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1. (WO2019050507) METHODS OF HANDLING A MASK DEVICE, APPARATUS FOR EXCHANGING A MASK DEVICE, MASK EXCHANGE CHAMBER, AND VACUUM SYSTEM
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Veröff.-Nr.: WO/2019/050507 Internationale Anmeldenummer PCT/US2017/050129
Veröffentlichungsdatum: 14.03.2019 Internationales Anmeldedatum: 05.09.2017
IPC:
H01L 51/56 (2006.01) ,H01L 51/00 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01) ,H01L 21/033 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
51
Festkörperbauelemente, die organische Materialien oder eine Kombination von organischen mit anderen Materialien als aktives Medium aufweisen; Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von derartigen Bauelementen oder Teilen davon
50
besonders ausgebildet zur Lichtemission, z.B. organische lichtemittierende Dioden (OLED) oder polymere lichtemittierende Bauelemente (PLED)
56
Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von derartigen Bauelementen oder Teilen davon
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
51
Festkörperbauelemente, die organische Materialien oder eine Kombination von organischen mit anderen Materialien als aktives Medium aufweisen; Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von derartigen Bauelementen oder Teilen davon
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
21
Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von Halbleiter- oder Festkörperbauelementen oder Teilen davon
67
Vorrichtungen, besonders ausgebildet zur Handhabung von Halbleiterbauelementen oder elektrischen Festkörperbauelementen während ihrer Herstellung oder Behandlung; Vorrichtungen, besonders ausgebildet zur Handhabung von Wafern während der Herstellung oder Behandlung von Halbleiterbauelementen, elektrischen Festkörperbauelementen oder einzelnen Schaltungselementen
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
21
Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von Halbleiter- oder Festkörperbauelementen oder Teilen davon
02
Herstellung oder Behandlung von Halbleiterbauelementen oder Teilen davon
027
Herstellung von Masken auf Halbleiterkörpern für ein folgendes fotolithografisches Verfahren, soweit nicht von H01L21/18 oder H01L21/34178
033
aus anorganischen Schichten
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
Anmelder:
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Erfinder:
GOVINDASAMY, Sathiyamurthi; IN
KLEIN, Wolfgang; DE
SALUGU, Srinivas; IN
SAUER, Andreas; DE
ZANG, Sebastian Gunther; DE
Vertreter:
PATTERSON, B. Todd; US
TACKETT, Keith M.; US
Prioritätsdaten:
Titel (EN) METHODS OF HANDLING A MASK DEVICE, APPARATUS FOR EXCHANGING A MASK DEVICE, MASK EXCHANGE CHAMBER, AND VACUUM SYSTEM
(FR) PROCÉDÉS DE MANIPULATION D'UN DISPOSITIF DE MASQUAGE, APPAREIL D'ÉCHANGE D'UN DISPOSITIF DE MASQUAGE, CHAMBRE D’ÉCHANGE DE MASQUE ET SYSTÈME SOUS VIDE
Zusammenfassung:
(EN) Method of handling a mask device are described. According to m embodiment, the method includes: Loading the mask device on a holding arrangement for holding the mask device; moving the holding arrangement from a first state into a second state, the second slate being a non-horizontal state; aligning the holding- arrangement with a mask carrier; and transferring the mask device from the holding arrangement to the mask earner. Further, an apparatus for exchanging a mask device from a mask carrier as well as a vacuum system including such an apparatus are described.
(FR) L'invention concerne un procédé de manipulation de dispositif de masquage. Selon un mode de réalisation, le procédé consiste à : charger le dispositif de masquage sur un agencement de maintien pour maintenir le dispositif de masquage ; faire passer l'agencement de maintien d'un premier état vers un second état, le second état étant un état non horizontal ; aligner l'agencement de maintien avec un support de masque ; et transférer le dispositif de masquage de l'agencement de maintien au support de masque. En outre, l'invention concerne un appareil d'échange d'un dispositif de masquage à partir d'un support de masque, ainsi qu'un système sous vide comprenant un tel appareil.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Englisch (EN)
Anmeldesprache: Englisch (EN)