Einige Inhalte dieser Anwendung sind momentan nicht verfügbar.
Wenn diese Situation weiterhin besteht, kontaktieren Sie uns bitte unterFeedback&Kontakt
1. (WO2019048191) OPTISCHES SYSTEM, OPTISCHE ANORDNUNG UND LITHOGRAPHIEANLAGE
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten    Einwendung einreichen

Veröff.-Nr.: WO/2019/048191 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/071944
Veröffentlichungsdatum: 14.03.2019 Internationales Anmeldedatum: 13.08.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 17/06 (2006.01)
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
17
Systeme mit reflektierenden Flächen, mit oder ohne brechende Elemente
02
Planflächen-Systeme, z.B. Bildaufrichtungs- und -umkehrsysteme
06
nur mit Spiegeln
Anmelder:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Erfinder:
DEUFEL, Peter; DE
XALTER, Stefan; DE
KULITZKI, Viktor; DE
Vertreter:
HORN KLEIMANN WAITZHOFER PATENTANWÄLTE PARTG MBB; Ganghoferstr. 29a 80339 München, DE
Prioritätsdaten:
10 2017 215 544.205.09.2017DE
Titel (EN) OPTICAL SYSTEM, OPTICAL ASSEMBLY, AND LITHOGRAPHY UNIT
(FR) SYSTÈME OPTIQUE, DISPOSITIF OPTIQUE ET INSTALLATION DE LITHOGRAPHIE
(DE) OPTISCHES SYSTEM, OPTISCHE ANORDNUNG UND LITHOGRAPHIEANLAGE
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to an optical system (200) for a lithography unit (100A, 100B), having: a first mirror (202); a second mirror (206) which, together with the first mirror (202), defines a beam path (204) and also has a hole (208), the optical system (200) being designed such that working light (210) falls through the hole (208) onto the first mirror (202), working light (210) being reflectable from the first mirror (202) onto the second mirror (206) and from the second mirror (206) to a target object (212); an obscuring diaphragm (222) which is situated in the beam path (204) between the first mirror (202) and the second mirror (206); and an aperture diaphragm (224) which has a first aperture diaphragm segment (226) and a second aperture diaphragm segment (228). The first aperture diaphragm segment (226) is designed to partially shadow working light (210) which is reflectable from the first mirror (202) to the second mirror (206), and the second aperture diaphragm segment (228) is designed to partially shadow working light (210) which is reflectable from the second mirror (206) to the target object (212). The first aperture diaphragm segment (226) and the second aperture diaphragm segment (228) are spaced from each other in the direction (R1) from the first mirror (202) to the second mirror (206).
(FR) L’invention concerne un système optique (200) pour une installation de lithographie (100A, 100B), comprenant un premier miroir (202), un deuxième miroir (206) qui définit un chemin optique (204) avec le premier miroir (202) et qui comprend en outre une percée (208), le système optique (200) étant configuré pour que de la lumière de travail (210) tombe à travers la percée (208) sur le premier miroir (202), la lumière de travail (210) étant réfléchie par le premier miroir (202) vers le deuxième miroir (206) et par le deuxième miroir (206) vers un objet cible (212), un diaphragme d’obscuration (222), lequel est disposé sur le chemin optique (204) entre le premier miroir (202) et le deuxième miroir (206), et un diaphragme d’ouverture (224), lequel comprend un premier segment de diaphragme d’ouverture (226) et un deuxième segment de diaphragme d’ouverture (228), le premier segment de diaphragme d’ouverture (226) étant configuré pour ombrer sur au moins une partie de la circonférence de la lumière de travail (210) qui est réfléchie par le premier miroir (202) vers le deuxième miroir (206) et le deuxième segment de diaphragme d’ouverture (228) etant configuré pour ombrer sur au moins une partie de la circonférence de la lumière de travail (210) qui est réfléchie par le deuxième miroir (206) vers l’objet cible (212), le premier segment de diaphragme d’ouverture (226) et le deuxième segment de diaphragme d’ouverture (228) étant espacés l’un de l’autre dans une direction (R1) du premier miroir (202) vers le deuxième miroir (206).
(DE) Offenbart wird ein optisches System (200) für eine Lithographieanlage (100A, 100B), mit einem ersten Spiegel (202), einem zweiten Spiegel (206), der einen Strahlengang (204) zusammen mit dem ersten Spiegel (202) definiert und ferner einen Durchbruch (208) aufweist, wobei das optische System (200) dazu eingerichtet ist, dass Arbeitslicht (210) durch den Durchbruch (208) auf den ersten Spiegel (202) fällt, wobei Arbeitslicht (210) von dem ersten Spiegel (202) auf den zweiten Spiegel (206) und von dem zweiten Spiegel (206) zu einem Zielobjekt (212) reflektierbar ist, einer Obskurationsblende (222), welche innerhalb des Strahlengangs (204) zwischen dem ersten Spiegel (202) und dem zweiten Spiegel (206) angeordnet ist, und einer Aperturblende (224), welche ein erstes Aperturblendensegment (226) und ein zweites Aperturblendensegment (228) aufweist, wobei das erste Aperturblendensegment (226) dazu eingerichtet ist, teilumfänglich Arbeitslicht (210), das von dem ersten Spiegel (202) zu dem zweiten Spiegel (206) reflektierbar ist, und das zweite Aperturblendensegment (228) dazu eingerichtet ist, teilumfänglich Arbeitslicht (210), das von dem zweiten Spiegel (206) zu dem Zielobjekt (212) reflektierbar ist, abzuschatten, wobei das erste Aperturblendensegment (226) und das zweite Aperturblendensegment (228) in Richtung (R1) von dem ersten Spiegel (202) zu dem zweiten Spiegel (206) beabstandet voneinander sind.
front page image
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)