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1. WO2020109361 - GASEINLASSVORRICHTUNG FÜR EINEN CVD-REAKTOR

Anmerkung: Text basiert auf automatischer optischer Zeichenerkennung (OCR). Verwenden Sie bitte aus rechtlichen Gründen die PDF-Version.

[ DE ]

Beschreibung

Gaseinlassvorrichtung für einen CVD-Reaktor

Gebiet der Technik

[0001] Die Erfindung betrifft eine Gaseinlassvorrichtung für einen CVD-Reaktor mit einem an einem Gaszuleitungen aufweisenden Befestigungsab schnitt befestigbaren Gaseinlassorgan mit mehreren übereinander angeordne-ten Gasverteilniveaus, die jeweils eine Gasverteilwand mit Gasaustrittsöffnun gen aufweisen, die mit einer von der Gasverteilwand umgebenen Gasverteil kammer strömungsverbunden ist, wobei in die Gasverteilkammer ein Gasein lasskanal mündet und die Gasverteilkammern der Gasverteilniveaus durch Trennböden voneinander getrennt sind, wobei die Gaseinlasskanäle insbeson-dere in einem säulenförmigen Zentralabschnitt des Gaseinlassorganes ange ordnet sind.

[0002] Die Erfindung betrifft darüber hinaus einen mit einer derartigen Ga seinlassvorrichtung versehenen CVD-Reaktor.

Stand der Technik

[0003] Ein Gaseinlassorgan aus Quarz wird in der DE 10 2008 055 582 Al be-schrieben. Das dort beschriebene Gaseinlassorgan besitzt einen Zentralkörper, der um eine Figurenachse des Gaseinlassorganes angeordnet ist. In dem Zent ralbereich des Gaseinlassorgans erstrecken sich mehrere, konzentrisch zuei nander angeordnete Gaseinlasskanäle, die in sich über eine gesamte Umfangs länge erstreckende Mündungen münden. An die Mündungen der Gaseinlass-kanäle schließen sich ringförmig den zentralen Abschnitt umgebende Gasver teilkammern an, die durch Trennböden in mehrere übereinander angeordnete Gasverteilniveaus getrennt sind. Der radial äußere Rand jeder der Gasverteil kammern ist von einer Gas verteil wand umgeben, die eine Vielzahl von Gas- durchtrittsöffnungen aufweisen, die in Gasaustrittsöffnungen münden, durch die Prozessgase in eine Prozesskammer eines CVD-Reaktors eingespeist wer den können. In jede der mehreren Gasverteilkammern ist ein individuelles Pro zessgas einspeisbar. Die verschiedenen Prozessgase können getrennt voneinan der in voneinander verschiedenen Höhen in eine sich an das Gaseinlassorgan anschließende Prozesskammer strömen. In der Prozesskammer liegen auf ei nem von unten beheizten Suszeptor Substrate auf, die mit einem MOCVD-Verfahren mit III-V-Schichten oder mit IV-Schichten oder mit II-VI-Schichten beschichtet werden können.

[0004] Aus den DE 100 29 110 B4, EP 3 036 061 Bl, DE 20 2017 002 851 Ul und DE 10 2018 202 687 Al sind Verfahren zur Strukturierung von Quarzkörpern vorbekannt. Ein Quarzrohling mit einer polierten Oberfläche wird zunächst mit einem Laserstrahl behandelt. Dabei erzeugt der Laserstrahl ultrakurze Pulse und wird fokussiert. Der Fokus wird in einer schreibenden Bewegung, bei spielsweise zeilenweise, durch das Volumen des Quarzrohlings verfahren. Im Fokus erreicht der Laserstrahl eine über einer Schwellintensität liegende Inten sität, bei der im Quarzmaterial eine Materialumwandlung stattfindet. Das um gewandelte Material lässt sich anschließend mit einem fluiden Ätzmittel, bei spielsweise Kalilauge, entfernen. Aus dem Stand der Technik ist es bekannt, mit diesem Verfahren Flüssigkeitskanäle für Düsenkörper von Sprühköpfen oder Sprühdosen zu fertigen. Es ist ferner bekannt, Hohlraumstrukturen in Kompo nenten für eine Projektionsbelichtungsanlage zu fertigen. Es ist ferner bekannt, mit diesem, als SLE (selective laser-induced etching) bezeichneten Verfahren Mikrokanäle, Formbohrungen und -schnitte in transparenten Bauteilen aus Quarzglas, Borsilikatglas, Saphir und Rubin zu fertigen. Zum Stand der Tech nik gehören weiter die DE 10241964 Al, DE 10247921 Al, DE 102014104218 Al und US 2009/0260569 Al.

Zusammenfassung der Erfindung

[0005] Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Gaseinlassorgan der eingangs beschriebenen Art gebrauchsvorteilhaft weiterzubilden, wobei insbe sondere vorgesehen ist, das Gaseinlassorgan derart auszugestalten, dass es ein facher handhabbar ist und ferner derart auszugestalten, dass es technisch einfa cher fertigbar und montierbar ist. Weiterhin soll ein Verfahren angegeben wer den, mit dem sich bislang nicht fertigbare Gestaltungen von Gaseinlassorganen realisieren lassen.

[0006] Gelöst wird die Aufgabe durch die in den Ansprüchen angegebene Er findung, wobei die Unteransprüche nicht nur vorteilhafte Weiterbildungen der in den jeweils nebengeordneten Ansprüchen angegebenen Erfindung darstel len, sondern auch eigenständige Lösungen der Aufgabe.

[0007] Zunächst und im Wesentlichen wird gemäß einem ersten Aspekt der Erfindung vorgeschlagen, dass mindestens eine der bevorzugt mehreren, über einander angeordneten Gasverteilniveaus eine Strömungsbarriere aufweist. Die Strömungsbarriere kann sich derart durch die Gasverteilkammer erstrecken, dass die Strömungsbarriere die Gasverteilkammer in einen stromaufwärtigen Abschnitt, der an die Mündung des Gaseinlasskanals angrenzt, und einen stromabwärtigen Abschnitt teilt. Der stromabwärtige Abschnitt kann an eine weitere Strömungsbarriere angrenzen. Der stromabwärtige Abschnitt kann aber auch an die Gasverteilwand angrenzen. Die Strömungsbarriere umgibt bevor zugt ringförmig und besonders bevorzugt kreisringförmig einen Zentralab schnitt, der die Mündung des Gaseinlasskanales aufweist. Die Strömungsbarri ere kann aber auch unmittelbar an die Gasverteilwand angrenzen. Die Strö mungsbarriere besitzt Gasdurchtrittskanäle, die in die Gasdurchtrittsbohrungen der Gasverteilwand münden. Die Gasdurchtrittskanäle besitzen eine geringere Querschnittsfläche als die Gasdurchtrittsbohrung. Die Gasdurchtrittskanäle können Gasdurchtrittsbohrungen sein, durch die das Prozessgas von dem stromaufwärtigen Abschnitt der Gasverteilkammer in den stromabwärtigen Abschnitt der Gasverteilkammer strömen kann. Die Strömungsbarriere bildet eine Druckbarriere aus, so dass auf der stromaufwärtigen Seite der Strömungs barriere ein höherer Gasdruck vorhanden ist als auf der stromabwärtigen Seite der Strömungsbarriere. Hierdurch homogenisiert sich der aus der Strömungs barriere austretende Gasfluss über die Gasaustrittsfläche der Strömungsbarrie re. Die Gasdurchtrittsöffnungen sind bevorzugt im Wesentlichen in gleicher Verteilung auf einer Gasaustrittsfläche der Strömungsbarriere angeordnet. Die Gasaustrittsfläche der Strömungsbarriere ist bevorzugt wie die Gasaustrittsflä che der Gasverteilwand eine Umfangsfläche und insbesondere eine Mantelflä che eines Zylinders. Die Öffnungen können einen Durchmesser aufweisen, der kleiner als 0,1 mm, kleiner als 0,2 mm, kleiner als 0,5 mm, kleiner als 1 mm, kleiner als 2 mm oder kleiner als 3 mm ist. Die Gasdurchtrittskanäle der Strö mungsbarriere können aber auch Spalte sein.

[0008] Gemäß einem zweiten Aspekt der Erfindung wird jedes der übereinan der angeordneten Gasverteilniveaus von einem scheibenförmigen Gasverteilab schnitt ausgebildet, wobei der Gasverteilabschnitt bevorzugt von einem Gas verteilkörper/ -abschnitt gebildet wird. Der Gasverteilabschnitt kann kreis scheibenförmig ausgebildet sein. Die Gasverteilwand kann materialeinheitlich oder stoffschlüssig mit dem Trennboden verbunden sein, wobei der Trennbo den eine Kreisscheibenform aufweist. Aus dem Trennboden kann ein zentraler Abschnitt entspringen. Der zentrale Abschnitt ist insbesondere sockelförmig ausgebildet und bildet die Mündung des in die Gasverteilkammer mündenden Gaseinlasskanals. Der Zentralabschnitt kann eine nach oben weisende Breitsei tenfläche aufweisen, die sich insbesondere in einer Ebene erstreckt, wobei sich in dieser Erstreckungsebene auch ein oberer Rand der Gasverteilwand erstre cken kann. Die Gas verteilkörper/ -abschnitte sind insbesondere im Wesentli chen gleich gestaltet. Sie besitzen eine bevorzugt ebene Unterseite. Die Gasver- teilkörper/ -abschnitte können derart übereinandergestapelt werden, dass die Breitseitenfläche des Zentralabschnitts eines unteren Gasverteilkörpers/-abschnitts flächig an einer Unterseite des Trennbodens eines oberen Gasverteil-körpers/-abschnitts anliegt. Dabei ist insbesondere auch vorgesehen, dass eine nach oben weisende Oberseite der Gasverteilwand dichtend an der Unterseite des Trennbodens anliegt, so dass durch Aufeinandersetzen zumindest zweier Gas verteilkörper/ -abschnitte eine Gas verteilkammer nach unten und nach oben hin jeweils von einem Trennboden verschlossen ist. Die Gasverteilkam mern sind bevorzugt lediglich in einer Radialrichtung offen, wobei die Gasver teilkammer in Radialauswärtsrichtung mittels der Gasdurchtrittsöffnungen der Gasverteilwand offen ist und in Radialeinwärtsrichtung durch die Mündung des Gaseinlasskanals. Es ist ferner vorgesehen, dass zumindest einige der Gas verteilkörper/ -abschnitte in ihrem Zentralabschnitt eine Durchlassöffnung aufweisen. Die Durchlassöffnung ist zur oberen Breitseitenfläche und zur Un terseite des Trennbodens hin offen, so dass die Durchlassöffnung eine Mün dung eines Gaskanals eines unteren Gasverteilkörpers/-abschnitts mit einer Durchlassöffnung eines oberen Gasverteilkörpers/-abschnitts verbinden kann. Mehrere übereinander angeordnete Gasdurchlassöffnungen bilden somit einen Gaseinlasskanal.

[0009] Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft die Anordnung einer zentra len Öffnung im Gaseinlassorgan, welche einen Spülkanal oder eine Befesti gungsöffnung für eine Befestigungsschraube sein kann.

[0010] Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft die Befestigung des Gasein lassorganes an einem Befestigungsabschnitt. Der Befestigungsabschnitt kann an einem Deckelteil einer Reaktorwand befestigt sein, wobei das Deckelteil zur Wartung des Reaktors von einem unteren Teil des Reaktorgehäuses getrennt werden kann. Dabei wird das Gaseinlassorgan aus der Prozesskammer heraus- gehoben. Erfindungsgemäß ist das Gaseinlassorgan mit einem eine Befesti gungsöffnung des Gaseinlassorgans durchdringenden Befestigungsmittel am Befestigungsabschnitt befestigt. Es ist insbesondere vorgesehen, dass die Gas verteilniveaus von im Wesentlichen scheibenförmigen Gas verteilkörpern/ -abschnitten ausgebildet sind. Durch die Gas verteilkörper/ -abschnitte erstreckt sich eine Befestigungsöffnung zur Aufnahme des Befestigungselementes, wel ches eine Schraube sein kann. Die Befestigungsöffnung kann eine Zentralöff nung sein, die sich in einem Zentralabschnitt der Gas verteilkörper/ -abschnitte erstreckt. Die Gas verteilkörper/ -abschnitte können stoff schlüssig miteinander verbunden sein. Sie können aber auch materialeinheitlich miteinander verbun den sein. Das gesamte Gaseinlassorgan kann somit mehrteilig sein. Es kann aber auch einstückig gefertigt werden. Das Gaseinlassorgan ist bevorzugt als rotationssymmetrischer Körper ausgebildet und besitzt eine zentrale Befesti gungsöffnung, wobei sich in Umfangsrichtung um die Befestigungsöffnung mehrere Gaseinlasskanäle erstrecken können, die in voneinander verschiedenen Gasverteilniveaus münden. Alternativ zu der zentralen Befestigungsöffnung oder in Kombination mit der zentralen Befestigungsöffnung können aber auch dezentrale, exzentrische Befestigungsöffnungen vorgesehen sein, mit denen das Gaseinlassorgan an einer Befestigungsfläche befestigt werden kann. Die dezent ralen Befestigungsöffnungen können insbesondere an einem Flanschabschnitt angeordnet sein, der radial über die Gasverteilwand hinausragt. Mit diesem Flanschabschnitt kann das Gaseinlassorgan an einem Träger befestigt werden.

