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1. (WO2019064530) ELECTRON BEAM APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, EXPOSURE METHOD, AND PHOTOELECTRIC ELEMENT
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Veröff.-Nr.: WO/2019/064530 Internationale Anmeldenummer PCT/JP2017/035598
Veröffentlichungsdatum: 04.04.2019 Internationales Anmeldedatum: 29.09.2017
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01J 37/073 (2006.01)
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
21
Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von Halbleiter- oder Festkörperbauelementen oder Teilen davon
02
Herstellung oder Behandlung von Halbleiterbauelementen oder Teilen davon
027
Herstellung von Masken auf Halbleiterkörpern für ein folgendes fotolithografisches Verfahren, soweit nicht von H01L21/18 oder H01L21/34178
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
J
Elektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37
Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
02
Einzelheiten
04
Anordnungen der Elektroden und zugeordneten Teile zum Erzeugen oder Steuern der Entladung, z.B. elektronenoptische oder ionenoptische Anordnung
06
Elektronenquellen; Elektronenstrahlerzeuger
073
Elektronenkanonen, die Feldemissions-, Fotoemissions- oder Sekundäremissionselektronenquellen verwenden
Anmelder:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Erfinder:
佐藤 真路 SATO, Shinji; JP
Vertreter:
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
Prioritätsdaten:
Titel (EN) ELECTRON BEAM APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, EXPOSURE METHOD, AND PHOTOELECTRIC ELEMENT
(FR) APPAREIL À FAISCEAU ÉLECTRONIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF, PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET ÉLÉMENT PHOTOÉLECTRIQUE
(JA) 電子ビーム装置、デバイス製造方法、露光方法及び光電素子
Zusammenfassung:
(EN) An electron beam apparatus comprises: a plurality of light emitting units (84a); and an electron beam optical system that makes electrons into a plurality of electron beams (EB) and can bombard a target therewith, said electrons being emitted from a photoelectric conversion layer (60) by the photoelectric conversion layer (60) being irradiated with a plurality of light beams (LB) due to the light emission of the plurality of light emitting units, wherein the lights from each of the plurality of light emitting units are incident on the photoelectric conversion layer (60) without passing through a space.
(FR) Cette invention concerne un appareil à faisceau électronique, comprenant : une pluralité d'unités d'émission de lumière (84a) ; et un système optique à faisceau électronique qui forme des électrons en une pluralité de faisceaux électroniques (EB) et peut bombarder une cible avec ceux-ci, lesdits électrons étant émis à partir d'une couche de conversion photoélectrique (60) sous l'effet de l'irradiation de couche de conversion photoélectrique (60) par une pluralité de faisceaux lumineux (LB) provenant de l'émission de lumière de la pluralité d'unités d'émission de lumière, la lumière provenant de chacune de la pluralité d'unités d'émission de lumière étant incidente sur la couche de conversion photoélectrique (60) sans passer à travers un espace.
(JA) 電子ビーム装置は、複数の発光部(84a)と、複数の発光部の発光により複数の光ビーム(LB)が光電変換層(60)に照射されることによって光電変換層(60)から放出される電子を複数の電子ビーム(EB)としてターゲットに照射可能な電子ビーム光学系と、を備え、複数の発光部それぞれからの光は、空間を介さずに光電変換層(60)に入射する。
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Japanisch (JA)
Anmeldesprache: Japanisch (JA)