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1. (WO2019043918) FIELD-EFFECT TRANSISTOR
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Veröff.-Nr.: WO/2019/043918 Internationale Anmeldenummer PCT/JP2017/031625
Veröffentlichungsdatum: 07.03.2019 Internationales Anmeldedatum: 01.09.2017
IPC:
H01L 21/336 (2006.01) ,H01L 21/338 (2006.01) ,H01L 29/78 (2006.01) ,H01L 29/812 (2006.01)
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
21
Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von Halbleiter- oder Festkörperbauelementen oder Teilen davon
02
Herstellung oder Behandlung von Halbleiterbauelementen oder Teilen davon
04
Bauelemente mit mindestens einer Potenzialsprung-Sperrschicht oder Oberflächensperrschicht, z.B. PN-Übergang, Verarmungsschicht, Anreicherungsschicht
18
Bauelemente mit Halbleiterkörpern aus Elementen der Gruppe IV des Periodensystems oder AIIIBV-Verbindungen mit oder ohne Fremdstoffe, z.B. Dotierungsmaterialien
334
Mehrstufenprozess zur Herstellung von unipolaren Bauelementen
335
Feldeffekt-Transistoren
336
mit einem isolierten Gate
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
21
Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von Halbleiter- oder Festkörperbauelementen oder Teilen davon
02
Herstellung oder Behandlung von Halbleiterbauelementen oder Teilen davon
04
Bauelemente mit mindestens einer Potenzialsprung-Sperrschicht oder Oberflächensperrschicht, z.B. PN-Übergang, Verarmungsschicht, Anreicherungsschicht
18
Bauelemente mit Halbleiterkörpern aus Elementen der Gruppe IV des Periodensystems oder AIIIBV-Verbindungen mit oder ohne Fremdstoffe, z.B. Dotierungsmaterialien
334
Mehrstufenprozess zur Herstellung von unipolaren Bauelementen
335
Feldeffekt-Transistoren
338
mit einem Schottky-Gate
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
29
Halbleiterbauelemente, besonders ausgebildet zum Gleichrichten, Verstärken, Schalten oder zur Schwingungserzeugung mit wenigstens einer Potenzialsprung-Sperrschicht oder Oberflächensperrschicht; Kondensatoren oder Widerstände mit wenigstens einer Potenzialsprung-Sperrschicht oder Oberflächensperrschicht, z.B. PN-Übergang mit Verarmungs- oder Anreicherungsschicht; Einzelheiten von Halbleiterkörpern oder von Elektroden auf diesen Halbleiterkörpern
66
Typen von Halbleiterbauelementen
68
steuerbar allein durch den einer Elektrode, die nicht den gleichzurichtenden, zu verstärkenden oder zu schaltenden Strom führt, zugeführten elektrischen Strom oder durch das an eine solche Elektrode angelegte elektrische Potenzial
76
Unipolar-Bauelemente
772
Feldeffekt-Transistoren
78
mit Feldeffekt, der durch ein isoliertes Gate hervorgerufen ist
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
29
Halbleiterbauelemente, besonders ausgebildet zum Gleichrichten, Verstärken, Schalten oder zur Schwingungserzeugung mit wenigstens einer Potenzialsprung-Sperrschicht oder Oberflächensperrschicht; Kondensatoren oder Widerstände mit wenigstens einer Potenzialsprung-Sperrschicht oder Oberflächensperrschicht, z.B. PN-Übergang mit Verarmungs- oder Anreicherungsschicht; Einzelheiten von Halbleiterkörpern oder von Elektroden auf diesen Halbleiterkörpern
66
Typen von Halbleiterbauelementen
68
steuerbar allein durch den einer Elektrode, die nicht den gleichzurichtenden, zu verstärkenden oder zu schaltenden Strom führt, zugeführten elektrischen Strom oder durch das an eine solche Elektrode angelegte elektrische Potenzial
76
Unipolar-Bauelemente
772
Feldeffekt-Transistoren
80
mit Feldeffekt, der durch ein Gate mit PN-Übergang oder einen anderen gleichrichtenden Übergang hervorgerufen ist