[0011] Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung ist vorgesehen, dass die Gaseinlasskanäle, die von einem säulenförmigen Zentralabschnitt des Gasein lassorganes gebildet sind, nicht konzentrisch zueinander verlaufen, sondern jeweils getrennt voneinander in einer Umfangsrichtung um eine Achse, die eine Figurenachse sein kann, angeordnet sind. Die Gaseinlasskanäle liegen erfin dungsgemäß in einer Querschnittsebene durch den Zentralabschnitt nebenei nander. Die Mündungen voneinander verschiedener Gaseinlasskanäle sind in

Umfangsrichtung um den Zentralabschnitt versetzt zueinander angeordnet. Die Mündungen weisen bevorzugt in eine Radialauswärtsrichtung. Es ist bei dieser Ausgestaltung insbesondere vorgesehen, dass der Zentralabschnitt von zumin dest einer Strömungsbarriere umgeben ist, so dass aus den sich auf einer Um fangsfläche erstreckenden Gasdurchtrittsöffnungen der Strömungsbarriere im Wesentlichen ein gleichmäßig in Umfangsrichtung verteilter Gasstrom aus strömen kann, der in einen stromabwärtigen Abschnitt der Gasverteilkammer mündet, aus dem das Prozessgas durch die Durchtrittsöffnung der Gasverteil wand in die Prozesskammer strömen kann.

[0012] Das gemäß vorstehender Beschreibung erfindungsgemäß ausgebildete Gaseinlassorgan kann aus Quarz bestehen. Es kann aber auch aus Metall, insbe sondere Edelstahl, bestehen. Wird das Gaseinlassorgan aus Edelstahl oder ei nem anderen Metall gefertigt, so wird es bevorzugt mehrteilig hergestellt, wo bei die Einzelteile des Gaseinlassorganes formschlüssig, beispielsweise durch eine Gewindeverbindung, oder stoffschlüssig, beispielsweise durch Schweiß nähte, miteinander verbunden sind. Die Gasdurchtrittsöffnungen können durch Bohren erzeugt werden. In einer bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung wird das Gaseinlassorgan jedoch aus Quarz gefertigt. Auch hier ist es möglich, die einzelnen Bestandteile des Gaseinlassorganes, also die Gasverteilwände, die Trennböden, die sockelförmigen Zentralabschnitte und die Strömungsbarrieren jeweils getrennt voneinander zu fertigen und dann mit geeigneten Stoff schlussmitteln, also beispielsweise einem Borsilikatglas, zu verbinden. In einer ebenfalls bevorzugten Ausgestaltung besteht das Gaseinlassorgan aus mehre ren scheibenförmig übereinander angeordneten Gasverteilkörpern, die einstü ckig ausgebildet sein können. Sie können aus einem scheibenförmigen Quarz körper herausgearbeitet sein, wobei hierzu insbesondere das SLE- Verfahren (selective laser-induced etching) verwendet wird. Bei diesem Verfahren wird in einem ersten Prozessschritt eine lokale Materialumwandlung des homogenen Quarzausgangskörpers vorgenommen. Hierzu wird ein ultrakurz gepulster

Laserstrahl auf einem im Mikrometerbereich liegenden Fokus fokussiert, wobei durch eine Bewegung des Laserstrahls relativ gegenüber dem Quarz-Werkstück der Fokus schreibend durch das Volumen des Quarzkörpers geführt wird. Über einen Multi-Photonen-Prozess erfolgt im Fokus des Laserstrahls ei ne Materialumwandlung des Quarzmaterials. Das so umgewandelte Material kann in einem zweiten Prozessschritt durch ein Ätzfluid entfernt werden. Bei dem Ätzfluid handelt es sich bevorzugt um eine Flüssigkeit, beispielsweise um KOH. Mit diesem Verfahren können in einem scheibenförmigen Quarzgrund körper die Gasverteilwand, deren Gasdurchlassöffnungen, der zentrale Sockel, dessen Gaszuleitungen und die sich zwischen Zentralabschnitt und Gasver teilwand erstreckende Strömungsbarriere inklusive deren Durchlassöffnung gefertigt werden. Die derart gefertigten, materialeinheitlichen scheibenförmi gen Gas verteilkörper/ -abschnitte können dann übereinandergestapelt und ins besondere stoffschlüssig miteinander verbunden werden. In einer besonders bevorzugten Variante der Erfindung sind die Gas verteilkörper materialeinheit lich miteinander verbunden. Zur Herstellung eines derartigen einstückigen, aus einem einheitlichen Quarzrohling gefertigten Gaseinlassorganes wird ebenfalls das zuvor beschriebene SLE- Verfahren verwendet. Bei diesem Herstellungsver fahren wird zunächst ein massiver Quarzkörper gefertigt, der eine polierte Oberfläche aufweist. Mit einem fokussierten Laserstrahl werden dann die Hohlräume belichtet. Das belichtete Material wird anschließend mit dem Ätz fluid entfernt. Besitzt das Gaseinlassorgan den oben bezeichneten Flanschab schnitt, so kann der Flanschabschnitt materialeinheitlich mit den Gasverteilkör pern verbunden sein und ebenfalls mit dem SLE- Verfahren hergestellt werden.

Kurze Beschreibung der Zeichnungen

[0013] Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend anhand bei gefügter Zeichnungen erläutert. Es zeigen:

Fig. 1 in einem Längsquerschnitt im Wesentlichen schematisch den Aufbau eines CVD-Reaktors mit einem erfindungs gemäßen Gaseinlassorgan 2 eines ersten Ausführungsbeispiels,

Fig. 2 in perspektivischer Darstellung fünf Gasverteilkörper 4.1, 4.2,

4.3, 4.4 und 4.5, die übereinander angeordnet ein Gaseinlassor gan 2 ausbilden,

Fig. 3 ein Gaseinlassorgan in einer Ansicht,

Fig. 4 ein zweites Ausführungsbeispiel eines Gaseinlassorgans in ei ner Darstellung gemäß Figur 1,

Fig. 5 vergrößert, den Ausschnitt V in Figur 4,

Fig. 6 einen Schnitt gemäß der Linie VI- VI in Figur 4,

Fig. 7 ein Gaseinlassorgan eines zweiten Ausführungsbeispiels der

Erfindung,

Fig. 8 eine Darstellung ähnlich der Figur 5 eines weiteren Ausfüh rungsbeispiels eines Gaseinlassorgans,

Fig. 9 eine Darstellung ähnlich gemäß Figur 5 eines weiteren Ausfüh rungsbeispiels eines Gaseinlassorgans.

Beschreibung der Ausführungsformen

[0014] Die Figur 1 zeigt im Wesentlichen schematisch den Aufbau eines CVD-Reaktors, in dessen Prozesskammer 20 ein CVD- Abscheideprozess durchge- führt werden kann, bei dem auf mehreren Substraten 21 eine insbesondere halbleitende Schicht abgeschieden werden kann. Die Substrate 21 können aus III- V-Verbindungen, aus Silizium, aus Saphir oder einem anderen geeigneten Material bestehen. Auf das Substrat werden ein oder mehrere Schichten abge schieden, die aus Elementen der IV-Hauptgruppe, der III-V-Hauptgruppe oder der II-VI-Hauptgruppe bestehen können. Durch ein Gaseinlassorgan 2 werden mittels eines Trägergases, beispielsweise Eh, oder eines Edelgases verschiedene Prozessgase in die Prozesskammer 20 eingeleitet, wobei die Prozessgase Hyd ride der V-Hauptgruppe, der IV-Hauptgruppe oder metall organische Verbin dungen der IV-Hauptgruppe oder der III-Hauptgruppe enthalten können. Ein die Substrate 21 tragender Suszeptor 19 aus beschichtetem Graphit oder der gleichen wird von unten her mit einer Heizeinrichtung 24 auf eine Prozesstem peratur gebracht, so dass sich die mittels des Gaseinlassorganes in das Zentrum der Prozesskammer 20 eingespeisten Prozessgase auf den Oberflächen der kreisförmig um das Zentrum angeordneten Substrate pyrolytisch zerlegen, um eine insbesondere einkristalline Schicht zu bilden. Das Prozessgas, welches die Prozesskammer 20 in Radialrichtung durchströmt, verlässt die Prozesskammer 20 durch einen den Suszeptor 19 umgebenden Gasauslass 22, der an eine nicht dargestellte Vakuumpumpe angeschlossen ist.

[0015] Der Suszeptor 19 ruht auf einer Stützscheibe 32, die wiederum von ei nem Stützrohr 33 getragen wird. Mittels nicht dargestellter Mittel lässt sich der in der Figur 1 nur schematisch dargestellte Suszeptor 19 um eine Achse drehen.

[0016] Die Bezugsziffer 34 bezeichnet eine Diffusionsbarriere zwischen Heiz einrichtung 24 und Suszeptor 19.

[0017] Innerhalb des Reaktorgehäuses 1 befindet sich eine Prozesskammerde-cke 23, durch welche ein Befestigungsabschnitt 3 in die Prozesskammer 20 hin- einragt. Am Befestigungsabschnitt 3, der aus Metall, insbesondere Edelstahl bestehen kann, ist das Gaseinlassorgan 2 befestigt.

[0018] Das Gaseinlassorgan 2 kann aus Metall, insbesondere Edelstahl, beste hen. Bevorzugt wird das Gaseinlassorgan 2 aber aus Quarz gefertigt. Das Gas einlassorgan 2 kann aus Metall, insbesondere einem Nichteisenmetall oder Edelstahl bestehen. Bevorzugt wird das Gaseinlassorgan 2 aber aus einem ke ramischen Material und besonders bevorzugt aus Quarz gefertigt.

[0019] Bei dem in der Figur 1 dargestellten Gaseinlassorgan 2 steckt ein unte rer Abschnitt des Gaseinlassorgans 2, der Gasaustrittsöffnungen aufweist, in einer Vertiefung 25 eines Suszeptors 19. Ein oberer Teil des Gaseinlassorgans 2, welcher einen Flanschabschnitt 36 ausbildet, kann materialeinheitlich mit dem unteren Bereich verbunden sein. Durch das Zentrum des Gaseinlassorgans 2 verläuft eine Durchgangsöffnung, die einen Spülkanal 17' ausbildet. Mit der Bezugsziffer 35 sind schematisch Befestigungsöffnungen dargestellt, mit denen das Gaseinlassorgan 2 mittels durch die Befestigungsöffnung 35 hindurchgrei fenden Schrauben an einem Träger befestigt werden kann.

[0020] Bei dem in der Figur 4 dargestellten Ausführungsbeispiel ist ein Befes tigungsabschnitt 3 dargestellt, der einen unteren Abschnitt 3" und einen oberen Abschnitt 3'" aufweist. Der Abschnitt 3" kann aber auch hier materialeinheitli cher Bestandteil des Gaseinlassorganes 2 sein. In den Befestigungsöffnungen 35 sind hier Befestigungsschrauben dargestellt, die in Gewindebohrungen des oberen Abschnittes 3'" eingeschraubt sind.

[0021] Der Befestigungsabschnitt 3 besitzt eine im Wesentlichen ebene Befesti gungsfläche 35 die nach unten, also zum Suszeptor 19, weist. In einem Zentral bereich der Befestigungsfläche 3' befinden sich beim Ausführungsbeispiel fünf um ein Zentrum herum angeordnete Gaskanäle, die jeweils mit einem Gasein lasskanal 9.1, 9.2, 9.3, 9.4, 9.5 des Gaseinlassorgans 2 verbunden sind. Die Gas einlasskanäle 9.1, 9.2, 9.3, 9.4, 9.5 umgeben eine Befestigungsöffnung 27, in der eine Mutter 28 drehfest gelagert ist, die sich auf einer Feder 29 abstützt. In die Mutter 28 ist der Gewindeschaft einer Befestigungsschraube 30 eingedreht, de ren Kopf sich an einer Grundplatte 31, insbesondere aus Quarz, abstützt. Zwi schen der Grundplatte 31, die in eine Vertiefung 25 des Suszeptors 19 ragt, und der Befestigungsfläche 3' des Befestigungsabschnittes 3 befinden sich fünf scheibenförmige Gasverteilkörper 4.1, 4.2, 4.3, 4.4 und 4.5, die im Wesentlichen gleich gestaltet sind, sich jedoch hinsichtlich der Ausgestaltung eines Zentral abschnittes 15 voneinander unterscheiden. Die Grundplatte 31 kann auch aus einem keramischen Material, einem Nichteisenmetall und insbesondere aus Edelstahl bestehen. Die übereinander angeordneten Gasverteilkörper 4.1 bis 4.5 dienen voneinander verschiedenen Zwecken. Durch die beiden oberen Gasver teilkörper 4.1, 4.2 kann Ch zum Reinigen der Prozesskammer 20 in die Prozess kammer 20 eingespeist werden. Durch die unteren Gasverteilkörper 4.3 bis 4.5 können Prozessgase in die Prozesskammer 20 eingespeist werden.

