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1. WO2020193794 - METALLKOMPLEXE FÜR GASPHASEN-DÜNNSCHICHTABSCHEIDUNG

Anmerkung: Text basiert auf automatischer optischer Zeichenerkennung (OCR). Verwenden Sie bitte aus rechtlichen Gründen die PDF-Version.

[ DE ]

PATENTANSPRÜCHE

1. Metallkomplex der Formel (I):

[M(L1)x(L2)y(hydra)z]n Formel (I)

wobei:

M Metallatom mit einer Ordnungszahl ausgewählt aus den

Bereichen a) bis c):

a) 12, 21 bis 34, mit Ausnahme von 30,

b) 39 bis 52, mit Ausnahme von 48,

c) 71 bis 83, mit Ausnahme von 80,

U neutraler oder anionischer Ligand, mit x = 0 oder 1 ,

L2 neutraler oder anionischer Ligand, mit y = 0 oder 1 ,

(hydra) Acetondimethylhydrazon-Monoanion, mit z = 1 , 2 oder 3, n 1 oder 2 ist, und

die Gesamtladung des Komplexes 0 ist.

2. Metallkomplex gemäß mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei M ausgewählt ist aus Ti, Co, Ga, Ge, As, Se, Ru, Pd, In, Sb, Te, Ir, Au und Bi, bevorzugt ausgewählt ist aus Co, Ga, Ge, Ru, In und Ir.

3. Metallkomplex gemäß mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei L1 und L2 unabhängig voneinander aus CI, H, Methyl, Ethyl, Propyl, Isopropyl, tert-Butyl, Cyclopentadienyl, Methylcyclopentadienyl, Isopropylcyclopentadienyl, Aren, Phosphin, Isonitril und Carbonyl ausgewählt sind.

4. Metallkomplex gemäß mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei x = y = 1 ist, wobei optional z = 1 ist.

5. Metallkomplex gemäß Anspruch 1 , wobei

M Ru,

U Aren, mit x = 1 ,

L2 CI, H, Methyl, Ethyl, Propyl, Isopropyl oder tert-Butyl, mit y = 1 ,

Z 1 , und

n 1 ist.

6. Metallkomplex gemäß Anspruch 5, wobei das Aren ein mit 1 bis 6 gleichen oder verschiedenen C Cs Kohlenwasserstoffresten substituiertes Aren oder ein unsubstituiertes Aren ist.

7. Metallkomplex gemäß Anspruch 6, wobei das Aren aus 4-lsopropyltoluol und Benzol ausgewählt ist.

8. Metallkomplex gemäß Anspruch 1 , wobei

M In,

U CI, H, Methyl, Ethyl, Propyl, Isopropyl oder tert-Butyl, mit x = 1 ,

L2 CI, H, Methyl, Ethyl, Propyl, Isopropyl oder tert-Butyl, mit y = 1 ,

z 1 , und

n 2 ist.

9. Metallkomplex gemäß mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei L2 aus Methyl und Ethyl ausgewählt ist.

10. Metallkomplex gemäß Anspruch 1 , ausgewählt aus [RuCI(p-cymol)(hydra)], [RuMe(p- cymol)(hydra)] und [lnMe2(hydra)]2.

1 1. Verfahren zur Herstellung eines Metallkomplexes gemäß mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche umfassend die Schritte:

(i) Umsetzen von Acetondimethylhydrazon mit einer Li-organischen Verbindung zur Herstellung von Li(hydra),

(ii) Umsetzen von Li(hydra) mit einer Verbindung mit der Formel [ML1xi L2yi]ni , mit Xi = 0, 1 oder 2, yi = 0, 1 oder 2, = 1 oder 2, zur Herstellung einer Verbindung mit der Formel [M(L1)x(L2)y(hydra)z]n.

12. Verfahren gemäß Anspruch 11 , wobei L2 entweder H, Methyl, Ethyl, Propyl, Isopropyl oder tert-Butyl ist oder im Anschluss an Schritt (ii) in einem Schritt (iii) in H, Methyl, Ethyl, Propyl, Isopropyl oder tert-Butyl überführt wird.

13. Verwendung eines Metallkomplexes gemäß mindestens einem der Ansprüche 1 bis 10 zur Abscheidung des Metalls in einem CVD-Verfahren oder einem ALD-Verfahren.

14. Verfahren, in dem ein Metallkomplex gemäß mindestens einem der Ansprüche 1 bis 10 als Präkursor zur Herstellung einer Schicht aus dem Metall verwendet wird.

15. Metallisierte Oberfläche, erhältlich durch Abscheiden eines Metalls auf einer

Oberfläche aus einer Gasphase, die einen Metallkomplex gemäß mindestens einem der Ansprüche 1 bis 10 umfasst.