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1. WO2020115112 - WAFER-INSPEKTIONSSYSTEM MIT WASSERTERMINIERTER OPTIK

Veröffentlichungsnummer WO/2020/115112
Veröffentlichungsdatum 11.06.2020
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2019/083632
Internationales Anmeldedatum 04.12.2019
IPC
G02B 1/14 2015.01
GPhysik
02Optik
BOptische Elemente, Systeme oder Geräte
1Optische Elemente, gekennzeichnet durch das Material, aus dem sie hergestellt sind; optische Beschichtungen für optische Elemente
10Optische Beschichtungen, die durch Aufbringen auf optische Elemente oder durch Oberflächenbehandlung von optischen Elementen hergestellt sind
14Schutzbeschichtungen, z.B. hard coatings
CPC
G02B 1/14
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
1Optical elements characterised by the material of which they are made
10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
14Protective coatings, e.g. hard coatings
Anmelder
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE]
Erfinder
  • PAZIDIS, Alexandra
  • NOAH, Martin
  • LANGE, Felix
  • SCHAPPER, Florian
  • ZAHLTEN, Claus
  • HÄRTLING, Marcel
  • SIDORENKO, Aleksey
  • VARGAS RUIZ, Salomé
Vertreter
  • KOHLER SCHMID MÖBUS PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFTSGESELLSCHAFT MBB
Prioritätsdaten
10 2018 221 190.607.12.2018DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) WAFER-INSPEKTIONSSYSTEM MIT WASSERTERMINIERTER OPTIK
(EN) WAFER INSPECTION SYSTEM HAVING A WATER-TERMINATED OPTICS
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE NANOSTRUCTURES SUR UNE SURFACE ET SYSTÈME D'INSPECTION DE TRANCHES
Zusammenfassung
(DE)
Die Anmeldung betrifft ein Waferinspektionssystem, das mit UV und VUV-Strahlung (11) arbeitet und das einen mit Gas bestückbaren Innenraum (17) aufweist, in dem sich unter anderem ein optisches Element (122) aus MgF2 befindet. Um das optische Element mit einem Adsorbatfilm aus Wasser zu belegen, verfügt der Gaseinlass (18) über eine kontrollierte Wasserzufuhr in den Innenraum des Systems, der die Einstellung von Partialdrücken von 1 ppm Wasser bis über 10 ppm Wasser im Innenraum erlaubt.
(EN)
The application relates to a wafer inspection system working with UV and VUV radiation (11) and comprising an interior chamber (17) which can be fitted with gas and in which is located inter alia an optical element (122) made of MgF2. In order to cover the optical element with an adsorbate film of water, the gas inlet (18) is provided with a controlled water feed into the interior chamber of the system, which allows the setting of partial pressures of 1 ppm water to more than 10 ppm water in the interior space.
(FR)
L'invention concerne un procédé de formation de nanostructures (5) sur une surface dégagée (3) d'un substrat (1) cristallin, en particulier ionique, pour assurer la transmission de rayonnements se situant dans la plage de longueurs d'ondes de l'ordre de l'ultraviolet lointain/de l'ultraviolet du vide, ledit procédé comprenant : disposer d'une surface dégagée (3) du substrat (1), qui n'est pas orientée le long d'un plan réticulaire à énergie de surface minimale, et injecter un apport d'énergie (E) dans la surface dégagée (3) de manière à réarranger la surface dégagée (3) de sorte à former les nanostructures (5), l'apport d'énergie (E ) étant produit par exposition de la surface dégagée (3) à un rayonnement électromagnétique (4). L'invention concerne également un élément optique qui présente une surface (3) sur laquelle sont formées des nanostructures (5), ainsi qu'un système d'inspection de tranches.
Auch veröffentlicht als
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten