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1. (WO2020007649) ABSTÜTZUNG EINER OPTISCHEN EINHEIT
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Veröff.-Nr.: WO/2020/007649 Internationale Veröffentlichungsnummer: PCT/EP2019/066818
Veröffentlichungsdatum: 09.01.2020 Internationales Anmeldedatum: 25.06.2019
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 7/182 (2006.01)
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
7
Halterungen, Fassungen, Justiereinrichtungen oder lichtdichte Verbindungen für optische Elemente
18
für Prismen; für Spiegel
182
für Spiegel
Anmelder:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Erfinder:
VOGT, Martin; DE
HARTJES, Joachim; DE
Vertreter:
COHAUSZ & FLORACK PATENT- UND RECHTSANWÄLTE PARTNERSCHAFTSGESELLSCHAFT MBB; Bleichstraße 14 40211 Düsseldorf, DE
Prioritätsdaten:
10 2018 210 996.604.07.2018DE
Titel (DE) ABSTÜTZUNG EINER OPTISCHEN EINHEIT
(EN) SUPPORT OF AN OPTICAL UNIT
(FR) SYSTÈME DE SOUTIEN D'UN ENSEMBLE OPTIQUE
Zusammenfassung:
(DE) Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anordnung für die Mikrolithographie, insbesondere unter Verwendung von Licht im extremen UV-Bereich (EUV), mit einer Stützstruktur (109) zum Abstützen einer optischen Einheit (106, 107), deren Masse insbesondere 4 t bis 14 t, vorzugsweise 5 t bis 10 t, weiter vorzugsweise 6 t bis 8 t, beträgt. Die Stützstruktur (109) umfasst eine Anzahl von separaten Stützeinheiten (110.1, 110.2, 110.3, 110.4) zum Abstützen der optischen Einheit (106, 107). Jede der Stützeinheiten (110.1, 110.2, 110.3, 110.4) umfasst eine Luftlagereinheit (111.1, 111.2, 111.3, 111.4), über welche eine Stützkraft erzeugbar ist, welche der Gewichtskraft der optischen Einheit (106, 107) entgegenwirkt. Die Anzahl der Stützeinheiten (110.1, 110,2, 110.3, 110.4) beträgt wenigstens vier, wobei wenigstens zwei der Stützeinheiten (110.1, 110.2, 110.3, 110.4) derart über eine Kopplungseinrichtung (112) zu einem Stützeinheitenpaar gekoppelt sind, dass die Kopplungseinrichtung (112) einer Abweichung von einem vorgebbaren Verhältnis der Stützkräfte der beiden Stützeinheiten (110.1, 110.2) des Stützeinheitenpaars entgegenwirkt.
(EN) The invention relates to an assembly for microlithography, in particular using light in the extreme EUV range (EUV), comprising a support structure (109) for supporting an optical unit (106, 107), the mass of which equals 4 t to 14 t in particular, preferably 5 t to 10 t, more preferably 6 t to 8 t. The support structure (109) comprises a number of separate support units (110.1, 110.2, 110.3, 110.4) for supporting the optical unit (106, 107). Each of the support units (110.1, 110.2, 110.3, 110.4) comprises an air bearing unit (111.1, 111.2, 111.3, 111.4), by means of which a support force can be generated that counteracts the weight of the optical unit (106, 107). The number of support units (110.1, 110.2, 110.3, 110.4) equals at least four, wherein at least two of the support units (110.1, 110.2, 110.3, 110.4) are coupled via a coupling device (112) in order to form a support unit pair such that the coupling device (112) counteracts a deviation from a specifiable ratio of the support forces of the two support units (110.1, 110.2) of the support unit pair.
(FR) L'invention concerne un ensemble de microlithographie, en particulier en utilisant de la lumière dans le domaine UV extrême (EUV). L'ensemble comprend une structure d'appui (109) servant à soutenir un ensemble optique (106, 107), dont le poids va en particulier de 4 t à 14 t, de préférence de 5 t à 10 t, de manière davantage préférée de 6 t à 8 t. La structure d'appui (109) comprend un certain nombre d'ensembles d'appui (110.1, 110.2, 110.3, 110.4) séparés servant à soutenir l'ensemble optique (106, 107). Chacun des ensembles d'appui (110.1, 110.2, 110.3, 110.4) comprend un ensemble formant palier pneumatique (111.1, 111.2, 111.3, 111.4), par l'intermédiaire duquel une force d'appui peut être générée, laquelle contrecarre la force liée au poids de l'ensemble optique (106, 107). Les ensembles d'appui (110.1, 110,2, 110.3, 110.4) sont au moins au nombre de quatre, au moins deux des ensembles d'appui (110.1, 110,2, 110.3, 110.4) étant couplés de telle manière par l'intermédiaire d'un dispositif de couplage (112) pour former une paire d'ensembles d'appui que le dispositif de couplage (112) contrecarre un écart par rapport à un rapport pouvant être prédéfini entres les forces d'appui des deux ensembles d'appui (110.1, 110.2) de la paire d'ensembles d'appui.
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