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1. (WO2019064426) VAPOR DEPOSITION SOURCE, VAPOR DEPOSITION DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING VAPOR DEPOSITION FILM
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Veröff.-Nr.: WO/2019/064426 Internationale Anmeldenummer PCT/JP2017/035217
Veröffentlichungsdatum: 04.04.2019 Internationales Anmeldedatum: 28.09.2017
IPC:
C23C 14/24 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
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Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
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gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
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Vakuumbedampfen
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
51
Festkörperbauelemente, die organische Materialien oder eine Kombination von organischen mit anderen Materialien als aktives Medium aufweisen; Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von derartigen Bauelementen oder Teilen davon
50
besonders ausgebildet zur Lichtemission, z.B. organische lichtemittierende Dioden (OLED) oder polymere lichtemittierende Bauelemente (PLED)
H Elektrotechnik
05
Elektrotechnik, soweit nicht anderweitig vorgesehen
B
Elektrische Heizung; elektrische Beleuchtung, soweit nicht anderweitig vorgesehen
33
Elektrolumineszierende Lichtquellen
10
Geräte oder Verfahren, die in besonderer Weise für die Herstellung von elektrolumineszierenden Lichtquellen ausgebildet sind
Anmelder:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
Erfinder:
西口 昌男 NISHIGUCHI, Masao; --
Vertreter:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
Prioritätsdaten:
Titel (EN) VAPOR DEPOSITION SOURCE, VAPOR DEPOSITION DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING VAPOR DEPOSITION FILM
(FR) SOURCE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着源および蒸着装置並びに蒸着膜製造方法
Zusammenfassung:
(EN) A vapor deposition source (1) is provided with an accommodating part (2) for accommodating vapor deposition particles (11), and a plurality of nozzles (3) arranged in a line along an X-axis direction, the plurality of nozzles at end parts in the X-axis direction of the accommodating part protruding in an oblique direction toward the end parts in the X-axis direction, the arrangement density of the nozzles in the end parts in the X-axis direction of the accommodating part being greater than the arrangement density of nozzles in a center part of the accommodating part, and a line (L2) connecting top end surfaces (32) of adjacent nozzles in the end parts in the X-axis direction of the accommodating part being a straight line.
(FR) L'invention concerne une source de dépôt en phase vapeur (1), qui est pourvue d'une partie de réception (2), destinée à recevoir des particules de dépôt en phase vapeur (11), et d'une pluralité de buses (3) agencées en ligne le long d'une direction d'axe X, la pluralité de buses au niveau de parties d'extrémité dans la direction d'axe X de la partie de réception faisant saillie dans une direction oblique vers les parties d'extrémité dans la direction d'axe X, la densité d'agencement des buses dans les parties d'extrémité dans la direction d'axe X de la partie de réception étant supérieure à la densité d'agencement de buses dans une partie centrale de la partie de réception, et une ligne (L2) reliant des surfaces d'extrémité supérieure (32) de buses adjacentes dans les parties d'extrémité dans la direction d'axe X de la partie de réception étant une ligne droite.
(JA) 蒸着源(1)は、蒸着粒子(11)を収容する収容部(2)と、X軸方向に沿ってライン状に配列された複数のノズル(3)と、を備え、収容部のX軸方向端部の複数のノズルは、X軸方向端部に向かって斜め方向に突出し、収容部のX軸方向端部におけるノズルの配設密度は、収容部の中央部におけるノズルの配設密度よりも高く、収容部のX軸方向端部において隣り合うノズルの上端面(32)同士を結ぶ線(L2)が直線状である。
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Japanisch (JA)
Anmeldesprache: Japanisch (JA)