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1. (WO2019049795) COMPOSITION, FILM, METHOD FOR FORMING FILM, AND METHOD FOR PRODUCING PATTERNED SUBSTRATE
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Veröff.-Nr.: WO/2019/049795 Internationale Anmeldenummer PCT/JP2018/032434
Veröffentlichungsdatum: 14.03.2019 Internationales Anmeldedatum: 31.08.2018
IPC:
C09D 201/02 (2006.01) ,C07D 317/46 (2006.01) ,C07D 317/54 (2006.01) ,C07D 317/64 (2006.01) ,C07D 405/14 (2006.01) ,C08L 101/06 (2006.01) ,C09D 5/00 (2006.01) ,G03F 7/11 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 7/26 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
09
Farbstoffe; Anstrichstoffe; Polituren; Naturharze; Klebstoffe; Zusammensetzungen, soweit nicht anderweitig vorgesehen; Anwendungen von Stoffen, soweit nicht anderweitig vorgesehen
D
Überzugsmittel, z.B. Anstrichstoffe, Firnisse oder Lacke; Spachtelmassen; Chemische Anstrich- oder Tinten-Entferner; Tinten; Korrekturflüssigkeiten; Holzbeizen; Pasten oder Feststoffe zum Färben oder Drucken; Verwendung von Materialien zu diesem Zweck
201
Überzugsmittel auf der Basis von nicht näher gekennzeichneten makromolekularen Verbindungen
02
gekennzeichnet durch die Anwesenheit bestimmter Gruppen
C Chemie; Hüttenwesen
07
Organische Chemie
D
Heterocyclische Verbindungen
317
Heterocyclische Verbindungen, die fünfgliedrige Ringe mit zwei Sauerstoffatomen als einzige Ring- Heteroatome enthalten
08
mit den Heteroatomen in 1,3-Stellung
44
ortho- oder peri-kondensiert mit carbocyclischen Ringen oder Ringsystemen
46
kondensiert mit 1 sechsgliedrigen Ring
C Chemie; Hüttenwesen
07
Organische Chemie
D
Heterocyclische Verbindungen
317
Heterocyclische Verbindungen, die fünfgliedrige Ringe mit zwei Sauerstoffatomen als einzige Ring- Heteroatome enthalten
08
mit den Heteroatomen in 1,3-Stellung
44
ortho- oder peri-kondensiert mit carbocyclischen Ringen oder Ringsystemen
46
kondensiert mit 1 sechsgliedrigen Ring
48
Methylendioxybenzole oder hydrierte Methylendioxybenzole, die am Heteroring nicht substituiert sind
50
wobei nur Wasserstoffatome, Kohlenwasserstoffreste oder substituierte Kohlenwasserstoffreste direkt an Atome des carbocyclischen Ringes gebunden sind
54
durch Sauerstoffatome substituierte Reste
C Chemie; Hüttenwesen
07
Organische Chemie
D
Heterocyclische Verbindungen
317
Heterocyclische Verbindungen, die fünfgliedrige Ringe mit zwei Sauerstoffatomen als einzige Ring- Heteroatome enthalten
08
mit den Heteroatomen in 1,3-Stellung
44
ortho- oder peri-kondensiert mit carbocyclischen Ringen oder Ringsystemen
46
kondensiert mit 1 sechsgliedrigen Ring
48
Methylendioxybenzole oder hydrierte Methylendioxybenzole, die am Heteroring nicht substituiert sind
62
mit direkt an Atome des carbocyclischen Rings gebundenen Heteroatomen oder Kohlenstoffatomen mit drei Bindungen zu Heteroatomen, von denen aber höchstens eine eine Bindung zu einem Halogenatom ist, z.B. Ester- oder Nitrilgruppen
64
Sauerstoffatome
C Chemie; Hüttenwesen
07
Organische Chemie
D
Heterocyclische Verbindungen
405
Heterocyclische Verbindungen, die sowohl einen oder mehrere Heteroringe mit Sauerstoffatomen als einzige Ring-Heteroatome als auch einen oder mehrere Ringe mit Stickstoffatomen als einzige Ring-Heteroatome enthalten
14
drei oder mehr Heteroringe enthaltend
C Chemie; Hüttenwesen
08
Organische makromolekulare Verbindungen; deren Herstellung oder chemische Verarbeitung; Massen auf deren Basis
L
Massen auf Basis makromolekularer Verbindungen
101
Massen auf Basis von nicht näher gekennzeichneten makromolekularen Verbindungen
02
durch das Vorliegen bestimmter Gruppen gekennzeichnet
06
Sauerstoffatome enthaltend
C Chemie; Hüttenwesen
09
Farbstoffe; Anstrichstoffe; Polituren; Naturharze; Klebstoffe; Zusammensetzungen, soweit nicht anderweitig vorgesehen; Anwendungen von Stoffen, soweit nicht anderweitig vorgesehen
D
Überzugsmittel, z.B. Anstrichstoffe, Firnisse oder Lacke; Spachtelmassen; Chemische Anstrich- oder Tinten-Entferner; Tinten; Korrekturflüssigkeiten; Holzbeizen; Pasten oder Feststoffe zum Färben oder Drucken; Verwendung von Materialien zu diesem Zweck
