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1. (WO2019052882) VERFAHREN ZUR POSITIONSKORREKTUR VON ELEKTRODENSTAPELN BEI DEREN ABLEGEN
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Veröff.-Nr.: WO/2019/052882 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/073926
Veröffentlichungsdatum: 21.03.2019 Internationales Anmeldedatum: 06.09.2018
IPC:
H01M 10/04 (2006.01) ,B65H 29/38 (2006.01) ,B65H 31/10 (2006.01)
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
M
Verfahren oder Mittel, z.B. Batterien, für die direkte Umwandlung von chemischer in elektrische Energie
10
Sekundärelemente; Herstellung derselben
04
Aufbau oder Herstellung allgemein
B Arbeitsverfahren; Transportieren
65
Fördern; Packen; Lagern; Handhaben dünner oder fadenförmiger Werkstoffe
H
Handhaben von dünnem oder fadenförmigem Gut, z.B. Folien, Bahnen, Kabeln
29
Ausgeben von Werkstücken aus Maschinen; Fördern von Werkstücken zu Stapeln oder Ablegen auf Stapel
38
durch bewegliche Aufstapel- oder Vorschubarme, Rahmen, Platten oder ähnliche Glieder, mit welchen die Werkstücke in flächiger Berührung gehalten werden
B Arbeitsverfahren; Transportieren
65
Fördern; Packen; Lagern; Handhaben dünner oder fadenförmiger Werkstoffe
H
Handhaben von dünnem oder fadenförmigem Gut, z.B. Folien, Bahnen, Kabeln
31
Ablagestapelbehälter
04
mit beweglichem Stapeltisch, eingerichtet zum Zurückweichen in dem Maße wie der Stapel anwächst
08
die Werkstücke sind aufeinander gestapelt
10
und zugeführt am Oberteil des Stapels
Anmelder:
ROBERT BOSCH GMBH [DE/DE]; Postfach 30 02 20 70442 Stuttgart, DE
Erfinder:
PETER, Thomas; CH
MAIER, Mirko; DE
GOSSEN, Bernhard; DE
HOLM, Michael; DE
DIESSNER, Christian; DE
LETSCH, Andreas; DE
REUSCH, Martin; DE
Prioritätsdaten:
10 2017 216 158.213.09.2017DE
Titel (EN) METHOD FOR CORRECTING THE POSITION OF ELECTRODE STACKS WHEN ARRANGING THEM
(FR) PROCÉDÉ DE CORRECTION DE POSITION D'EMPILEMENTS D'ÉLECTRODES LORS DE LEUR POSE
(DE) VERFAHREN ZUR POSITIONSKORREKTUR VON ELEKTRODENSTAPELN BEI DEREN ABLEGEN
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to a method for correcting the position of electrode stacks (10) to be arranged, during their arrangement on a stack device (78). The following method steps are carried out: a) the position of a stack segment (52) to be arranged on a formed stack (134) is sensed by at least one vision system (118, 120) as a reference arrangement position (152) during the first arrangement process, b) the reference arrangement position (152) which is sensed and stored according to a) forms a theoretical zero point with respect to the X and Y positions and the angular position, c) at least one correction in the Y direction (130) and/or one correction in the X direction (132) are/is determined from a deviation between the reference arrangement position (152) stored according to method step a) and a centre point (150) of a stack segment (52) which is to be subsequently arranged, d) the correction in the X direction (132) is carried out by the single table (102) of the linear conveyor system (76) in the X direction (110) and/or e) the correction in the Y direction (130) is carried out by moving the stack device (78) in the Y direction (114).
(FR) L'invention concerne un procédé de correction de position d'empilements d'électrodes (10) à poser lors de la pose sur un dispositif d'empilement (78). Sont effectuées des étapes de procédé qui suivent : a) la position d'un segment (52) d'empilement à poser sur un empilement (134) formé est détectée par au moins un système de vision (118, 120) en tant que position de pose de référence (152) lors de la première pose ; b) la position de pose de référence (152) détectée selon l'étape a) et mémorisée forme un point zéro théorique par rapport à une position X, Y et une position angulaire ; c) au moins une correction dans la direction Y (130) et/ou une correction dans la direction X (132) sont définies à partir d'un écart entre la position de pose de référence (152) mémorisée selon l'étape de procédé a) et un point central (150) d'un segment (52) d'empilement à poser par la suite ; d) la correction dans la direction X (132) est effectuée par la table individuelle (102) du système de convoyage (76) linéaire dans la direction X (110) ; et/ou e) la correction dans la direction Y (130) est effectuée par le déplacement du dispositif d'empilement (78) dans la direction Y (114).
(DE) Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Positionskorrektur von abzulegenden Elektrodenstapeln (10) beim Ablegen auf eine Stapelvorrichtung (78). Es werden nachfolgende Verfahrensschritte durchlaufen: a) die Position eines auf einem gebildeten Stapel (134) abzulegenden Stapelsegmentes (52) wird durch mindestens ein Visionssysteme (118, 120) als Referenzablageposition (152) beim ersten Ablegen erfasst, b) die gemäß a) erfasste und gespeicherte Referenzablageposition (152) bildet einen theoretischen Nullpunkt in Bezug auf X-,Y- und Winkellage, c) aus einer Abweichung zwischen der gemäß Verfahrensschritt a) gespeicherten Referenzablageposition (152) und einem Mittelpunkt (150) eines nachfolgend abzulegenden Stapelsegmentes (52) werden zumindest eine Korrektur in Y- Richtung (130) und/oder eine Korrektur in X-Richtung (132) bestimmt, d) die Korrektur in X-Richtung (132) erfolgt durch den Einzeltisch (102) des linearen Fördersystems 76 in X-Richtung (110) und/oder e) die Korrektur in Y- Richtung (130) erfolgt durch Bewegung der Stapelvorrichtung (78) in Y- Richtung (114).
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)