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1. (WO2019063247) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR CHARAKTERISIERUNG DER OBERFLÄCHENFORM EINES OPTISCHEN ELEMENTS
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Veröff.-Nr.: WO/2019/063247 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/073703
Veröffentlichungsdatum: 04.04.2019 Internationales Anmeldedatum: 04.09.2018
IPC:
G01B 9/02 (2006.01) ,G01B 11/24 (2006.01) ,G01M 11/00 (2006.01) ,G01M 11/02 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G06T 7/55 (2017.01)
G Physik
01
Messen; Prüfen
B
Messen der Länge, der Dicke oder ähnlicher linearer Abmessungen; Messen von Winkeln; Messen von Flächen; Messen von Unregelmäßigkeiten an Oberflächen oder Umrissen
9
Instrumente wie in den Untergruppen aufgeführt und gekennzeichnet durch die Verwendung von optischen Messmitteln
02
Interferometer
G Physik
01
Messen; Prüfen
B
Messen der Länge, der Dicke oder ähnlicher linearer Abmessungen; Messen von Winkeln; Messen von Flächen; Messen von Unregelmäßigkeiten an Oberflächen oder Umrissen
11
Messanordnungen gekennzeichnet durch die Verwendung optischer Messmittel
24
zum Messen von Umrisslinien oder Krümmungen
G Physik
01
Messen; Prüfen
M
Prüfen der statischen oder dynamischen Massenverteilung rotierender Teile von Maschinen oder Konstruktionen; Prüfen von Konstruktionsteilen oder Apparaten, soweit nicht anderweitig vorgesehen
11
Prüfen optischer Apparate; Prüfen von Aufbauten oder Maschinenteilen durch optische Verfahren, soweit nicht anderweitig vorgesehen
G Physik
01
Messen; Prüfen
M
Prüfen der statischen oder dynamischen Massenverteilung rotierender Teile von Maschinen oder Konstruktionen; Prüfen von Konstruktionsteilen oder Apparaten, soweit nicht anderweitig vorgesehen
11
Prüfen optischer Apparate; Prüfen von Aufbauten oder Maschinenteilen durch optische Verfahren, soweit nicht anderweitig vorgesehen
02
Prüfen optischer Eigenschaften
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
[IPC code unknown for G06T 7/55]
Anmelder:
RIEPENHAUSEN, Frank [DE/DE]; DE (US)
SCHRÖTER, Martin [DE/DE]; DE (US)
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JO, JP, KE, KG, KH, KM, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW)
Erfinder:
RIEPENHAUSEN, Frank; DE
SCHRÖTER, Martin; DE
Vertreter:
FRANK, Hartmut; DE
Prioritätsdaten:
10 2017 217 371.829.09.2017DE
Titel (EN) METHOD AND DEVICE FOR CHARACTERISING THE SURFACE SHAPE OF AN OPTICAL ELEMENT
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF POUR LA CARACTÉRISATION DE LA FORME SUPERFICIELLE D'UN ÉLÉMENT OPTIQUE
(DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR CHARAKTERISIERUNG DER OBERFLÄCHENFORM EINES OPTISCHEN ELEMENTS
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to a method and a device for characterising the surface shape of an optical element, in particular a mirror or a lens of a micro-lithographic projection exposure system. A method according to the invention comprises the following steps: carrying out a plurality of interferometric measurements, in which a respective interferogram is recorded between a test wave coming from a respective section of the optical element and a reference wave, wherein the position of the optical element is altered relative to the test wave between these measurements; and calculating the deviation from the target shape of an optical element on the basis of these measurements, wherein this calculation occurs iteratively in such a way that, in a plurality of iteration steps, the deviation from the target shape of the optical element is determined by carrying out a forward calculation, wherein each of these iteration steps is based on a respective reference wave adjusted on the basis of the preceding iteration step.
(FR) L'invention concerne un procédé et un dispositif pour la caractérisation de la forme superficielle d'un élément optique, en particulier d'un miroir ou d'une lentille d'une installation d'éclairage par projection microlithographique. Un procédé selon l'invention présente les étapes suivantes, consistant à : réaliser une multitude de mesures par interférométrie, lors desquelles à chaque fois un interférogramme entre une onde de test partant à chaque fois d'une section de l'élément optique et une onde de référence est enregistré, la position de l'élément optique par rapport à l'onde de test étant modifiée entre ces mesures, et calculer la couleur de l'élément optique sur la base de ces mesures, ce calcul étant effectué par itération de manière telle que dans une multitude d'étapes d'itération, la couleur de l'élément optique est déterminée à chaque fois tout en effectuant un calcul vers l'avant, chacune de ces étapes d'itération se faisant sur la base d'une onde référence adaptée sur la base de l'étape d'itération précédente.
(DE) Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Charakterisierung der Oberflächenform eines optischen Elements, insbesondere eines Spiegels oder einer Linse einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Durchführen einer Mehrzahl von interferometrischen Messungen, bei welchen jeweils ein Interferogramm zwischen einer von jeweils einem Abschnitt des optischen Elements ausgehenden Prüfwelle und einer Referenzwelle aufgenommen wird, wobei zwischen diesen Messungen die Position des optischen Elements relativ zur Prüfwelle verändert wird, und Berechnen der Passe des optischen Elements auf Basis dieser Messungen, wobei dieses Berechnen iterativ in solcher Weise erfolgt, dass in einer Mehrzahl von Iterationsschritten die Passe des optischen Elements jeweils unter Durchführung einer Vorwärtsrechnung ermittelt wird, wobei jedem dieser Iterationsschritte jeweils eine auf Basis des vorangegangen Iterationsschrittes angepasste Referenzwelle zugrundegelegt wird.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)