[0022] In den Zeichnungen nicht dargestellt ist eine Dichtung, mit der der obe re Rand des zuoberst angeordneten Gasverteilkörpers 4.1 gegenüber der Befes tigungsfläche 3' abgedichtet ist. Der in der Figur 4 mit 3" bezeichnete Abschnitt kann einen Dichtungsadapter ausbilden.

[0023] Die in der Figur 2 dargestellten Gas verteilkörper/ -abschnitte 4.1, 4.2, 4.3, 4.4 und 4.5 weisen jeweils eine kreisscheibenförmige Grundplatte auf, die einen Trennboden 11 ausbildet, mittels dessen übereinander angeordnete Gas verteilkörper 4.1, 4.2, 4.3, 4.4 und 4.5 voneinander getrennt sind.

[0024] Vom kreisförmigen Rand eines Trennbodens 11 erstreckt sich eine kreisringförmige Gas verteil wand 6, die eine Vielzahl von gleichmäßig ange ordneten Gasdurchtrittsbohrungen 13 aufweist. Die Gasdurchtrittsbohrungen 13 besitzen einen Durchmesser, der kleiner ist als 3 mm und insbesondere klei ner ist als 1 mm. Die sich in Radialrichtung erstreckenden Gasdurchtrittsboh rungen 13 münden jeweils in einer Gasaustrittsöffnung 7. Die in Achsrichtung -bezogen auf die Figurenachse - des Gaseinlassorganes 2 gemessene Höhe eines Gasverteilkörpers 4.1, 4.2, 4.3, 4.4, 4.5 kann zwischen 5 mm und 2 cm betragen. Die sich in Radialrichtung - bezogen auf die Figurenachse - erstreckende Breite der Gasverteilwand 6 kann ebenfalls im Bereich zwischen 0,5 cm und 2 cm lie gen. Die Wandstärke der Gas verteil wand 6 kann aber auch kleiner als 0,5 cm sein und insbesondere 1 mm betragen.

[0025] Die Gasverteilwand 6 umgibt eine Gasverteilkammer 8, die sich um den Zentralabschnitt 15 erstreckt. Die Gasverteilkammer 8 ist beim Ausführungs beispiel in drei ringförmige Abschnitte 8', 8" und 8‘“ aufgeteilt. Ein erster Ab schnitt 8' der Gasverteilkammer 8 erstreckt sich von der Gasverteilwand 6 bis zu einer Strömungsbarriere 12, die konzentrisch zur Gasverteilwand 6 ange ordnet ist. Radial innerhalb des von der Strömungsbarriere 12 umgebenen Ab schnitts 8' der Gasverteilkammer 8 erstreckt sich eine zweite ebenfalls konzent risch zur Gas verteil wand 6 verlaufende Strömungsbarriere 12', die einen Ab schnitt 8‘‘‘ der Gasverteilkammer 8 umgibt, der an dem Zentralabschnitt 15 an grenzt. Die Strömungsbarrieren 12, 12' haben dieselbe Höhe wie die Gasver teilwand 6 und im Ausführungsbeispiel auch dieselbe radiale Breite. Der Ab stand zwischen zwei benachbarten Strömungsbarrieren 12, 12' beziehungsweise zwischen dem Zentralabschnitt 15 und der Strömungsbarriere 12' beziehungs weise zwischen der Strömungsbarriere 12 und der Gasverteilwand 6 ist größer als die Wandstärke der Strömungsbarrieren 12, 12' beziehungsweise der Gas verteilwand 6. Die radiale Breite der Abschnitte 8' , 8" , 8‘" der Gasverteilkam mer 8 ist insbesondere größer als 1 cm. Die Wandstärken der Strömungsbarrie- ren 12, 12' können verschieden sein. Die Wandstärken können auch größer sein als die radiale Erstreckung der Zwischenräume 8', 8", 8'" zwischen den Strö mungsbarrieren 12, 12' . Die radiale Breite der Abschnitte 8', 8", 8 der Gasver-teilkammer 8 können auch kleiner als 5 mm sein.

[0026] Bei dem in der Figur 9 dargestellten Ausführungsbeispiel grenzt die

Strömungsbarriere 12 sogar unmittelbar an die Gasverteilwand 6 an.

[0027] Bei dem in der Figur 2 dargestellten Ausführungsbeispiel besitzen die ringförmigen Strömungsbarrieren 12, 12' Gasdurchtrittsbohrungen 14, 14', die in gleichmäßiger Umfangs Verteilung angeordnet sind. Die Durchmesser der Gasdurchtrittsbohrung 14, 14' können denselben Durchmesser aufweisen, die auch die Gasdurchtrittsbohrung 13 aufweisen. Es ist aber auch vorgesehen, dass die Gasdurchtrittsbohrungen 14' einer inneren Strömungsbarriere 12' ei nen geringeren Durchmesser aufweisen als die Gasdurchtrittsbohrungen 14 einer äußeren Strömungsbarriere 12 und dass die Gasdurchtrittsbohrungen 13 der Gasverteilwand 6 einen größeren Durchmesser aufweisen als die Gasdurch trittsbohrungen 14 der Strömungsbarriere 12. Die Strömungsbarrieren 12, 12' verursachen einen Druckunterschied zwischen dem stromaufwärtigen Ab schnitt und dem stromabwärtigen Abschnitt der Gasverteilkammer 8.

[0028] Es ist insbesondere vorgesehen, dass die Gasdurchtrittsbohrungen 14, 14' der Strömungsbarrieren 12, 12' versetzt zueinander sind und nicht mitei nander fluchten. Entsprechendes gilt für die Gasdurchtrittsbohrungen 14 der Strömungsbarrieren 12 und den Gasdurchtrittsbohrungen 13 der Gasverteil wand 6. Die Gasdurchtrittsbohrungen 14 verlaufen versetzt und nicht fluchtend zu den Gasdurchtrittsbohrungen 13.

[0029] Der zentrale Abschnitt 15 ist als Sockel ausgebildet und besitzt dieselbe axiale Höhe wie die Strömungsbarrieren 12, 12' oder die Gasverteilwand 6, so dass die Oberseiten der Strömungsbarrieren 12, 12' und der Gasverteilwand in derselben Ebene liegen, in der sich auch eine Breitseitenfläche des Sockels 15 erstreckt.

[0030] Jeder der Sockel besitzt eine Mündung 10, mit der ein dem jeweiligen Gasverteilkörper 4.1, 4.2, 4.3, 4.4 und 4.5 zugeordneter Gaseinlasskanal 9.1, 9.2, 9.3, 9.4, 9.5 in den radial innenliegenden Abschnitt 8" der Gasverteilkammer 8 mündet. Die Mündungen 10 können sich von der Oberseite des Trennbodens 11 bis an die Unterseite des Trennbodens 11 eines oberen Gasverteilkörpers erstre cken.

[0031] Bei dem in der Figur 4 dargestellten Ausführungsbeispiel besitzt der zuoberst angeordnete, sich unmittelbar an die Befestigungsfläche 8 anschlie ßende Gasverteilkörper 4.1 vier in Umfangsrichtung um eine Bef estigungs Öff nung 17 angeordnete Durchlassöffnungen 16, die jeweils einem Gaseinlasskanal 9.2, 9.3, 9.4, 9.5 zugeordnet ist. Der dem obersten Gas verteilkörper/ -abschnitt 4.1 zugeordnete Gaseinlasskanal 9.1 mündet in der Mündung 10, vor welcher sich eine Pr all wand 18 befindet.

[0032] Bei dem in der Figur 1 dargestellten Ausführungsbeispiel kann die Oberseite des zuoberst angeordneten Gasverteilkörpers 4.1 materialeinheitlich mit dem Flanschabschnitt 36 verbunden sein, in welchen sich mehrere Gaszu leitungen 5 erstrecken.

[0033] Der von oben gesehen zweite Gasverteilkörper 4.2 besitzt nur drei Durchlassöffnungen 16, die jeweils zu Gaseinlasskanälen 9.3, 9.4 und 9,5 gehö ren. Der Gaseinlasskanal 9.2 mündet hier in die Mündung 10, vor der sich eben- falls eine Prallwand 18 befindet und die in Umfangsrichtung versetzt angeord net ist zur Mündung 10 des Gas verteilkörpers 4.1.

[0034] Der unterhalb des Gasverteilkörpers 4.2 angeordnete Gasverteilkörper 4.3 besitzt nur noch zwei Durchlassöffnungen 16, die den Gaseinlasskanälen 9.4 und 9.5 zugeordnet sind. Der Gaseinlasskanal 9.3 mündet hier in die Mündung 10, die versetzt angeordnet ist zur Mündung 10 des Gaseinlasskörpers 4.2.

[0035] Der unter dem Gasverteilkörper 4.3 angeordnete Gasverteilkörper 4.4 besitzt nur eine Durchlassöffnung 16, die dem Gaseinlasskanal 9.5 zugeordnet ist. Der Gaseinlasskanal 9.5 mündet hier in einer Mündung 10, die umfangsver-setzt angeordnet ist zur Mündung 10 des Gaseinlasskanales 4.3.

[0036] Der zuunterst angeordnete Gasverteilkörper 4.5 besitzt keine Durch lassöffnung 16. Im Zentralabschnitt 15 des zuunterst angeordneten Gasverteil körpers 4.5 mündet der Gaseinlasskanal 9.5 in einer wiederum umfangsversetzt angeordneten Mündung 10.

[0037] Die Mündungen 10 aller Gasverteilkörper 4.1 bis 4.5 münden in unter schiedlich azimutale Richtungen bezogen auf die Figurenachse des Gaseinlass organes 2.

[0038] Unterhalb des zuunterst angeordneten Gasverteilkörpers/-abschnitts 4.5 befindet sich die Grundplatte 31 mit einer Senkung zur Aufnahme des Schraubenkopfes der Befestigungsschraube 30.

[0039] Es wird als vorteilhaft angesehen, dass das Gaseinlassorgan 2 lediglich durch Lösen einer Befestigungsschraube 30 vom Befestigungsabschnitt 3 ent fernbar ist.

[0040] Es wird ferner als vorteilhaft angesehen, dass entweder die einzelnen Gasverteilkörper 4.1, 4.2, 4.3, 4.4 und 4.5 jeweils„aus dem Vollen" aus einem Quarzrohling herausgearbeitet werden können. Es wird ferner als vorteilhaft angesehen, dass das gesamte Gaseinlassorgan 2 mit den dann materialeinheit lich miteinander verbundenen Gasverteilkörpern 4.1, 4.2, 4.3, 4.4 und 4.5 aus einem einzigen Rohling herausgearbeitet werden kann. Die Gasverteilkörper 4.1, 4.2, 4.3, 4.4 und 4.5 sind dann materialeinheitlich miteinander verbundene Gasverteilabschnitte des Gaseinlassorgans 2.

[0041] Zur Herstellung des Gaseinlassorganes 2 wird bevorzugt das oben be reits erwähnte SLE- Verfahren verwendet, bei dem mit einem stark fokussierten und ultrakurz gepulsten Laserstrahl gewissermaßen schreibend Volumenberei che des Quarzrohlings material verändert werden. Diese Volumenbereiche sind die Gasdurchtrittsbohrungen 13, die Gasdurchtrittsbohrungen 14 sowie 14', die Abschnitte 8', 8", 8 der Gasverteilkammer 8, die Gaseinlasskanäle 9.1, 9.2, 9.3, 9.4, 9.5, deren Mündungen 10 und die Befestigungsöffnung 17. Nach der erfolg ten Materialumwandlung wird das umgewandelte Material mittels einer Ätz flüssigkeit aus dem Quarzkörper herausgelöst. Das in der Figur 1 dargestellte Ausführungsbeispiel eines Gaseinlassorganes 2 kann zur Gänze aus einem Roh ling im SLE- Verfahren gefertigt werden.

[0042] Es wird als besonders vorteilhaft angesehen, dass sich mit dieser Ferti gungsmethode die zu montierenden Teile minimieren lassen.