812
mit Schottky-Gate
Anmelder:
三菱電機株式会社 MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内二丁目7番3号 7-3, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008310, JP
Erfinder:
渡辺 伸介 WATANABE, Shinsuke; JP
Vertreter:
高田 守 TAKADA, Mamoru; JP
高橋 英樹 TAKAHASHI, Hideki; JP
Prioritätsdaten:
Titel (EN) FIELD-EFFECT TRANSISTOR
(FR) TRANSISTOR À EFFET DE CHAMP
(JA) 電界効果トランジスタ
Zusammenfassung:
(EN) The field-effect transistor according to the present invention is provided with: a semiconductor substrate; a plurality of drain electrodes provided on a first surface of the semiconductor substrate, the drain electrodes extending in a first direction; a plurality of source electrodes arranged alternately with respect to the plurality of drain electrodes; a plurality of gate electrodes, each of which is provided between the plurality of source electrodes and the plurality of drain electrodes; an input terminal connected to the plurality of gate electrodes; an output terminal connected to the plurality of drain electrodes; and a plurality of metal layers provided to the semiconductor substrate so as to be set apart from the first surface, the metal layers extending in a second direction intersecting the first direction. The plurality of metal layers include a first metal layer, and a second metal layer that is longer than the first metal layer and intersects more drain electrodes than does the first metal layer when viewed from a direction perpendicular to the first surface. From among the plurality of drain electrodes, drain electrodes having a greater line length from the input terminal to the output terminal have more metal layers provided immediately below the drain electrodes.
(FR) La présente invention concerne un transistor à effet de champ comprenant : un substrat semi-conducteur ; une pluralité d'électrodes drain disposées sur une première surface du substrat semi-conducteur et s'étendant dans une première direction ; une pluralité d'électrodes source disposées en alternance relativement à la pluralité d'électrodes drain ; une pluralité d'électrodes grille disposées chacune entre la pluralité d'électrodes source et la pluralité d'électrodes drain ; une borne d'entrée reliée à la pluralité d'électrodes grille ; une borne de sortie reliée à la pluralité d'électrodes drain ; et une pluralité de couches métalliques disposées sur le substrat semi-conducteur de façon à être espacées de la première surface, les couches métalliques s'étendant dans une seconde direction croisant la première direction. La pluralité de couches métalliques comprennent une première couche métallique, et une seconde couche métallique qui est plus longue que la première couche métallique et qui croise plus d'électrodes drain que la première couche métallique vues depuis une direction perpendiculaire à la première surface. Certaines électrodes drain de la pluralité d'électrodes drain dont la longueur de ligne de la borne d'entrée à la borne de sortie est supérieure présentent davantage de couches métalliques disposées directement sous les électrodes drain.
(JA) 本願の発明に係る電界効果トランジスタは、半導体基板と、半導体基板の第1面に設けられ、第1方向に伸びる複数のドレイン電極と、複数のドレイン電極と互いに交互に並ぶ複数のソース電極と、複数のソース電極と複数のドレイン電極との間にそれぞれ設けられた複数のゲート電極と、複数のゲート電極と接続された入力端子と、複数のドレイン電極と接続された出力端子と、半導体基板に第1面と離れて設けられ、第1方向と交差する第2方向に伸びる複数の金属層と、を備え、複数の金属層は、第1金属層と、第1金属層よりも長く、第1面と垂直な方向から見て第1金属層よりも多くのドレイン電極と交差する第2金属層と、を含み、複数のドレイン電極のうち入力端子から出力端子までの線路長が短いドレイン電極ほど、直下に多くの金属層が設けられる。
front page image
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Japanisch (JA)
Anmeldesprache: Japanisch (JA)