In Bearbeitung

Bitte warten ...

PATENTSCOPE ist einige Stunden aus Wartungsgründen am Dienstag 25.01.2022 um 9:00 AM MEZ nicht verfügbar
Einstellungen

Einstellungen

Gehe zu Anmeldung

1. WO2019149462 - BELEUCHTUNGSOPTIK FÜR DIE PROJEKTIONSLITHOGRAPHIE

Veröffentlichungsnummer WO/2019/149462
Veröffentlichungsdatum 08.08.2019
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2019/050059
Internationales Anmeldedatum 03.01.2019
IPC
G02B 19/00 2006.1
GSektion G Physik
02Optik
BOptische Elemente, Systeme oder Geräte
19Kondensoren
G03F 7/20 2006.1
GSektion G Physik
03Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
FFotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken ; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20Belichten; Vorrichtungen dafür
CPC
G02B 19/0023
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
19Condensers, ; e.g. light collectors or similar non-imaging optics
0004characterised by the optical means employed
0019having reflective surfaces only (e.g. louvre systems, systems with multiple planar reflectors)
0023at least one surface having optical power
G02B 19/0095
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
19Condensers, ; e.g. light collectors or similar non-imaging optics
0033characterised by the use
0095for use with ultra-violet radiation
G03F 7/70033
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70008Production of exposure light, i.e. light sources
70033by plasma EUV sources
G03F 7/70075
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70075Homogenization of illumination intensity in the mask plane, by using an integrator, e.g. fly's eye lenses, facet mirrors, glass rods, by using a diffusive optical element or by beam deflection
G03F 7/702
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
702Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors
G03F 7/70233
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70233Optical aspects of catoptric systems
Anmelder
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE]
Erfinder
  • PATRA, Michael
Vertreter
  • RAU, SCHNECK & HÜBNER PATENTANWÄLTE RECHTSANWÄLTE PARTGMBB
Prioritätsdaten
10 2018 201 457.431.01.2018DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (de)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) BELEUCHTUNGSOPTIK FÜR DIE PROJEKTIONSLITHOGRAPHIE
(EN) ILLUMINATION OPTIC FOR PROJECTION LITHOGRAPHY
(FR) OPTIQUE D’ÉCLAIRAGE POUR LITHOGRAPHIE PAR PROJECTION
Zusammenfassung
(DE) Eine Beleuchtungsoptik (4) für die Projektionslithographie dient zur Beleuchtung eines Objektfeldes (5), in dem ein abzubildendes Objekt anordenbar ist, mit Beleuchtungslicht (16) einer Lichtquelle (2) längs eines Beleuchtungslicht-Strahlengangs. Die Anordnung von Feldfacetten (25) eines Feldfacettenspiegels (19) einerseits und von Pupillenfacetten (29) eines Pupillenfacettenspiegels (20) andererseits ist derart, dass hierüber jeweils ein Ausleuchtungskanal (16i) geführt ist. Der Feldfacettenspiegel (19) dient zur Abbildung eines Lichtquellen-Bildes längs jeweils eines Ausleuchtungskanals (16i) auf eine der Pupillenfacetten (29). Der Pupillenfacettenspiegel (20) dient zur einander überlagernden Abbildung der Feldfacetten (25) in das Objektfeld (5). Die Beleuchtungsoptik (4) ist zur einstellbaren Vorgabe einer Ortsauflösung einer Beleuchtungslicht-Ausleuchtung einer Eintrittspupille (EP) einer dem Objektfeld (5) im Beleuchtungslicht-Strahlengang nachgeordneten Projektionsoptik ausgestaltet. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, mit der Beleuchtungslicht effizient zur kontrastreichen Abbildung der zu projizierenden Strukturen genutzt wird.
(EN) The invention relates to an illumination optic (4) for projection lithography, serving to illuminate an object field (5), in which an object to be imaged can be arranged, with illumination light (16) of a light source (2) along an illumination light beam path. The arrangement of field facets (25) of a field facet mirror (19), on the one hand, and of pupil facets (29) of a pupil facet mirror (20), on the other hand, is such that an illumination channel (16i) is guided thereover. The field facet mirror (19) according to the invention serves for imaging a light source image along an illumination channel (16i) onto one of the pupil facets (29). The pupil facet mirror (20) serves for superimposing imaging of the field facets (25) in the object field (5). The lighting optic (4) is designed for adjustable specification of a spatial resolution of an illumination light lighting-up of an entry pupil (EP) of a projection optic downstream of the object field (5) in the illumination light beam path. The result according to the invention is an illumination optic by means of which illumination light is efficiently used for high-contrast imaging of the structures to be projected.
(FR) La présente invention concerne une optique d’éclairage (4) pour la lithographie par projection qui sert à éclairer un champ d’objet (5) dans lequel peut être disposé un objet à représenter, avec une lumière d’éclairage (16) d’une source de lumière (2) le long d’une trajectoire du faisceau de lumière d’éclairage. La disposition, d’une part, de facettes de champ (25) d’un miroir à facettes de champ (19) et, d’autre part, de facettes de pupille (29) d’un miroir à facettes de pupille (20) est telle qu’ils produisent chacun un canal d’éclairage (16i). Le miroir à facettes de champ (19) sert à la représentation d’une image de la source de lumière le long d’un canal d’exposition (16i) respectif sur une des facettes de pupille (29). Le miroir à facettes de pupille (20) sert à la représentation superposée les unes sur les autres des facettes de champ (25) dans le champ d’objet (5). L’optique d’éclairage (4) est conçue pour le préréglage d’une résolution locale d’une exposition de lumière d’éclairage d’une pupille d’entrée (EP) d’une optique de projection placée derrière le champ d’objet (5) dans la trajectoire du faisceau de lumière d’éclairage. Il en résulte une optique d’éclairage avec laquelle une lumière d’éclairage est utilisée de manière efficace pour la représentation fortement contrastée des structures à projeter.
Related patent documents
EP2019700198This application is not viewable in PATENTSCOPE because the national phase entry has not been published yet or the national entry is issued from a country that does not share data with WIPO or there is a formatting issue or an unavailability of the application.
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten