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1. (WO2019063561) SAMPLE PRE-CHARGING METHODS AND APPARATUSES FOR CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION
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Veröff.-Nr.: WO/2019/063561 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/075996
Veröffentlichungsdatum: 04.04.2019 Internationales Anmeldedatum: 25.09.2018
IPC:
H01J 37/02 (2006.01) ,H01J 37/04 (2006.01) ,H01J 37/28 (2006.01)
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
J
Elektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37
Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
02
Einzelheiten
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
J
Elektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37
Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
02
Einzelheiten
04
Anordnungen der Elektroden und zugeordneten Teile zum Erzeugen oder Steuern der Entladung, z.B. elektronenoptische oder ionenoptische Anordnung
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
J
Elektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37
Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
26
Elektronen- oder Ionenmikroskope; Elektronen- oder Ionenbeugungsröhren
28
mit Abtaststrahlen oder -strahlenbündeln
Anmelder:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Erfinder:
LIU, Xuedong; US
XI, Qingpo; US
JIANG, Youfei; US
REN, Weiming; US
HU, Xuerang; US
CHEN, Zhongwei; US
Vertreter:
PETERS, John; NL
Prioritätsdaten:
62/566,15329.09.2017US
Titel (EN) SAMPLE PRE-CHARGING METHODS AND APPARATUSES FOR CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION
(FR) PROCÉDÉS ET APPAREILS DE PRÉ-CHARGEMENT D'ÉCHANTILLON POUR INSPECTION DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
Zusammenfassung:
(EN) Disclosed herein is an apparatus comprising: a source of charged particles configured to emit a beam of charged particles along a primary beam axis of the apparatus; a condenser lens configured to cause the beam to concentrate around the primary beam axis; an aperture; a first multi-pole lens; a second multi-pole lens; wherein the first multi-pole lens is downstream with respect to the condenser lens and upstream with respect to the second multi-pole lens; wherein the second multi-pole lens is downstream with respect to the first multi-pole lens and upstream with respect to the aperture.
(FR) Cette invention concerne un appareil comprenant : une source de particules chargées configurée pour émettre un faisceau de particules chargées le long d'un axe de faisceau primaire de l'appareil ; une lentille condensatrice configurée pour amener le faisceau à se concentrer autour de l'axe de faisceau primaire ; une ouverture ; une première lentille multipolaire ; une seconde lentille multipolaire, la première lentille multipolaire étant en aval par rapport à la lentille condensatrice et en amont par rapport à la seconde lentille multipolaire, la seconde lentille multipolaire étant en aval par rapport à la première lentille multipolaire et en amont par rapport à l'ouverture.
front page image
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Englisch (EN)
Anmeldesprache: Englisch (EN)