[0043] Das in der Figur 7 dargestellte Ausführungsbeispiel ist ein Gaseinlass organ 2 mit zwei übereinander angeordneten Gasverteilkammern 8, wobei die Gasverteilkammern 8 mittels einer Strömungsbarriere 12 in zwei Abschnitte, nämlich einen stromaufwärtigen Abschnitt 8 und einen stromabwärtigen Ab schnitt aufgeteilt sind. Es können aber auch mehrere Gasverteilkammern über- einander angeordnet sein, die jeweils von einem Gaskanal gespeist werden können. In jede Gasverteilkammer 8 mündet ein Gaskanal 9.1, 9.2. Der im We sentlichen zylindrische Körper des Gaseinlassorganes 2 besitzt auf seiner Zy lindermantelfläche Gasdurchtrittsbohrungen 13, 14, 14' und bildet dadurch eine Gasverteilwand 6 aus. Die beiden Gasverteilkammern 8 sind mittels eines Trennbodens 11 voneinander getrennt. Eine Grundplatte 31 bildet den Boden der unteren Gas verteilkammer 8.

[0044] Das Gaseinlassorgan 2 besteht aus einem einstückigen Quarzteil. Die Hohlräume sind im SLE- Verfahren gefertigt.

[0045] Die Figur 8 zeigt eine weitere Variante eines Gaseinlassorgans, bei dem die Strömungsbarriere 12 eine geringere Höhe aufweist als die Gasverteilwände 6. Zwischen der Unterseite des Trennbodens 11 und der Oberseite der ringför migen Strömungsbarriere 12 bildet sich ein Gasdurchtrittskanal 14" aus. Es handelt sich hierbei um einen umlaufenden Spalt. In einer nicht dargestellten Variante kann dieser Spalt aber auch in azimutaler Richtung durch Stege unter teilt sein.

[0046] Bei dem in der Figur 9 dargestellten Ausführungsbeispiel grenzt die Strömungsbarriere 12" unmittelbar an die Gasverteilwand 6 an. Bei diesem Ausführungsbeispiel münden Gasdurchtrittsbohrungen 14 mit einer geringen Querschnittsfläche in eine Gasdurchtrittsbohrung 13 mit einer größeren Quer schnittsfläche, die sich bis zur Gasaustrittsöffnung 7 erstreckt.

[0047] Die in den Ausführungsbeispielen verkörperten Strömungsbarrieren 12, 12', 12" bilden eine Druckbarriere aus. Die Mündungen 10 der Gaseinlass kanäle 9.1 bis 9.5 sind exzentrisch zum Verlauf der Gasverteilwand 6 angeord net. Die Strömungsstrecke zwischen Mündung und den Gasdurchtrittsbohrun- gen 13 ist somit unterschiedlich. Um zu vermeiden, dass durch die exzentrische Anordnung der Mündung 10 ein inhomogener Gasstrom aus den Gasaustritts öffnungen 7 in die Prozesskammer 20 eintritt, sind die Gasdurchtrittskanäle 14, 14', 14" so dimensioniert, dass sich innerhalb der Gasverteilkammer 8 ein höhe rer Druck aufbaut als außerhalb der Gasverteilkammer 8 und dieser Überdruck ausreichend groß ist, dass die Strömungsbarriere 12, 12', 12" den Prozess gasstrom in die Prozesskammer 20 homogenisiert. Mit anderen Worten: Über die gesamte Umfangslänge der von einer Kreiszylinderaußenmantelfläche ge bildeten Gasaustrittsfläche fließt dieselbe Gasmenge pro Flächeneinheit in die Prozesskammer.

[0048] Die vorstehenden Ausführungen dienen der Erläuterung der von der Anmeldung insgesamt erfassten Erfindungen, die den Stand der Technik zu mindest durch die folgenden Merkmalskombinationen jeweils auch eigenstän dig weiterbilden, wobei zwei, mehrere oder alle dieser Merkmalskombinatio nen auch kombiniert sein können, nämlich:

[0049] Eine Gaseinlassvorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass sich in zumindest einer Gas verteilkammer 8 zwischen der Mündung 10 des Gasein lasskanals 9.1, 9.2, 9.3, 9.4, 9.5 und der Gasverteilwand 6 zumindest eine erste, ein oder mehrere Gasdurchtrittskanäle 14, 14' aufweisende Strömungsbarriere 12, 12' erstreckt.

[0050] Eine Gaseinlassvorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Strömungsbarriere 12, 12' einen Zentralabschnitt 15 umgibt, der die Mündung 10 eines Gaseinlasskanales 9.1, 9.2, 9.3, 9.4, 9.5 aufweist.

[0051] Eine Gaseinlass Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass zu mindest zwei Strömungsbarrieren 12, 12' in Strömungsrichtung hintereinander angeordnet sind, wobei die zumindest zwei Strömungsbarrieren 12, 12' und insbesondere die Gasverteilwand 6 konzentrisch um den Zentralabschnitt 15 angeordnet sind.

[0052] Eine Gaseinlassvorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die mindestens eine Strömungsbarriere 12, 12' die Gasverteilkammer 8 in einen stromaufwärtigen Abschnitt 8", 8'" und einen stromabwärtigen Abschnitt 8', 8" teilt oder dass die Strömungsbarriere 12" Gasdurchtrittskanäle 14 aufweist, die unmittelbar an querschnittsgrößere, in die Gasaustrittsöffnungen 7 mündende Gasdurchtrittsbohrungen 13 der Gasverteilwand 6 angrenzen.

[0053] Eine Gaseinlassvorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass jedes Gasverteilniveau als scheibenförmiger Gasverteilabschnitt 4.1, 4.2, 4.3, 4.4, 4.5 ausgebildet ist, bei dem die Gasverteilwand 6 mit dem Rand des Trennbodens 11 zumindest durch eine dichtende Anlage aneinander verbunden ist und vom Trennboden 11 ein zentraler Abschnitt 15 entspringt, der die Mündung 10 des Gaseinlasskanals 9.1, 9.2, 9.3, 9.4, 9.5 aufweist, wobei eine nach oben weisende Breitseitenfläche 15' des Zentralabschnitts 15 eines unteren Gasverteilabschnitts 4.2, 4.3, 4.4, 4.5 flächig an einer Unterseite des Trennbodens 11 eines oberen Gas verteilabschnitts 4.1, 4.2, 4.3, 4.4 anliegt oder damit verbunden ist und eine Durchlassöffnung 16 des Zentralabschnitts 15 des oberen Gasverteilabschnitts 4.1, 4.2, 4.3, 4.4 mit der Mündung 10 des Gaseinlasskanals 9.1, 9.2, 9.3, 9.4, 9.5 des unteren Gasverteilabschnitts 4.2, 4.3, 4.4, 4.5 strömungsverbunden und zur oberen Breitseitenfläche 15' offen ist.

[0054] Eine Gaseinlassvorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass der Trennboden 11 materialeinheitlich mit dem Zentralabschnitt 15 und/ oder der Gasverteilwand 6 verbunden ist.

[0055] Eine Gaseinlassvorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass der Zentralabschnitt 15 von einem Sockel ausgebildet ist.

[0056] Eine Gaseinlassvorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass jedes Gasverteilniveau von einem scheibenförmigen Gasverteilabschnitt 4.1, 4.2, 4.3, 4.4, 4.5 ausgebildet ist und eine sich durch das gesamte Gaseinlassorgan 2 er streckende Öffnung 17, 17' vorgesehen ist.

[0057] Eine Gaseinlassvorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Öffnung 17 eine Befestigungsöffnung zur Befestigung des Gaseinlassorganes 2 am Befestigungsabschnitt 3 ausbildet oder dass die Öffnung 17 einen Spülkanal 17' ausbildet.

[0058] Eine Gaseinlassvorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die übereinander angeordneten scheibenförmigen Gasverteilabschnitte 4.1, 4.2, 4.3, 4.4, 4.5 insbesondere materialeinheitlich oder stoffschlüssig miteinander ver bundene Gas verteilkörper sind.

[0059] Eine Gaseinlassvorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die

Gaseinlasskanäle 9.1, 9.2, 9.3, 9.4, 9.5 in einer Querschnittsebene durch den Zentralabschnitt 15 nebeneinander liegen und die Mündungen 10 voneinander verschiedener Gaseinlasskanäle 9.1, 9.2, 9.3, 9.4, 9.5 in Umfangsrichtung um den Zentralabschnitt 15 versetzt zueinander angeordnet sind.

[0060] Eine Gaseinlassvorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die

Gaseinlasskanäle 9.1, 9.2, 9.3, 9.4, 9.5 um eine zentrale Befestigungsöffnung 17 angeordnet sind.

[0061] Eine Gaseinlass Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass das Gaseinlassorgan 2 aus Quarz besteht und dass die materialeinstückigen Gasver teilkörper/ -abschnitte 4.1, 4.2, 4.3, 4.4, 4.5 oder das materialeinstückige Gasein lassorgan 2 durch ein selektives Laser-induziertes Ätzverfahren gefertigt ist, bei dem im Fokus eines fokussierten Laserstrahls eine Materialumwandlung statt findet und das umgewandelte Material mittels eines Ätzfluids entfernt wird.

[0062] Ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die Gasverteilkör per 4.1, 4.2, 4.3, 4.4, 4.5 oder ein mehrere Gasverteilabschnitte 4.1, 4.2, 4.3, 4.4,

4.5 aufweisendes Gaseinlassorgan 2 jeweils einstückig durch selektives laserin duziertes Ätzen gefertigt werden/ wird.

[0063] Ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die Mündung 10 derart innerhalb der Gasverteilkammer 8 angeordnet ist, dass der aus ihr aus tretende Prozessgasstrom verschieden lange Strömungsstrecken zu den einzel nen Gasdurchtrittsbohrungen 13 zurücklegt und zumindest eine Strömungs barriere 12, 12', 12" in der Gasverteilkammer 8 eine Homogenisierung des aus den Gasaustrittsöffnungen 7 austretenden Prozessgases bewirkt.

[0064] Alle offenbarten Merkmale sind (für sich, aber auch in Kombination untereinander) erfindungswesentlich. In die Offenbarung der Anmeldung wird hiermit auch der Offenbarungsinhalt der zugehörigen/beigefügten Prioritäts unterlagen (Abschrift der Voranmeldung) vollinhaltlich mit einbezogen, auch zu dem Zweck, Merkmale dieser Unterlagen in Ansprüche vorliegender An meldung mit aufzunehmen. Die Unteransprüche charakterisieren, auch ohne die Merkmale eines in Bezug genommenen Anspruchs, mit ihren Merkmalen eigenständige erfinderische Weiterbildungen des Standes der Technik, insbe sondere um auf Basis dieser Ansprüche Teilanmeldungen vorzunehmen. Die in jedem Anspruch angegebene Erfindung kann zusätzlich ein oder mehrere der

in der vorstehenden Beschreibung, insbesondere mit Bezugsziffern versehene und/ oder in der Bezugsziffernliste angegebene Merkmale aufweisen. Die Er findung betrifft auch Gestaltungsformen, bei denen einzelne der in der vorste henden Beschreibung genannten Merkmale nicht verwirklicht sind, insbeson-dere soweit sie erkennbar für den jeweiligen Verwendungszweck entbehrlich sind oder durch andere technisch gleichwirkende Mittel ersetzt werden kön nen.

Liste der Bezugszeichen

1 CVD-Reaktor

2 Gaseinlassorgan

3 Befestigungsabschnitt 3' Befestigungsfläche

4.1 Gas verteilkörper /-Abschnitt

4.2 Gas verteilkörper /-Abschnitt

4.3 Gas verteilkörper /-Abschnitt

4.4 Gas verteilkörper /-Abschnitt

4.5 Gas verteilkörper /-Abschnitt

5 Gaszuleitung

6 Gasverteilwand

7 Gasaustrittsöffnung

8 Gasverteilkammer

8' stromabwärtiger Abschnitt 8" stromabwärtiger Abschnitt 8 stromaufwärtiger Abschnitt

9.1 Gaseinlasskanal

9.2 Gaseinlasskanal

9.3 Gaseinlasskanal

9.4 Gaseinlasskanal

9.5 Gaseinlasskanal

10 Mündung

11 Trennboden

12 Strömungsbarriere

12' Strömungsbarriere

13 Gasdurchtrittsbohrung

14 Gasdurchtrittskanal

14' Gasdurchtrittskanal

14" Gasdurchtrittskanal

15 Zentralabschnitt, Sockel 15' Breitseitenfläche

16 Durchlassöffnung

17 Befestigungsöffnung 17' Spülkanal

18 Prallwand

19 Suszeptor

20 Prozesskammer

21 Substrat

22 Gasauslass

23 Prozesskammerdecke

24 Heizeinrichtung

25 Vertiefung

26 Gasaustrittsöffnung

27 Befestigungsöffnung

28 Mutter

29 Feder

30 Befestigungsschraube

31 Grundplatte

32 Stützscheibe

33 Stützrohr

34 Diffusionsbarriere

35 Befestigungsöffnung

36 Flanschabschnitt