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1. (WO2019050365) POROUS POLYURETHANE POLISHING PAD AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
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Veröff.-Nr.: WO/2019/050365 Internationale Anmeldenummer PCT/KR2018/010562
Veröffentlichungsdatum: 14.03.2019 Internationales Anmeldedatum: 10.09.2018
IPC:
B24D 3/32 (2006.01) ,B24D 18/00 (2006.01) ,C08L 75/04 (2006.01) ,C08J 9/04 (2006.01) ,C08J 9/00 (2006.01)
B Arbeitsverfahren; Transportieren
24
Schleifen; Polieren
D
Werkzeuge zum Schleifen, Polieren oder Schärfen
3
Physikalische Merkmale von Schleifkörpern oder -blättern, z.B. mit einer Schleiffläche von besonderer Eigenart; Schleifkörper oder -blätter gekennzeichnet durch ihre Bestandteile
02
Bindemittel als Bestandteil
20
im wesentlichen organisch
28
Harze
32
für poröse Struktur
B Arbeitsverfahren; Transportieren
24
Schleifen; Polieren
D
Werkzeuge zum Schleifen, Polieren oder Schärfen
18
Herstellen von Schleifwerkzeugen, z.B. Scheiben, soweit nicht anderweitig vorgesehen
C Chemie; Hüttenwesen
08
Organische makromolekulare Verbindungen; deren Herstellung oder chemische Verarbeitung; Massen auf deren Basis
L
Massen auf Basis makromolekularer Verbindungen
75
Massen auf Basis von Polyharnstoffen oder Polyurethanen; Massen auf Basis von Derivaten solcher Polymere
04
Polyurethane
C Chemie; Hüttenwesen
08
Organische makromolekulare Verbindungen; deren Herstellung oder chemische Verarbeitung; Massen auf deren Basis
J
Verarbeitung; Allgemeine Mischverfahren; Nachbehandlung, soweit nicht von den Unterklassen C08B , C08C , C08F , C08G oder C08H228
9
Verarbeiten von makromolekularen Stoffen zu porösen oder zellförmigen Gegenständen oder Materialien; deren Nachbehandlung
04
unter Verwendung von Treibgasen, die durch ein vorher zugefügtes Treibmittel erzeugt werden
C Chemie; Hüttenwesen
08
Organische makromolekulare Verbindungen; deren Herstellung oder chemische Verarbeitung; Massen auf deren Basis
J
Verarbeitung; Allgemeine Mischverfahren; Nachbehandlung, soweit nicht von den Unterklassen C08B , C08C , C08F , C08G oder C08H228
9
Verarbeiten von makromolekularen Stoffen zu porösen oder zellförmigen Gegenständen oder Materialien; deren Nachbehandlung
Anmelder:
에스케이씨 주식회사 SKC CO., LTD. [KR/KR]; 경기도 수원시 장안구 장안로 309번길 84 84, Jangan-ro 309beon-gil, Jangan-gu, Suwon-si, Gyeonggi-do 16336, KR
Erfinder:
서장원 SEO, Jang Won; KR
한혁희 HAN, Hyuk Hee; KR
허혜영 HEO, Hye Young; KR
류준성 RYOU, Joonsung; KR
권영필 KWON, Young Pil; KR
Vertreter:
제일특허법인(유) FIRSTLAW P.C.; 서울시 서초구 마방로 60 60 Mabang-Ro, Seocho-Ku, Seoul 06775, KR
Prioritätsdaten:
10-2017-011606911.09.2017KR
10-2017-011610811.09.2017KR
Titel (EN) POROUS POLYURETHANE POLISHING PAD AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) TAMPON DE POLISSAGE EN POLYURÉTHANE POREUX ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(KO) 다공성 폴리우레탄 연마패드 및 이의 제조방법
Zusammenfassung:
(EN) An embodiment relates to a porous polyurethane polishing pad used in a chemical mechanical planarization process of a semiconductor, and a method for manufacturing the same, wherein polishing performance of the porous polyurethane polishing pad can be controlled by controlling the size and distribution of pores by using thermally expanded microcapsules as a solid phase forming agent, and an inert gas as a gas phase foaming agent.
(FR) Un mode de réalisation de l'invention concerne un tampon de polissage en polyuréthane poreux utilisé dans un procédé de planarisation mécano-chimique d'un semi-conducteur, et son procédé de fabrication, la performance de polissage du tampon de polissage en polyuréthane poreux pouvant être contrôlée en contrôlant la taille et de la distribution des pores grâce à l'utilisation de microcapsules thermiquement expansées en tant qu'agent de formation de phase solide, et d'un gaz inerte en tant qu'agent moussant en phase gazeuse.
(KO) 구현예는 반도체의 화학적 기계적 평탄화 공정에 사용되는 다공성 폴리우레탄 연마패드 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 상기 다공성 폴리우레탄 연마패드는 고상 발포제인 열팽창된 마이크로 캡슐 및 기상 발포제인 불활성 기체를 사용하여 포어의 크기 및 분포를 조절함으로써, 연마성능을 조절할 수 있다.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Koreanisch (KO)
Anmeldesprache: Koreanisch (KO)