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1. WO2020126530 - ELEKTRODENANORDNUNG FÜR EINE PLASMAQUELLE ZUR DURCHFÜHRUNG VON PLASMABEHANDLUNGEN

Veröffentlichungsnummer WO/2020/126530
Veröffentlichungsdatum 25.06.2020
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2019/083897
Internationales Anmeldedatum 05.12.2019
IPC
H01J 37/32 2006.01
HElektrotechnik
01Grundlegende elektrische Bauteile
JElektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
32Gasgefüllte Entladungsröhren
H01J 37/34 2006.01
HElektrotechnik
01Grundlegende elektrische Bauteile
JElektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
32Gasgefüllte Entladungsröhren
34mit Kathodenzerstäubung arbeitend
C23C 14/32 2006.01
CChemie; Hüttenwesen
23Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
CBeschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
22gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
24Vakuumbedampfen
32durch Explosion; durch Verdampfen und anschließendes Ionisieren der Dämpfe
Anmelder
  • OERLIKON SURFACE SOLUTIONS AG, PFÄFFIKON [CH]/[CH]
Erfinder
  • VETTER, Jörg
Vertreter
  • IRSCH, Manfred
  • JALINK, Cornelis, Dr.
Prioritätsdaten
00235/1926.02.2019CH
62/783,49821.12.2018US
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) ELEKTRODENANORDNUNG FÜR EINE PLASMAQUELLE ZUR DURCHFÜHRUNG VON PLASMABEHANDLUNGEN
(EN) ELECTRODE ARRANGEMENT FOR A PLASMA SOURCE FOR CARRYING OUT PLASMA TREATMENTS
(FR) AGENCEMENT D’ÉLECTRODES POUR UNE SOURCE DE PLASMA POUR EXÉCUTER DES TRAITEMENTS DE PLASMA
Zusammenfassung
(DE)
Zur Verbesserung der Ätztiefe und / oder der Ätzhomogenität eines Substrats wird eine Plasmaquelle mit einer oder mehreren Verdampfern und zwei oder mehr erfindungsgemässen Elektroden vorgeschlagen. Die Verwendung von mehr als seiner Elektrode erlaubt den Einsatz von veschiedenen Strömen an den Elektroden sowie eine Zeit selektive Anwendung der Ströme, sodass seine verbesserte Kontrolle der Plasmaerzeugung ermöglicht wird.
(EN)
In order to improve the etching depth and/or the etching uniformity of a substrate, a plasma source having one or more evaporators and two or more electrodes according to the invention is proposed. The use of more than one electrode makes it possible to use different currents at the electrodes and time-selective application of the currents, allowing improved control of plasma generation.
(FR)
Pour améliorer la profondeur de gravure et/ou l’homogénéité de gravure d’un substrat, une source de plasma selon la présente invention comprend un ou plusieurs évaporateurs et deux électrodes ou plus conformes à l’invention. L’utilisation de plus d’une électrode permet la mise en œuvre de plusieurs courants au niveau des électrodes ainsi qu’une application sélective dans le temps des courants de sorte à permettre un contrôle amélioré de la génération de plasma.
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten