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1. WO2020099541 - GASAUSLASSVORRICHTUNG EINES CVD-REAKTORS

Veröffentlichungsnummer WO/2020/099541
Veröffentlichungsdatum 22.05.2020
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2019/081290
Internationales Anmeldedatum 14.11.2019
IPC
C23C 16/44 2006.01
CChemie; Hüttenwesen
23Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
CBeschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
16Chemisches Beschichten durch Zersetzen gasförmiger Verbindungen ohne Verbleiben von Reaktionsprodukten des Oberflächenmaterials im Überzug, d.h. Verfahren zur chemischen Abscheidung aus der Dampfphase
44gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
C30B 25/12 2006.01
CChemie; Hüttenwesen
30Züchten von Kristallen
BZüchten von Einkristallen; Gerichtetes Erstarren von eutektischen Stoffen oder gerichtetes Entmischen von eutektischen Stoffen; Reinigen von Stoffen durch Zonenschmelzen; Herstellung eines homogenen polykristallinen Stoffes mit definierter Struktur; Einkristalle oder homogene polykristalline Stoffe mit definierter Struktur; Nachbehandlung von Einkristallen oder eines homogenen polykristallinen Stoffes mit definierter Struktur; Apparate hierfür
25Erzeugen von Einkristallen durch chemische Reaktion von Gasen, z.B. Dampfphasen-Epitaxie mit chemischer Reaktion
02Epitaktisches Schichtenwachstum
12Substrathalter oder -träger
C23C 16/458 2006.01
CChemie; Hüttenwesen
23Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
CBeschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
16Chemisches Beschichten durch Zersetzen gasförmiger Verbindungen ohne Verbleiben von Reaktionsprodukten des Oberflächenmaterials im Überzug, d.h. Verfahren zur chemischen Abscheidung aus der Dampfphase
44gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
458gekennzeichnet durch die Art der Substrat-Halterung im Reaktionsraum
C23C 16/455 2006.01
CChemie; Hüttenwesen
23Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
CBeschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
16Chemisches Beschichten durch Zersetzen gasförmiger Verbindungen ohne Verbleiben von Reaktionsprodukten des Oberflächenmaterials im Überzug, d.h. Verfahren zur chemischen Abscheidung aus der Dampfphase
44gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
455gekennzeichnet durch das Verfahren zum Einführen von Gasen in den Reaktionsraum oder zum Modifizieren von Gasströmungen im Reaktionsraum
H01L 21/687 2006.01
HElektrotechnik
01Grundlegende elektrische Bauteile
LHalbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
21Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von Halbleiter- oder Festkörperbauelementen oder Teilen davon
67Vorrichtungen, besonders ausgebildet zur Handhabung von Halbleiterbauelementen oder elektrischen Festkörperbauelementen während ihrer Herstellung oder Behandlung; Vorrichtungen, besonders ausgebildet zur Handhabung von Wafern während der Herstellung oder Behandlung von Halbleiterbauelementen, elektrischen Festkörperbauelementen oder einzelnen Schaltungselementen
683zum Aufnehmen oder Greifen
687mit mechanischen Mitteln, z.B. Halte-, Klemm- oder Pressvorrichtungen
Anmelder
  • AIXTRON SE [DE]/[DE]
Erfinder
  • WRIGHT, Benjamin David
  • O'NEIL, Barry
Vertreter
  • GRUNDMANN, Dirk
  • MÜLLER, Enno
  • BRÖTZ, Helmut
  • BOURREE, Hendrik
Prioritätsdaten
10 2018 128 558.214.11.2018DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) GASAUSLASSVORRICHTUNG EINES CVD-REAKTORS
(EN) GAS OUTLET DEVICE OF A CVD REACTOR
(FR) DISPOSITIF DE SORTIE DE GAZ D’UN RÉACTEUR CVD
Zusammenfassung
(DE)
Die Erfindung betrifft eine Gasauslassvorrichtung eines CVD-Reaktors (1) mit einem ringförmigen Gassammelkanal (11), der eine radial innenliegende Innenwand (12) und eine von der Innenwand (12) nach radial außen beabstandete Außenwand (13) aufweist, und mit einer ringförmigen inneren Gasleitplatte (20), die mit einem radial äußeren Bereich (22) an die Innenwand (12) und mit einem radial inneren Bereich (21) an einen zentralen Freiraum (27) zur Aufnahme eines Suszeptors (2) angrenzt. Die innere Gasleitplatte (20) stützt sich auf der Innenwand (12) ab. Der radial innere Bereich (21) der inneren Gasleitplatte (20) ist derart elektrisch leitend ausgebildet, dass er mittels von einem elektromagnetischen Wechselfeld im radial inneren Bereich (21) erzeugten Wirbelströmen beheizbar ist und besitzt eine Materialstärke, die größer ist, als die Materialstärke des radial äußeren Bereichs (22).
(EN)
The invention relates to a gas outlet device of a CVD reactor (1) with an annular gas collecting channel (11), which has a radially inner-lying inner wall (12) and an outer wall (13), at a distance radially outwards from the inner wall (12), and with an annular inner gas conducting plate (20), which with a radially outer region (22) is adjacent to the inner wall (12) and with a radially inner region (21) is adjacent to a central clearance (27) for receiving a susceptor (2). The inner gas conducting plate (20) is supported on the inner wall (12). The radially inner region (21) of the inner gas conducting plate (12) is formed in an electrically conducting manner in such a way that it can be heated by means of eddy currents generated by an alternating electromagnetic field in the radially inner region (21) and has a material thickness that is greater than the material thickness of the radially outer region (22).
(FR)
L’invention concerne un dispositif de sortie de gaz d’un réacteur CVD (1) comprenant un canal collecteur de gaz (11) annulaire, lequel comprend une paroi interne (12) disposée radialement à l'intérieur et une paroi externe (13) espacée radialement vers l'extérieur de la paroi interne (12), et comprenant une plaque de guidage de gaz (20) interne annulaire, qui est contiguë à la paroi interne (12) par une zone extérieure radiale (22) et contiguë à un espace libre central (27), pour la réception d’un suscepteur (2), par une zone intérieure radiale (21). La plaque de guidage de gaz (20) interne s’appuie sur la paroi interne (12). La zone intérieure radiale (21) de la plaque de guidage de gaz (20) interne est électriquement conductrice de telle façon qu’elle peut être chauffée au moyen de courants de Foucault générés dans la zone intérieure radiale (21) au moyen d'un champ électromagnétique alternatif et possède une épaisseur de matériau qui est supérieure à l'épaisseur de matériau de la zone extérieure radiale (22).
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