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1. (WO2019052736) OPTISCHE ANORDNUNG UND VERFAHREN ZUR REPARATUR DER OPTISCHEN ANORDNUNG NACH EINER SCHOCKBELASTUNG
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Veröff.-Nr.: WO/2019/052736 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/070627
Veröffentlichungsdatum: 21.03.2019 Internationales Anmeldedatum: 30.07.2018
IPC:
G02B 7/182 (2006.01) ,G02B 26/08 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
7
Halterungen, Fassungen, Justiereinrichtungen oder lichtdichte Verbindungen für optische Elemente
18
für Prismen; für Spiegel
182
für Spiegel
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
26
Optische Vorrichtungen oder Anordnungen mit beweglichen oder verformbaren optischen Elementen zum Steuern der Intensität, Farbe, Phase, Polarisation oder Richtung von Licht, z.B. Schalten, Austasten, Modulieren
08
zum Steuern der Richtung von Licht
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
Anmelder:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Erfinder:
HARTJES, Joachim; DE
Vertreter:
KOHLER SCHMID MÖBUS PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFTSGESELLSCHAFT MBB; Gropiusplatz 10 70563 Stuttgart, DE
Prioritätsdaten:
10 2017 216 498.018.09.2017DE
Titel (EN) OPTICAL ARRANGEMENT AND METHOD FOR THE REPAIR OF THE OPTICAL ARRANGEMENT AFTER A SHOCK LOAD
(FR) SYSTÈME OPTIQUE ET PROCÉDÉ DE RÉPARATION DU SYSTÈME OPTIQUE APRÈS UN CHOC
(DE) OPTISCHE ANORDNUNG UND VERFAHREN ZUR REPARATUR DER OPTISCHEN ANORDNUNG NACH EINER SCHOCKBELASTUNG
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to an optical arrangement, more particularly a lithography system, comprising: a first component (19), more particularly a supporting frame, a second component (13, 3) which is movable relative to the first component (19), more particularly a mirror (13) or a housing (3), and at least one stop (20a) having at least one stop surface (21a, b) for limiting the movement of the second component (13) relative to the first component (19). The stop (20a, b) comprises a metal foam (22) for absorbing the kinetic energy of the second component when it strikes against the stop surface (21a). The invention further relates to a method for repairing an optical arrangement of this kind after a shock load, comprising: exchanging at least one stop (20b), in which the metal foam (22) was compressed under the shock load, for a stop (20b) in which the metal foam (22) is not compressed.
(FR) L’invention concerne un système optique, en particulier un système de lithographie, comprenant : un premier composant (19), en particulier un cadre porteur, un second composant (13, 3) mobile par rapport au premier composant (19), en particulier un miroir (13) ou un boîtier (3), ainsi qu’au moins une butée (20a) présentant au moins une surface de butée (21a, b) limitant le déplacement du second composant (13) par rapport au premier composant (19). La butée (20a, b) présente une mousse métallique (22) servant à absorber l’énergie cinétique du second composant lorsqu'il bute contre la surface de butée (21a). L’invention concerne également un procédé de réparation dudit système optique après un choc, consistant à : remplacer au moins une butée (20b) dont la mousse métallique (22) a été écrasée par le choc par une butée (20b) dont la mousse métallique (22) n’est pas écrasée par le choc.
(DE) Die Erfindung betrifft eine optische Anordnung, insbesondere ein Lithographiesystem, umfassend: eine erste Komponente (19), insbesondere einen Tragrahmen, eine relativ zur ersten Komponente (19) bewegliche zweite Komponente (13, 3), insbesondere einen Spiegel (13) oder ein Gehäuse (3), sowie mindestens einen Anschlag (20a) mit mindestens einer Anschlagfläche (21a, b) zur Begrenzung der Bewegung der zweiten Komponente (13) relativ zur ersten Komponente (19). Der Anschlag (20a, b) weist zur Absorption der kinetischen Energie der zweiten Komponente beim Anschlagen gegen die Anschlagfläche (21a) einen Metallschaum (22) auf. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Reparatur einer solchen optischen Anordnung nach einer Schockbelastung, umfassend: Austauschen mindestens eines Anschlags (20b), bei dem der Metallschaum (22) bei der Schockbelastung gestaucht wurde, gegen einen Anschlag (20b), bei dem der Metallschaum (22) nicht gestaucht ist.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)