5
Überzugsmittel, z.B. Anstrichstoffe, Firnisse oder Lacke, gekennzeichnet durch ihre physikalische Beschaffenheit oder die hervorgerufenen Wirkungen; Spachtelmassen
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
004
Lichtempfindliche Materialien
09
gekennzeichnet durch Einzelheiten des Aufbaus, z.B. Schichtträger, Hilfsschichten
11
mit Deck- oder Zwischenschichten, z.B. Trennschichten
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
26
Verarbeitung von lichtempfindlichen Materialien; Vorrichtungen dafür
Anmelder:
JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目9番2号 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
Erfinder:
中津 大貴 NAKATSU Hiroki; JP
高梨 和憲 TAKANASHI Kazunori; JP
酒井 一憲 SAKAI Kazunori; JP
松村 裕史 MATSUMURA Yuushi; JP
中川 大樹 NAKAGAWA Hiroki; JP
Vertreter:
天野 一規 AMANO Kazunori; JP
Prioritätsdaten:
2017-17255907.09.2017JP
Titel (EN) COMPOSITION, FILM, METHOD FOR FORMING FILM, AND METHOD FOR PRODUCING PATTERNED SUBSTRATE
(FR) COMPOSITION, FILM, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT À MOTIFS
(JA) 組成物、膜、膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法
Zusammenfassung:
(EN) The purpose of the invention is to provide: a composition capable of forming a film exhibiting excellent flatness, wet peeling resistance, and pattern bending resistance while maintaining solvent resistance; a film; a method for forming a film; and a method for producing a patterned substrate. The present invention pertains to a composition containing a solvent and a compound having a group represented by formula (1), having a molecular weight of at least 200, and having a carbon atom content of at least 40 mass%. In formula (1), R1 and R2 are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a C1-20 monovalent hydrocarbon group or C1-20 monovalent fluorinated hydrocarbon group, or a portion of an alicyclic structure which has 3-20 ring members and in which these groups are combined with each other together with carbon atoms bonded to these groups. Ar1 is a group obtained by removing (n+3) hydrogen atoms from an arene or heteroarene having 6-20 ring members. X is an oxygen atom, -CR3R4-, -CR3R4-O- or -O-CR3R4-.
(FR) L'objectif de l'invention est de fournir : une composition apte à former un film présentant une excellente planéité, une excellente résistance au pelage humide, et une résistance à la flexion de motif tout en maintenant la résistance aux solvants ; un film ; un procédé de formation d'un film ; et un procédé de production d'un substrat à motifs. À cet effet, la présente invention concerne une composition contenant un solvant et un composé ayant un groupe représenté par la formule (1), ayant un poids moléculaire d'au moins 200, et ayant une teneur en atomes de carbone d'au moins 40 % en masse. Dans la formule (1), R1 et R2 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène, un atome de fluor, un groupe hydrocarboné monovalent en C1-20 ou un groupe hydrocarboné fluoré monovalent en C1-20, ou une partie d'une structure alicyclique qui possède 3 à 20 éléments cycliques et dans laquelle ces groupes sont combinés les uns aux autres par des atomes de carbone liés à ces groupes. Ar1 est un groupe obtenu par élimination de (n +3) atomes d'hydrogène d'un arène ou d'un hétéroarène ayant 6 à 20 chaînons de cycle. X est un atome d'oxygène, -CR3R4-, -CR3R4-O- ou -O-CR3R4-.
(JA) 溶媒耐性を維持しつつ、平坦性、ウェット剥離耐性及びパターンの曲り耐性に優れる膜を形成できる組成物、膜、膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法の提供を目的とする。本発明は、下記式(1)で表される基を有し、分子量が200以上であり、炭素原子の含有率が40質量%以上である化合物と、溶媒とを含有する組成物である。下記式(1)中、R及びRは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数1~20の1価の炭化水素基若しくは炭素数1~20の1価のフッ素化炭化水素基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3~20の脂環構造の一部である。Arは、環員数6~20のアレーン又はヘテロアレーンから(n+3)個の水素原子を除いた基である。Xは、酸素原子、-CR-、-CR-O-又は-O-CR-である。
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Japanisch (JA)
Anmeldesprache: Japanisch (JA)