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1. (WO2019048200) OPTISCHES SYSTEM FÜR EINE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
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Veröff.-Nr.: WO/2019/048200 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/072118
Veröffentlichungsdatum: 14.03.2019 Internationales Anmeldedatum: 15.08.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
Anmelder:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Erfinder:
WINKLER, Alexander; DE
LENZ, Daniel; DE
ZIMMERMANN, Jörg; DE
Vertreter:
CARL ZEISS SMT GMBH; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Prioritätsdaten:
10 2017 215 664.306.09.2017DE
Titel (EN) OPTICAL SYSTEM FOR A PROJECTION EXPOSURE SYSTEM
(FR) SYSTÈME OPTIQUE CONÇU POUR UN DISPOSITIF DE LITHOGRAPHIE PAR PROJECTION
(DE) OPTISCHES SYSTEM FÜR EINE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to an optical system for a projection exposure system, comprising an entrance pupil and/or an exit pupil, the entrance pupil and/or the exit pupil having an area A and a center point M and there being at least three regions in the entrance pupil and/or the exit pupil with r' > r(A), r' being the distance to the center point M and r(A) being the radius of a circle having the area A, and the at least three regions not being contiguous with each other.
(FR) L'invention concerne un système optique conçu pour un dispositif de lithographie par projection comprenant une pupille d'entrée et/ou une pupille de sortie, la pupille d'entrée et/ou la pupille de sortie présentant une superficie (A) et un centre (M), et la pupille d'entrée et/ou la pupille de sortie comportant au moins trois zones pour lesquelles r` > r (A) où r` représente la distance jusqu'au centre (M) et où r(A) représente le centre d'un cercle de superficie (A), ces trois zones m'étant pas continues.
(DE) Die Erfindung betrifft ein optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage mit einer Eintrittspupille und/oder einer Austrittspupille, wobei die Eintrittspupille und/oder die Austrittspupille einen Flächeninhalt A und einen Mittelpunkt M aufweist und es mindestens drei Bereiche in der Eintrittspupille und/oder der Austrittspupille mit r` > r (A) gibt, wobei r` der Abstand zum Mittelpunkt M ist und wobei r(A) der Radius eines Kreises mit dem Flächeninhalt A ist, und die mindestens drei Bereiche untereinander nicht zusammenhängend sind.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)