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1. (WO2019048670) GASEINLASSORGAN FÜR EINEN CVD- ODER PVD-REAKTOR
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Veröff.-Nr.: WO/2019/048670 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/074286
Veröffentlichungsdatum: 14.03.2019 Internationales Anmeldedatum: 10.09.2018
IPC:
C23C 16/455 (2006.01) ,H01J 37/32 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
16
Chemisches Beschichten durch Zersetzen gasförmiger Verbindungen ohne Verbleiben von Reaktionsprodukten des Oberflächenmaterials im Überzug, d.h. Verfahren zur chemischen Abscheidung aus der Dampfphase [chemical vapour deposition = CVD]
44
gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
455
gekennzeichnet durch das Verfahren zum Einführen von Gasen in den Reaktionsraum oder zum Modifizieren von Gasströmungen im Reaktionsraum
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
J
Elektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37
Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
32
Gasgefüllte Entladungsröhren
Anmelder:
AIXTRON SE [DE/DE]; Dornkaulstraße 2 52134 Herzogenrath, DE
Erfinder:
JIANG, Honggen; GB
CRAWLEY, Fred Michael Andrew; GB
O'DOWD, James; GB
Vertreter:
GRUNDMANN, Dirk; DE
MÜLLER, Enno; DE
RIEDER, Hans-Joachim; DE
BRÖTZ, Helmut; DE
BOURREE, Hendrik; DE
Prioritätsdaten:
20 2017 105 481.011.09.2017DE
Titel (EN) GAS INLET ELEMENT FOR A CVD OR PVD REACTOR
(FR) ÉLÉMENT D’ENTRÉE DE GAZ POUR REACTEUR CVD OU PVD
(DE) GASEINLASSORGAN FÜR EINEN CVD- ODER PVD-REAKTOR
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to a gas inlet element (2) for a CVD or PVD reactor (1) having a base plate (7), the broad side (7’) of which is adjacent to an edge (18) on a narrow side (7′'), having a plurality of gas outlet openings (16, 16’'), wherein at least one coolant receiving cavity (13) is arranged in the base plate (7), said coolant receiving cavity being spaced apart from the broad side (7 ') by a first cavity wall (13'). In order to further develop a generic gas inlet element in a use-advantageous manner and, in particular, to take measures in order to reduce the mechanical stress in the base plate which forms during the heating process, a recess (12) which is open towards the broad side (7’) is arranged between the edge (18) and the first cavity wall (13’) formed by a plate which is connected to a base body (19) of the base plate (7) by means of a weld seam (9).
(FR) L’invention concerne un élément d’entrée de gaz (2), destiné à un réacteur CVD ou PVD (1), comprenant une plaque inférieure (7) dont le côté large (7’), adjacent à un bord (18) situé au niveau d’un petit côté (7’’), comporte une pluralité d’orifices de sortie de gaz (16, 16’). Au moins une cavité de réception d’agent de refroidissement, espacée du côté large (7’) par une première paroi de cavité (13’), est ménagée dans la plaque inférieure (7). Pour perfectionner avantageusement en utilisation un élément d’entrée de gaz générique et en particulier pour prendre des mesures permettant de réduire la contrainte mécanique, générée pendant le chauffage, dans la plaque inférieure, il est proposé de ménager un évidement (12) ouvert en direction du côté large (7’) et placé entre le bord (18) et la première paroi de cavité (13’) formée par une plaque qui est reliée par une soudure (9) à un corps de base (19) de la plaque inférieure (7).
(DE) Die Erfindung betrifft ein Gaseinlassorgan (2) für einen CVD-oder PVD- Reaktor (1) mit einer Bodenplatte (7), deren mit einem Rand (18) an einer Schmalseite (7'') angrenzende Breitseite (7') eine Vielzahl von Gasaustrittsöffnungen (16, 16') aufweist, wobei in der Bodenplatte (7) zumindest eine Kühlmittel-Aufnahmehöhlung (13) angeordnet ist, die durch eine erste Höhlungswand (13') von der Breitseite (7') beabstandet ist. Um ein gattungsgemäßes Gaseinlassorgan gebrauchsvorteilhaft weiterzubilden und insbesondere Maßnahmen zu ergreifen, um den sich bei der Aufheizung ausbildenden mechanischen Stress in der Bodenplatte zu vermindern, wird eine zur Breitseite (7') hin offene, zwischen dem Rand (18) und der von einer Platte die mit einer Schweißnaht (9) mit einem Grundkörper (19) der Bodenplatte (7) verbunden ist, gebildeten ersten Höhlungswand (13') angeordnete Ausnehmung (12) vorgeschlagen.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)