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1. (WO2020011668) LEISTUNGSVERSORGUNGSEINRICHTUNG UND BETRIEBSVERFAHREN HIERFÜR
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Veröff.-Nr.: WO/2020/011668 Internationale Veröffentlichungsnummer: PCT/EP2019/068111
Veröffentlichungsdatum: 16.01.2020 Internationales Anmeldedatum: 05.07.2019
IPC:
H01J 37/32 (2006.01)
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
J
Elektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37
Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
32
Gasgefüllte Entladungsröhren
Anmelder:
TRUMPF HÜTTINGER GMBH + CO. KG [DE/DE]; Bötzinger Strasse 80 79111 Freiburg, DE
Erfinder:
BOCK, Christian; DE
THOME, Christian; DE
Vertreter:
TRUMPF PATENTABTEILUNG; TRUMPF GmbH & Co. KG TH501 Patente und Lizenzen Johann-Maus-Strasse 2 71254 Ditzingen, DE
Prioritätsdaten:
10 2018 116 637.010.07.2018DE
Titel (DE) LEISTUNGSVERSORGUNGSEINRICHTUNG UND BETRIEBSVERFAHREN HIERFÜR
(EN) POWER SUPPLY DEVICE AND METHOD FOR OPERATING SAME
(FR) DISPOSITIF D’ALIMENTATION EN PUISSANCE ET PROCÉDÉ DE FONCTIONNEMENT ASSOCIÉ
Zusammenfassung:
(DE) Leistungsversorgungseinrichtung zur Erzeugung wenigstens eines elektrischen Hochfrequenzleistungssignals für ein Plasma, das wenigstens einen ersten Plasmazustand und einen zweiten Plasmazustand aufweist, wobei die Leistungsversorgungseinrichtung dazu ausgebildet ist, eine erste Größe zu ermitteln, die eine in dem ersten Plasmazustand von dem Plasma reflektierte Leistung charakterisiert, eine zweite Größe zu ermitteln, die eine in dem zweiten Plasmazustand von dem Plasma reflektierte Leistung charakterisiert, eine dritte Größe in Abhängigkeit der ersten und zweiten Größe zu bilden, und eine Frequenz und/oder eine Leistung des Hochfrequenzleistungssignals in Abhängigkeit der dritten Größe zu beeinflussen.
(EN) The invention relates to a power supply device for generating at least one electric high-frequency power signal for a plasma which has at least one first plasma state and a second plasma state. The power supply device is designed to ascertain a first variable which characterizes a power reflected by the plasma in the first plasma state, to ascertain a second variable which characterizes a power reflected by the plasma in the second plasma state, to form a third variable depending on the first and second variable, and to influence the frequency and/or the power of the high-frequency power signal depending on the third variable.
(FR) L'invention concerne dispositif d’alimentation en puissance destiné à produire au moins un signal de puissance haute fréquence pour un plasma, ledit plasma présentant au moins un premier état de plasma et un deuxième état de plasma, le dispositif d’alimentation en énergie étant conçu de sorte à déterminer une première grandeur qui caractérise une puissance réfléchie par le plasma dans un premier état du plasma, à déterminer une deuxième grandeur qui caractérise une puissance réfléchie par le plasma dans le deuxième état du plasma, à former une troisième grandeur en fonction de la première et de la deuxième grandeur ainsi qu’à influer sur une fréquence et/ou une puissance du signal de puissance haute fréquence en fonction de la troisième grandeur.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasisches Patentamt (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPA) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)