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1. WO2020193794 - METALLKOMPLEXE FÜR GASPHASEN-DÜNNSCHICHTABSCHEIDUNG

Veröffentlichungsnummer WO/2020/193794
Veröffentlichungsdatum 01.10.2020
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2020/058865
Internationales Anmeldedatum 27.03.2020
IPC
C07F 17/02 2006.01
CChemie; Hüttenwesen
07Organische Chemie
FAcyclische, carbocyclische oder heterocyclische Verbindungen, die andere Elemente als Kohlenstoff, Wasserstoff, Halogen, Sauerstoff, Stickstoff, Schwefel, Selen oder Tellur enthalten
17Metallocene
02von Metallen der Gruppen 8, 9 oder 10 des Periodensystems
C07F 5/00 2006.01
CChemie; Hüttenwesen
07Organische Chemie
FAcyclische, carbocyclische oder heterocyclische Verbindungen, die andere Elemente als Kohlenstoff, Wasserstoff, Halogen, Sauerstoff, Stickstoff, Schwefel, Selen oder Tellur enthalten
5Verbindungen, die Elemente der Gruppen 3 oder 13 des Periodensystems enthalten
C23C 16/18 2006.01
CChemie; Hüttenwesen
23Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
CBeschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
16Chemisches Beschichten durch Zersetzen gasförmiger Verbindungen ohne Verbleiben von Reaktionsprodukten des Oberflächenmaterials im Überzug, d.h. Verfahren zur chemischen Abscheidung aus der Dampfphase
06gekennzeichnet durch das Abscheiden metallischer Stoffe
18aus metallorganischen Verbindungen
C23C 16/455 2006.01
CChemie; Hüttenwesen
23Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
CBeschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
16Chemisches Beschichten durch Zersetzen gasförmiger Verbindungen ohne Verbleiben von Reaktionsprodukten des Oberflächenmaterials im Überzug, d.h. Verfahren zur chemischen Abscheidung aus der Dampfphase
44gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
455gekennzeichnet durch das Verfahren zum Einführen von Gasen in den Reaktionsraum oder zum Modifizieren von Gasströmungen im Reaktionsraum
CPC
C07F 17/02
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
17Metallocenes
02of metals of Groups 8, 9 or 10 of the Periodic System
C07F 5/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
5Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic System
C23C 16/18
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
06characterised by the deposition of metallic material
18from metallo-organic compounds
C23C 16/45553
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
44characterised by the method of coating
455characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
45523Pulsed gas flow or change of composition over time
45525Atomic layer deposition [ALD]
45553characterized by the use of precursors specially adapted for ALD
Anmelder
  • UMICORE AG & CO. KG [DE]/[DE]
Erfinder
  • SUNDERMEYER, Joerg
  • SCHUMANN, Henrik
  • SCHORN, Wolf
  • RAU, Nicholas
  • FREY, Annika
  • KARCH, Ralf
  • WOERNER, Eileen
  • DOPPIU, Angelino
Prioritätsdaten
19165935.828.03.2019EP
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) METALLKOMPLEXE FÜR GASPHASEN-DÜNNSCHICHTABSCHEIDUNG
(EN) METAL COMPLEXES FOR GAS-PHASE THIN-FILM DEPOSITION
(FR) COMPLEXES MÉTALLIQUES POUR DÉPÔT DE COUCHE MINCE EN PHASE GAZEUSE
Zusammenfassung
(DE)
Es werden Metallkomplexeder Formel (I) beschrieben: [M(L1)x(L2)y(hydra)z]n Formel (I) wobei: M=Metallatom mit einer Ordnungszahl ausgewählt aus den Bereichen a) bis c): a)12, 21 bis 34, mit Ausnahme von 30, b)39 bis 52, mit Ausnahme von 48, c)71 bis 83, mit Ausnahme von 80, L1 =neutraler oder anionischer Ligand, mit x = 0 oder 1,1 L2 =neutraler oder anionischer Ligand, mit y = 0 oder 1, (hydra) =Acetondimethylhydrazon-Monoanion, mit z = 1, 2 oder 3, n = 1 oder 2 ist, und die Gesamtladung des Komplexes 0 ist.
(EN)
The invention relates to metal complexes of formula (I): [M(L1)x(L2)y(hydra)z]n formula (I) wherein: M = metal atom of an atomic number selected from the ranges a) to c): a) 12, 21 to 34, with the exception of 30, b) 39 to 52, with the exception of 48, c) 71 to 83, with the exception of 80, L1 = neutral or anionic ligand, with x = 0 or 1, L2 = neutral or anionic ligand, with y = 0 or 1, (hydra) = acetone dimethylhydrazone monoanion, with z = 1, 2 or 3, n = 1 or 2, and the total charge of the complex is 0.
(FR)
L’invention concerne des complexes métalliques de formule (I) : [M(L1)x(L2)y(hydra)z]n Formule (I) où : M=atome de métal avec un numéro atomique sélectionné dans les plages a) à c) : a) 12, 21 à 34, à l'exception de 30, b) 39 à 52, à l'exception de 48, c) 71 à 83, à l'exception de 80, L1 = ligand neutre ou anionique, où x = 0 ou 1, L2 = ligand neutre ou anionique, où y = 0 ou 1, (hydra) = monoanion d’acétone diméthylhydrazone, où z = 1, 2 ou 3, n = 1 ou 2, et la charge totale du complexe est 0.
Auch veröffentlicht als
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