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1. WO2020201184 - VERFAHREN ZUR ÜBERWACHUNG EINES PLASMAGESTÜTZTEN PROZESSES ZUR BESCHICHTUNG EINES BAUTEILS UND VORRICHTUNG ZUR BESCHICHTUNG EINES BAUTEILS

Veröffentlichungsnummer WO/2020/201184
Veröffentlichungsdatum 08.10.2020
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2020/058899
Internationales Anmeldedatum 30.03.2020
IPC
C23C 14/54 2006.01
CChemie; Hüttenwesen
23Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
CBeschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
22gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
54Steuern oder Regeln des Beschichtungsvorganges
C23C 16/52 2006.01
CChemie; Hüttenwesen
23Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
CBeschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
16Chemisches Beschichten durch Zersetzen gasförmiger Verbindungen ohne Verbleiben von Reaktionsprodukten des Oberflächenmaterials im Überzug, d.h. Verfahren zur chemischen Abscheidung aus der Dampfphase
44gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
52Steuern oder Regeln des Beschichtungsvorgangs
C23C 16/50 2006.01
CChemie; Hüttenwesen
23Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
CBeschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
16Chemisches Beschichten durch Zersetzen gasförmiger Verbindungen ohne Verbleiben von Reaktionsprodukten des Oberflächenmaterials im Überzug, d.h. Verfahren zur chemischen Abscheidung aus der Dampfphase
44gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
50unter Anwendung elektrischer Entladungen
CPC
C23C 14/545
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
54Controlling or regulating the coating process
542Controlling the film thickness or evaporation rate
545using measurement on deposited material
C23C 16/50
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
44characterised by the method of coating
50using electric discharges
C23C 16/52
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
44characterised by the method of coating
52Controlling or regulating the coating process
Anmelder
  • ROBERT BOSCH GMBH [DE]/[DE]
Erfinder
  • HOFMANN, Patrick
  • MUELLER, Matthias
Prioritätsdaten
10 2019 204 818.804.04.2019DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) VERFAHREN ZUR ÜBERWACHUNG EINES PLASMAGESTÜTZTEN PROZESSES ZUR BESCHICHTUNG EINES BAUTEILS UND VORRICHTUNG ZUR BESCHICHTUNG EINES BAUTEILS
(EN) METHOD FOR MONITORING A PLASMA-ASSISTED PROCESS FOR COATING A COMPONENT, AND DEVICE FOR COATING A COMPONENT
(FR) PROCÉDÉ DE SURVEILLANCE D'UNE OPÉRATION ASSISTÉE PAR PLASMA POUR LE REVÊTEMENT D'UN COMPOSANT ET DISPOSITIF POUR LE REVÊTEMENT D'UN COMPOSANT
Zusammenfassung
(DE)
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Überwachung eines plasmagestützten Prozesses zur Beschichtung mindestens eines Bauteils (12), wobei das mindestens eine Bauteil (12) in einen Rezipienten (14) eingebracht wird; ein Plasma (20) in dem Rezipienten (14) erzeugt wird; das mindestens eine Bauteil (12) aus der Gasphase heraus beschichtet wird; zwischen dem mindestens einen Bauteil (12) und dem Rezipienten (14) eine Messspannung (UM) angelegt wird; ein von dem Bauteil (12) abfließender Messstrom (IM) gemessen wird; und ein Zusammenhang zwischen der Messspannung (UM) und dem Messstrom (IM) ausgewertet wird. Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung (10) zur Beschichtung mindestens eines Bauteils (12) mittels eines plasmagestützten Prozesses, umfassend einen Rezipienten (14), in welchem ein Plasma (20) erzeugbar ist, einen innerhalb des Rezipienten (14) angeordneten Bauteilträger (16) zur Aufnahme des mindestens einen Bauteils (12), Mittel zum Anlegen einer Messspannung (UM) zwischen dem mindestens einen Bauteil (12) und dem Rezipienten (14), Mittel zum Messen eines von dem mindestens einen Bauteil (12) abfließenden Messstroms (IM) und Mittel zur Auswertung eines Zusammenhangs zwischen der Messspannung (UM) und dem Messstrom (IM). Dabei ist die Vorrichtung (10) zur Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens eingerichtet.
(EN)
The invention relates to a method for monitoring a plasma-assisted process for coating at least one component (12), wherein the at least one component (12) is introduced into a recipient (14); a plasma (20) is generated in the recipient (14); the at least one component (12) is coated from the gas phase; a measurement voltage (UM) is applied between the at least one component (12) and the recipient (14); a measurement current (IM) flowing from the component (12) is measured; and the relationship between the measurement voltage (UM) and the measurement current (IM) is analyzed. The invention also relates to a device (10) for coating at least one component (12) using a plasma-assisted process, comprising a recipient (14) in which a plasma (20) can be generated, a component support (16) which is arranged within the recipient (14) for receiving the at least one component (12), means for applying a measurement voltage (UM) between the at least one component (12) and the recipient (14), means for measuring a measurement current (IM) flowing from the at least one component (12), and means for analyzing the relationship between the measurement voltage (UM) and the measuring current (IM). The device (10) is designed to carry out the method according to the invention.
(FR)
L'invention concerne un procédé de surveillance d'une opération assistée par plasma pour le revêtement d'au moins un composant (12), le ou les composants (12) étant introduits dans un récipient (14) ; un plasma (20) étant généré dans le récipient (14) ; le ou les composants (12) étant revêtus à partir de la phase gazeuse ; une tension de mesure (UM) étant appliquée entre le ou les composants (12) et le récipient (14) ; un courant de mesure (IM) circulant depuis le composant (12) étant mesuré ; et une relation entre la tension de mesure (UM) et le courant de mesure (IM) étant évaluée. La présente invention concerne aussi un dispositif (10) pour le revêtement d'au moins un composant (12) au moyen d'une opération assistée par plasma, comprenant un récipient (14) dans lequel un plasma (20) peut être généré, un support de composant (16) disposé à l'intérieur du récipient (14) pour la réception du ou des composants (12), des moyens pour appliquer une tension de mesure (UM) entre le ou les composants (12) et le récipient (14), des moyens pour mesurer un courant de mesure (IM) circulant depuis le ou les composants (12) et des moyens pour évaluer une relation entre la tension de mesure (UM) et le courant de mesure (IM). Le dispositif (10) est conçu pour exécuter le procédé selon l'invention.
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten