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1. (WO2020008021) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM BEWERTEN EINES STATISTISCH VERTEILTEN MESSWERTES BEIM UNTERSUCHEN EINES ELEMENTS EINES PHOTOLITHOGRAPHIEPROZESSES
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Veröff.-Nr.: WO/2020/008021 Internationale Veröffentlichungsnummer: PCT/EP2019/068067
Veröffentlichungsdatum: 09.01.2020 Internationales Anmeldedatum: 05.07.2019
IPC:
G03F 1/84 (2012.01) ,G06N 3/02 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
1
Kopiervorlagen für die fotomechanische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Masken, Fotomasken oder Zielmarken; zugehörige Maskenrohlinge oder Pellicles; besonders hierfür ausgebildete Behälter; Herstellung derselben
68
Herstellungsprozesse, die nicht durch die Gruppen G03F1/20-G03F1/50101
82
Hilfsprozesse, z.B. Reinigen
84
Überprüfen
G Physik
06
Datenverarbeitung; Rechnen; Zählen
N
Rechnersysteme, basierend auf spezifischen Rechenmodellen
3
Rechnersysteme, basierend auf biologischen Modellen
02
unter Verwendung neuronaler Netzwerkmodelle
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
Anmelder:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Str. 2 73447 Oberkochen, DE
Erfinder:
SEIDEL, Dirk; DE
FREYTAG, Alexander; DE
WOJEK, Christian; DE
TÖPFER, Susanne; DE
SCHMIDT, Carsten; DE
HUSEMANN, Christoph; DE
Vertreter:
WEGNER, Hans; DE
MADER, Joachim; DE
HAUPT, Christian; DE
BEST, Bastian; DE
ANETSBERGER, Georg; DE
WUNSCH, Alexander; DE
HESELBERGER, Johannes; DE
Prioritätsdaten:
10 2018 211 099.905.07.2018DE
Titel (DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM BEWERTEN EINES STATISTISCH VERTEILTEN MESSWERTES BEIM UNTERSUCHEN EINES ELEMENTS EINES PHOTOLITHOGRAPHIEPROZESSES
(EN) METHOD AND DEVICE FOR EVALUATING A STATISTICALLY DISTRIBUTED MEASURED VALUE IN THE EXAMINATION OF AN ELEMENT OF A PHOTOLITHOGRAPHY PROCESS
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL D’ÉVALUATION D'UNE VALEUR DE MESURE DISTRIBUÉE STATISTIQUEMENT DANS L'EXAMEN D'UN ÉLÉMENT D'UN PROCESSUS PHOTOLITHOGRAPHIQUE
Zusammenfassung:
(DE) Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren (900) zum Bewerten eines statistisch verteilten Messwertes (100, 300, 350) beim Untersuchen eines Elements (810) für einen Photolithographieprozess mit den folgenden Schritten: (a) Verwenden mehrerer Parameter (730) in einem trainierten Modell maschinellen Lernens (700), wobei die Parameter (730) einen Zustand einer Messumgebung (880) in einem einer Messung des Messwertes (100, 300, 350) zugeordneten Zeitraum charakterisieren; und (b) Ausführen des trainierten Modells maschinellen Lernens (700) zum Bewerten des Messwertes (100, 300, 350).
(EN) The invention relates to a method (900) for evaluating a statistically distributed measured value (100, 300, 350) in the examination of an element (810) for a photolithography process, comprising the following steps: (a) using a plurality of parameters (730) in a trained model of machine learning (700), the parameters (730) characterizing a state of a measurement environment (880) in a time period associated with a measurement of the measured value (100, 300, 350); and (b) executing the trained model of machine learning (700) in order to evaluate the measured value (100, 300, 350).
(FR) La présente invention concerne un procédé (900) d'évaluation d'une valeur mesurée (100, 300, 350) statistiquement distribuée lors de l'examen d'un élément (810) pour un procédé photolithographique comprenant les étapes suivantes : (a) utiliser une pluralité de paramètres (730) dans un modèle formé d'apprentissage machine (700), les paramètres (730) caractérisant un état d'un environnement de mesure (880) dans une période de temps associée à une mesure de la valeur mesurée (100, 300, 350) ; et (b) exécuter le modèle formé d'apprentissage machine (700) pour évaluer la valeur mesurée (100, 300, 350).
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasisches Patentamt (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPA) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)