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1. WO2020126531 - MAGNETANORDNUNG FÜR EINE PLASMAQUELLE ZUR DURCHFÜHRUNG VON PLASMABEHANDLUNGEN

Veröffentlichungsnummer WO/2020/126531
Veröffentlichungsdatum 25.06.2020
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2019/083898
Internationales Anmeldedatum 05.12.2019
IPC
H01J 37/32 2006.01
HElektrotechnik
01Grundlegende elektrische Bauteile
JElektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
32Gasgefüllte Entladungsröhren
C23C 14/32 2006.01
CChemie; Hüttenwesen
23Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
CBeschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
22gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
24Vakuumbedampfen
32durch Explosion; durch Verdampfen und anschließendes Ionisieren der Dämpfe
H01J 37/34 2006.01
HElektrotechnik
01Grundlegende elektrische Bauteile
JElektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
32Gasgefüllte Entladungsröhren
34mit Kathodenzerstäubung arbeitend
Anmelder
  • OERLIKON SURFACE SOLUTIONS AG, PFÄFFIKON [CH]/[CH]
Erfinder
  • VETTER, Jörg
Vertreter
  • IRSCH, Manfred
  • JALINK, Cornelis, Dr.
Prioritätsdaten
00236/1926.02.2019CH
62/783,38721.12.2018US
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) MAGNETANORDNUNG FÜR EINE PLASMAQUELLE ZUR DURCHFÜHRUNG VON PLASMABEHANDLUNGEN
(EN) MAGNET ARRANGEMENT FOR A PLASMA SOURCE FOR CARRYING OUT PLASMA TREATMENTS
(FR) ENSEMBLE AIMANT CONÇU POUR UNE SOURCE DE PLASMA POUR RÉALISER DES TRAITEMENT AU PLASMA
Zusammenfassung
(DE)
Um die Atztiefe und/oder die Atzhomogenität bei einem Substrat zu verbessern, wird eine Plasmaquelle mit einem oder mehreren einzelnen Elektroden oder ein oder mehreren Magneten vorgeschlagen. Der Magnet erzeugt ein Magnetfeld in der Nähe der Elektroden, welches rückseitig oder vorderseitig sein kann.
(EN)
In order to improve the etching depth and/or etching homogeneity obtained in a substrate, according to the invention a plasma source has one or more individual electrodes or one or more magnets. The magnet produces a magnetic field in the vicinity of the electrodes, said magnetic field being on the back or the front.
(FR)
L’objectif de cette invention est d’améliorer la profondeur d’attaque et/ou l’homogénéité d’attaque sur un substrat. À cet effet, l’invention concerne une source de plasma comprenant une ou plusieurs électrodes individuelles ou un ou plusieurs aimants. L’aimant génère un champ magnétique à proximité des électrodes, celui-ci pouvant se trouver côté arrière ou côté avant.
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten