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1. WO2019233741 - BLENDE ZUR ANORDNUNG IN EINER ENGSTELLE EINES EUV-BELEUCHTUNGSBÜNDELS

Veröffentlichungsnummer WO/2019/233741
Veröffentlichungsdatum 12.12.2019
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2019/062845
Internationales Anmeldedatum 17.05.2019
IPC
G03F 7/20 2006.1
GSektion G Physik
03Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
FFotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken ; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20Belichten; Vorrichtungen dafür
G02B 27/09 2006.1
GSektion G Physik
02Optik
BOptische Elemente, Systeme oder Geräte
27Optische Systeme oder Geräte, soweit nicht in einer der Gruppen G02B1/-G02B26/115
09Strahlformung, z.B. Änderung des Strahlquerschnitts, soweit nicht anderweitig vorgesehen
CPC
G02B 27/0988
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
0938Using specific optical elements
0988Diaphragms, spatial filters, masks for removing or filtering a part of the beam
G02B 5/003
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
003Light absorbing elements
G02B 5/005
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
005Diaphragms
G03F 7/70033
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70008Production of exposure light, i.e. light sources
70033by plasma EUV sources
G03F 7/70833
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals, windows for passing light in- and out of apparatus
70833Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
G03F 7/70916
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution, removing pollutants from apparatus; electromagnetic and electrostatic-charge pollution
70916Pollution mitigation, i.e. mitigating effect of contamination or debris, e.g. foil traps
Anmelder
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE]
Erfinder
  • PATRA, Michael
Vertreter
  • RAU, SCHNECK & HÜBNER PATENTANWÄLTE RECHTSANWÄLTE PARTGMBB
Prioritätsdaten
10 2018 208 710.504.06.2018DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (de)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) BLENDE ZUR ANORDNUNG IN EINER ENGSTELLE EINES EUV-BELEUCHTUNGSBÜNDELS
(EN) STOP FOR ARRANGEMENT IN A CONSTRICTION OF AN EUV ILLUMINATION BEAM
(FR) DIAPHRAGME DESTINÉ À ÊTRE AGENCÉ DANS UN RÉTRÉCISSEMENT D'UN FAISCEAU D'ÉCLAIRAGE AUX ULTRAVIOLETS EXTRÊMES
Zusammenfassung
(DE) Eine Blende (5a) dient zur Anordnung in einer Engstelle eines EUV-Beleuchtungslichtbündels (3) zwischen einer EUV-Lichtquelle für EUV-Beleuchtungslicht und einer EUV-Beleuchtungsoptik. Die Blende (5a) hat einen Bündel-Einlaufabschnitt (27), einen Bündel-Auslaufabschnitt (32) und einen zwischenliegenden Bündel-Rohrabschnitt (30). Der Einlaufabschnitt (27) hat einen sich in Propagationsrichtung (P) des EUV-Beleuchtungslichtbündels (3) verringernden Querschnitt. Der Querschnitt des Auslaufabschnitts (32) vergrößert sich in der Propagationsrichtung (P). Der Querschnitt des Rohrabschnitts (30) ist gleichbleibend. Eine Innenwand (31) des Bündel-Rohrabschnitts (30) ist reflektierend für das EUV-Beleuchtungslicht ausgeführt. Es resultiert eine Blende mit definierter Vorgabe des Beleuchtungslichtbündels bei guter thermischer Belastbarkeit der Blende.
(EN) A stop (5a) serves for arrangement in a constriction of an EUV illumination light beam (3) between an EUV light source for EUV illumination light and an EUV illumination optical unit. The stop (5a) has a beam entrance section (27), a beam exit section (32) and an intervening beam tube section (30). The entrance section (27) has a cross section that decreases in the propagation direction (P) of the EUV illumination light beam (3). The cross section of the exit section (32) increases in the propagation direction (P). The cross section of the tube section (30) is constant. An inner wall (31) of the beam tube section (30) is embodied as reflective for the EUV illumination light. The result is a stop having a defined predetermination of the illumination light beam in conjunction with a good thermal loading capacity of the stop.
(FR) L'invention concerne un diaphragme (5a) servant à être disposé dans un rétrécissement d'un faisceau d'éclairage aux ultraviolets extrêmes (3) entre une source de lumière aux ultraviolets extrêmes pour la lumière d'éclairage aux ultraviolets extrêmes et une optique d'éclairage aux ultraviolets extrêmes. Le diaphragme (5a) présente une partie d'entrée (27) de faisceau, une partie de sortie (32) de faisceau et une partie tubulaire (30) de faisceau située entre celles-ci. La partie d'entrée (27) présente une section transversale diminuant dans le sens de propagation (P) du faisceau d'éclairage aux ultraviolets extrêmes (3). La section transversale de la partie de sortie (32) augmente dans le sens de propagation (P). La section transversale de la partie tubulaire (30) est constante. Une paroi intérieure (31) de la partie tubulaire (30) de faisceau réfléchit la lumière d'éclairage aux ultraviolets extrêmes. Il en résulte un diaphragme présentant une spécification définie du faisceau d'éclairage tout en ayant une capacité de charge thermique satisfaisante.
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