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1. (WO2019052949) MIKROSTRUKTURIERUNG VON GEBOGENEN FLÄCHEN DURCH UV-LITHOGRAPHIE
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Veröff.-Nr.: WO/2019/052949 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/074324
Veröffentlichungsdatum: 21.03.2019 Internationales Anmeldedatum: 10.09.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 7/24 (2006.01)
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
24
Gekrümmte Oberflächen
Anmelder:
KARLSRUHER INSTITUT FÜR TECHNOLOGIE [DE/DE]; Kaiserstr. 12 76131 Karlsruhe, DE
Erfinder:
DOLL, Patrick; DE
KÄSSER, Lukas; DE
AHRENS, Ralf; DE
GUBER, Andreas; DE
Vertreter:
FITZNER, Uwe; DE
Prioritätsdaten:
10 2017 121 097.012.09.2017DE
Titel (EN) MICROSTRUCTURING OF BENT SURFACES BY UV LITHOGRAPHY
(FR) MICROSTRUCTURATION DE SURFACES COURBES PAR LITHOGRAPHIE UV
(DE) MIKROSTRUKTURIERUNG VON GEBOGENEN FLÄCHEN DURCH UV-LITHOGRAPHIE
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to a method for producing microstructures on shaped bodies having bent surfaces by means of lithography, to the shaped bodies thus produced, and to the use thereof. In addition, the invention relates to shaped bodies having bent surfaces having a bending radius of < 25 mm, comprising microstructures in the form of microgrooves or freestanding structures having a half period of < 200 µm.
(FR) L'invention concerne un procédé pour créer des microstructures sur des corps façonnés pourvus de surfaces courbes par lithographie, les corps façonnés ainsi produits par ce procédé et leur utilisation. L'invention concerne en outre un corps façonné pourvu de surfaces courbes présentant un rayon de courbure inférieur à 25 mm, ce corps façonné présentant des microstructures sous la forme de microrainures ou de structures isolées dont la demi-période est inférieure à 200 μm.
(DE) Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Mikrostrukturen auf Formkörpern mit gebogenen Flächen mittels Lithographie, die so hergestellten Formkörper sowie deren Verwendung. Außerdem betrifft die Erfindung Formkörper mit gebogenen Flächen mit Biegeradius von < 25 mm, welcher Mikrostrukturen in Form von Mikrorillen oder freistehenden Strukturen aufweist, deren halben Periode < 200 μm beträgt.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)