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1. (WO2019049830) FILTER DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING FILTER DEVICE
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Veröff.-Nr.: WO/2019/049830 Internationale Anmeldenummer PCT/JP2018/032630
Veröffentlichungsdatum: 14.03.2019 Internationales Anmeldedatum: 03.09.2018
IPC:
H03H 9/145 (2006.01) ,H03H 3/08 (2006.01) ,H03H 9/64 (2006.01)
H Elektrotechnik
03
Grundlegende elektronische Schaltkreise
H
Scheinwiderstandsnetzwerke, z.B. Resonanzkreise; Resonatoren
9
Netzwerke mit elektromechanischen oder elektroakustischen Bauelementen; elektromechanische Resonatoren
02
Einzelheiten
125
Vorrichtungen zum Antreiben, z.B. Elektroden, Spulen
145
für Netzwerke, die akustische Oberflächenwellen verwenden
H Elektrotechnik
03
Grundlegende elektronische Schaltkreise
H
Scheinwiderstandsnetzwerke, z.B. Resonanzkreise; Resonatoren
3
Apparate oder Verfahren, die vorzugsweise für die Herstellung von Scheinwiderstandsnetzwerken, Resonanzkreisen oder Resonatoren geeignet sind
007
für die Herstellung elektromechanischer Resonatoren oder Netzwerke
08
für die Herstellung von Resonatoren oder Netzwerken, die akustische Oberflächenwellen verwenden
H Elektrotechnik
03
Grundlegende elektronische Schaltkreise
H
Scheinwiderstandsnetzwerke, z.B. Resonanzkreise; Resonatoren
9
Netzwerke mit elektromechanischen oder elektroakustischen Bauelementen; elektromechanische Resonatoren
46
Filter
64
unter Verwendung von akustischen Oberflächenwellen
Anmelder:
株式会社村田製作所 MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 京都府長岡京市東神足1丁目10番1号 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555, JP
Erfinder:
高峰 裕一 TAKAMINE, Yuichi; JP
Vertreter:
吉川 修一 YOSHIKAWA, Shuichi; JP
傍島 正朗 SOBAJIMA, Masaaki; JP
Prioritätsdaten:
2017-17056705.09.2017JP
Titel (EN) FILTER DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING FILTER DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FILTRE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF DE FILTRE
(JA) フィルタ装置およびフィルタ装置の製造方法
Zusammenfassung:
(EN) This filter device (1) is provided with: a substrate (50) which has piezoelectricity; a first filter (10) which comprises an IDT electrode (52) that is provided on the substrate (50); an electrode (30a) for terminals, which is provided on the substrate (50); a first wiring electrode (41) which is provided on the substrate (50) and connects the first filter (10) and the electrode (30a) for terminals with each other; and a dielectric film (61) which is provided on the substrate (50) so as to cover the IDT electrode (52). At least a part of the first wiring electrode (41) is not covered by the dielectric film (61).
(FR) Ce dispositif de filtre (1) comprend : un substrat (50) qui présente une piézoélectricité ; un premier filtre (10) qui comprend une électrode IDT (52) qui est disposée sur le substrat (50) ; une électrode (30a) pour des bornes, qui est disposée sur le substrat (50) ; une première électrode de câblage (41) qui est disposée sur le substrat (50) et connecte le premier filtre (10) et l'électrode (30a) pour des bornes l'un à l'autre ; et un film diélectrique (61) qui est disposé sur le substrat (50) de manière à recouvrir l'électrode IDT (52). Au moins une partie de la première électrode de câblage (41) n'est pas recouverte par le film diélectrique (61).
(JA) フィルタ装置(1)は、圧電性を有する基板(50)と、基板(50)上に設けられたIDT電極(52)を含む第1フィルタ(10)と、基板(50)上に設けられた端子用電極(30a)と、基板(50)上に設けられ、第1フィルタ(10)と端子用電極(30a)とをつなぐ第1の配線電極(41)と、IDT電極(52)を覆うように基板(50)上に設けられた誘電体膜(61)とを備える。第1の配線電極(41)の少なくとも一部は、誘電体膜(61)に覆われていない。
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Afrikanische regionale Organisation für geistiges Eigentum (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasisches Patentamt (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPA) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Japanisch (JA)
Anmeldesprache: Japanisch (JA)