field on an object to be imaged, which carries structures to be imaged, is imaged in the entirety thereof into an imaging field by displacement of the structuring field relative to the object field, said imaging field being displaced relative to the image field in a manner synchronized with the object displacement. The structuring field lies within a larger object specification field. The latter is defined by an object carrying the structures to be imaged and delimited by a rectangular specification field basic shape and convexly curved specification field corner regions. The object field (4) is spanned by two perpendicular field directions (x, y). The imaging optical unit (7) has a first reduction scale in the first field direction (x), which is given by a ratio of the extent in the first field direction (x) of, firstly, the structuring field and, secondly, the imaging field. The imaging optical unit (7) has a second reduction scale in the second field direction (y), which is given by a ratio of the extent in the second field direction (y) of, firstly, the structuring field and, secondly, the imaging field. The reduction scales and are chosen in such a way that an area of the structuring field is no more than 10% smaller than the area of the largest, rectangular Pareto structuring field which can be fitted into the object specification field. This results in an imaging optical unit with a well-corrected imageable field with, at the same time, a high imaging light throughput.
(FR) Unité optique d'imagerie (7) pour un appareil d'exposition par projection utilisée pour imager un champ d'objet (4) dans un champ d'image (8). L'appareil d'exposition par projection est conçu de telle sorte qu'un champ de structuration rectangulaire sur un objet à imager, qui porte des structures à imager, est imagé dans son ensemble dans un champ d'imagerie par déplacement du champ de structuration par rapport au champ d'objet, ledit champ d'imagerie étant déplacé par rapport au champ d'image d'une manière synchronisée avec le déplacement d'objet. Le champ de structuration se situe dans un champ de spécification d'objet plus grand. Ce dernier est défini par un objet portant les structures à imager et délimité par une forme de base de champ de spécification rectangulaire et des régions de coin de champ de spécification incurvées de manière convexe. Le champ objet (4) est défini par deux directions de champ perpendiculaires (x, y). L'unité optique d'imagerie (7) a une première échelle de réduction dans la première direction de champ (x) qui est donnée par un rapport de l'étendue dans la première direction de champ (x), d'une part, du champ de structuration et, d'autre part, du champ d'imagerie. L'unité optique d'imagerie (7) a une seconde échelle de réduction dans la seconde direction de champ (y), qui est donnée par un rapport de l'étendue dans la seconde direction de champ (y), d'une part, du champ de structuration et, d'autre part, du champ d'imagerie. Les échelles de réduction sont choisies de telle sorte qu'une zone du champ de structuration n'est pas inférieure à plus de 10 % de la surface du champ de structuration de Pareto rectangulaire le plus grand qui peut être ajusté dans le champ de spécification d'objet. Il en résulte une unité optique d'imagerie ayant un champ d'imagerie bien corrigé avec, en même temps, un haut débit de lumière d'imagerie.
