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1. (WO2020008068) SUBSTRAT FÜR EIN REFLEKTIVES OPTISCHES ELEMENT
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Veröff.-Nr.: WO/2020/008068 Internationale Veröffentlichungsnummer: PCT/EP2019/068176
Veröffentlichungsdatum: 09.01.2020 Internationales Anmeldedatum: 05.07.2019
IPC:
C03C 3/06 (2006.01) ,C03C 17/36 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
03
Glas; Mineral- oder Schlackenwolle
C
Chemische Zusammensetzungen für Gläser, Glasuren oder Emails; Oberflächenbehandlung von Glas; Oberflächenbehandlung von Fasern oder Fäden aus Glas, Mineralien oder Schlacken; Verbinden von Glas mit Glas oder anderen Stoffen
3
Glaszusammensetzungen
04
Kieselsäure enthaltend
06
mit mehr als 90 Gewichts-% Kieselsäure, z.B. Quarz
C Chemie; Hüttenwesen
03
Glas; Mineral- oder Schlackenwolle
C
Chemische Zusammensetzungen für Gläser, Glasuren oder Emails; Oberflächenbehandlung von Glas; Oberflächenbehandlung von Fasern oder Fäden aus Glas, Mineralien oder Schlacken; Verbinden von Glas mit Glas oder anderen Stoffen
17
Oberflächenbehandlung von Glas, z.B. entglastem Glas, außer Fasern oder Filamenten aus Glas, durch Überziehen
34
mit wenigstens zwei Überzügen, die verschiedene Zusammensetzungen haben
36
wenigstens ein Überzug ist ein Metall
Anmelder:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; RUDOLF-EBER-STRASSE 2 73447 OBERKOCHEN, DE
Erfinder:
EVA, Eric; DE
Vertreter:
WERNER & TEN BRINK - PATENTANWÄLTE PARTGMBB; Mecklenburger Str. 35 48147 Münster, DE
Prioritätsdaten:
10 2018 211 234.706.07.2018DE
Titel (DE) SUBSTRAT FÜR EIN REFLEKTIVES OPTISCHES ELEMENT
(EN) SUBSTRATE FOR A REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT
(FR) SUBSTRAT POUR UN ÉLÉMENT OPTIQUE RÉFLÉCHISSANT
Zusammenfassung:
(DE) Um das Maß an Relaxierung nach einer Kompaktierung insbesondere über längere Zeiträume zu verringern, werden Substrate (51) bzw. reflektive optische Elemente (50), insbesondere für die EUV-Lithographie mit derartigen Substraten (51) vorgeschlagen, wobei die Substrate (51) einen Oberflächenbereich (511) mit einer reflektiven Beschichtung (54) aufweisen. Diese Substrate (51) zeichnen sich dadurch aus, dass das Titan-dotierte Quarzglas mindestens in der Nähe des Oberflächenbereichs (511) einen Anteil von Si-O-O-Si-Bindungen von mindestens 1*1016/cm3 und/oder einen Anteil von Si-Si-Bindungen von mindestens 1*1016/cm3 bzw. entlang einer gedachten Linie (513) senkrecht zum Oberflächenbereich (511) über eine Länge (517) von 500 nm oder mehr einen Wasserstoffgehalt von mehr als 5x1018 Moleküle/cm3 aufweisen.
(EN) In order to reduce the degree of relaxation after a compacting, in particular over longer periods, substrates (51) or reflective optical elements (50), in particular for EUV lithography with substrates (51) of this type, are proposed, wherein the substrates (51) have a surface region (511) with a reflective coating (54). These substrates (51) are characterised in that, at least near to the surface region (511), the titanium-doped quartz glass has a proportion of Si-O-O-Si bonds of at least 1*1016/cm3 and/or a proportion of Si-Si bonds of at least 1*1016/cm3 or, along a notional line (513) perpendicular to the surface region (511), over a length (517) of 500 nm or more, a hydrogen content of more than 5x1018 molecules/cm3.
(FR) Afin de réduire le niveau de relâchement après un compactage, en particulier sur de longues périodes, l'invention fournit des substrats (51) ou des éléments optiques réfléchissants (50), en particulier pour la lithographie EUV avec des substrats (51) de ce type, les substrats (51) présentant une zone superficielle (511) comprenant un revêtement réfléchissant (54). Ces substrats (51) sont caractérisés en ce que le verre de silice dopé au titane présente au moins à proximité de la zone superficielle (511) une proportion de liaisons Si-O-O-Si d'au moins 1*1016/cm3 et/ou une fraction de liaisons Si-Si d'au moins 1*1016/cm3 ou le long d'une ligne imaginaire (513) perpendiculairement à la zone superficielle (511) sur une longueur (517) de 500 nm ou plus, une teneur en hydrogène supérieure à 5x1018 molécules/cm3.
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Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)