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1. WO2020083543 - OPTISCHES SYSTEM, INSBESONDERE FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE

Veröffentlichungsnummer WO/2020/083543
Veröffentlichungsdatum 30.04.2020
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2019/071886
Internationales Anmeldedatum 14.08.2019
IPC
G03F 7/20 2006.01
GPhysik
03Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
FFotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken ; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20Belichten; Vorrichtungen dafür
C30B 29/12 2006.01
CChemie; Hüttenwesen
30Züchten von Kristallen
BZüchten von Einkristallen; Gerichtetes Erstarren von eutektischen Stoffen oder gerichtetes Entmischen von eutektischen Stoffen; Reinigen von Stoffen durch Zonenschmelzen; Herstellung eines homogenen polykristallinen Stoffes mit definierter Struktur; Einkristalle oder homogene polykristalline Stoffe mit definierter Struktur; Nachbehandlung von Einkristallen oder eines homogenen polykristallinen Stoffes mit definierter Struktur; Apparate hierfür
29Einkristalle oder homogene polykristalline Stoffe mit definierter Struktur, gekennzeichnet durch das Material oder durch ihre Form
10Anorganische Verbindungen oder Zusammensetzungen
12Halogenide
G02B 1/02 2006.01
GPhysik
02Optik
BOptische Elemente, Systeme oder Geräte
1Optische Elemente, gekennzeichnet durch das Material, aus dem sie hergestellt sind; optische Beschichtungen für optische Elemente
02aus Kristallen, z.B. Steinsalz, Halbleiter
CPC
C30B 29/12
CCHEMISTRY; METALLURGY
30CRYSTAL GROWTH
BSINGLE-CRYSTAL-GROWTH
29Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
10Inorganic compounds or compositions
12Halides
G02B 1/02
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
1Optical elements characterised by the material of which they are made
02made of crystals, e.g. rock-salt, semi-conductors
G03F 7/70958
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
7095Materials, e.g. materials for housing, stage or other support having particular properties, e.g. weight, strength, conductivity, thermal expansion coefficient
70958Optical materials and coatings, e.g. with particular transmittance, reflectance
G03F 7/70966
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
7095Materials, e.g. materials for housing, stage or other support having particular properties, e.g. weight, strength, conductivity, thermal expansion coefficient
70958Optical materials and coatings, e.g. with particular transmittance, reflectance
70966Birefringence
Anmelder
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE] (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JO, JP, KE, KG, KH, KM, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW)
  • KRAUS, Johannes [DE]/[DE] (US)
Erfinder
  • KRAUS, Johannes
Vertreter
  • FRANK, Hartmut
Prioritätsdaten
10 2018 218 064.422.10.2018DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) OPTISCHES SYSTEM, INSBESONDERE FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE
(EN) OPTICAL SYSTEM IN PARTICULAR FOR MICROLITHOGRAPHY
(FR) SYSTÈME OPTIQUE, EN PARTICULIER POUR LA MICROLITHOGRAPHIE
Zusammenfassung
(DE)
Die Erfindung betrifft ein optisches System, insbesondere für die Mikrolithographie, mit einem Strahlteiler (10), welcher wenigstens eine Lichteintrittsfläche (11) aufweist, wobei der Strahlteiler in dem optischen System derart angeordnet ist, dass die im Betrieb des optischen Systems an der Lichteintrittsfläche (11) auftretenden, auf die Oberflächennormale bezogenen Einfallswinkel im Bereich von 45°±5° liegen, und wobei der Strahlteiler (10) im [110]-Kristallschnitt hergestellt ist.
(EN)
The invention relates to an optical system, in particular for microlithography, comprising a beam splitter (10) which has at least one light entry surface (11), the beam splitter being arranged in the optical system in such a way that the angles of incidence on the light entry surface relative to the surface normal during operation of the optical system are in the region of 45°±5°, and the beam splitter (10) is produced in the [110] crystal cut.
(FR)
L'invention concerne un système optique, en particulier pour la microlithographie, comprenant un séparateur de faisceau (10), lequel comporte au moins une surface d'entrée de lumière (11). Le séparateur de faisceau est disposé de telle manière dans le système optique que les angles d'incidence apparaissant sur la surface d'entrée de lumière (11) lors du fonctionnement du système optique se situent dans la plage de 45°±5°. Le séparateur de faisceau (10) est fabriqué dans la coupe cristalline [110].
Auch veröffentlicht als
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