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1. WO2020115111 - VERFAHREN ZUM BILDEN VON NANOSTRUKTUREN AN EINER OBERFLÄCHE UND OPTISCHES ELEMENT

Veröffentlichungsnummer WO/2020/115111
Veröffentlichungsdatum 11.06.2020
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2019/083628
Internationales Anmeldedatum 04.12.2019
IPC
G02B 1/113 2015.01
GPhysik
02Optik
BOptische Elemente, Systeme oder Geräte
1Optische Elemente, gekennzeichnet durch das Material, aus dem sie hergestellt sind; optische Beschichtungen für optische Elemente
10Optische Beschichtungen, die durch Aufbringen auf optische Elemente oder durch Oberflächenbehandlung von optischen Elementen hergestellt sind
11Antireflexbeschichtungen
113unter Verwendung von lediglich anorganischen Schichtmaterialien
G02B 1/12 2006.01
GPhysik
02Optik
BOptische Elemente, Systeme oder Geräte
1Optische Elemente, gekennzeichnet durch das Material, aus dem sie hergestellt sind; optische Beschichtungen für optische Elemente
10Optische Beschichtungen, die durch Aufbringen auf optische Elemente oder durch Oberflächenbehandlung von optischen Elementen hergestellt sind
12durch Oberflächenbehandlung, z.B. durch Bestrahlung
CPC
G02B 1/113
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
1Optical elements characterised by the material of which they are made
10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
11Anti-reflection coatings
113using inorganic layer materials only
G02B 1/12
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
1Optical elements characterised by the material of which they are made
10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
12by surface treatment, e.g. by irradiation
Anmelder
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE]
Erfinder
  • SHKLOVER, Vitaliy
  • PAZIDIS, Alexandra
Vertreter
  • KOHLER SCHMID MÖBUS PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFTSGESELLSCHAFT MBB
Prioritätsdaten
10 2018 221 189.207.12.2018DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) VERFAHREN ZUM BILDEN VON NANOSTRUKTUREN AN EINER OBERFLÄCHE UND OPTISCHES ELEMENT
(EN) METHOD FOR FORMING NANOSTRUCTURES ON A SURFACE AND OPTICAL ELEMENT
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE NANOSTRUCTURES SUR UNE SURFACE ET ÉLÉMENT OPTIQUE
Zusammenfassung
(DE)
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bilden von reflexionsmindernden Nanostrukturen (5) an einer polierten Oberfläche (3) eines kristallinen, ionischen Substrats (1) zur Transmission von Strahlung (11) im FUVNUV-Wellenlängenbereich, umfassend: Bereitstellen einer Oberfläche (3, 7), die nicht entlang einer Gitterebene mit minimaler Oberflächenenergie orientiert ist, an dem Substrat (1) oder an einer Oberfläche (7) einer durch ein Beschichtungsverfahren, beispielweise Vakuum bedampfen, auf das Substrat (1) aufgebrachten Schicht (6), sowie Einbringen eines Energieeintrags (E) in die Oberfläche (7) zur Umlagerung der Oberfläche (7) unter Bildung der Nanostrukturen (5), wobei der Energieeintrag (E) durch Bestrahlen der Oberfläche (3, 7) mit elektromagnetischer Strahlung (4) erzeugt wird. Die Erfindung betrifft auch ein optisches Element zur Transmission von Strahlung im FUV/ VUV-Wellenlängenbereich.
(EN)
The invention relates to a method for forming reflection-reducing nanostructures (5) on a polished surface (3) of a crystalline ionic substrate (1) for transmission of radiation (11) in the FUV/VUV wavelength range, comprising: providing a surface (3, 7), which is not oriented along a lattice plane having minimal surface energy, on the substrate (1) or on a surface (7) of a layer (6) which is applied to the substrate (1) by a coating method, such as vacuum evaporation, and introducing an energy input (E) into the surface (7) for rearrangement of the surface (7), forming nanostructures (5), wherein the energy input (E) is generated by irradiating the surface (3, 7) with electromagnetic radiation (4). The invention also relates to an optical element for transmission of radiation in the FUV/VUV wavelength range.
(FR)
L'invention concerne un procédé de formation de nanostructures (5), qui réduisent la réflexion sur une surface (3) de préférence polie d'un substrat (1) cristallin, en particulier ionique, pour assurer la transmission de rayonnements (11) se situant dans la plage de longueurs d'ondes de l'ordre de l'ultraviolet lointain/de l'ultraviolet du vide, ledit procédé comprenant : disposer d'une surface dégagée (3, 7) qui n'est pas orientée le long d'un plan réticulaire à énergie de surface minimale, sur le substrat (1) ou sur une surface (7) d'une couche (6) appliquée par procédé de revêtement, par exemple métallisation sous vide, sur le substrat (1), et injecter un apport d'énergie (E) dans la surface (3) de sorte à réarranger la surface (3) de manière à former les nanostructures (5), l'apport d'énergie (E) étant produit par exposition de la surface (3, 7) à un rayonnement électromagnétique (4). L'invention concerne également un élément optique pour assurer la transmission de rayonnements se situant dans la plage de longueurs d'ondes de l'ordre de l'ultraviolet lointain/de l'ultraviolet du vide.
Auch veröffentlicht als
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