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1. (WO2019042946) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR FORMUNG VON LASER-STRAHLUNG FÜR EINE MATERIALBEARBEITUNG
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Veröff.-Nr.: WO/2019/042946 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/073044
Veröffentlichungsdatum: 07.03.2019 Internationales Anmeldedatum: 27.08.2018
IPC:
B23K 26/067 (2006.01)
B Arbeitsverfahren; Transportieren
23
Werkzeugmaschinen; Metallbearbeitung, soweit nicht anderweitig vorgesehen
K
Löten; Schweißen; Beschichten oder Plattieren durch Löten oder Schweißen; Schneiden durch örtliches Zuführen von Hitze, z.B. Brennschneiden; Arbeiten mit Laserstrahlen
26
Bearbeitung durch Laserstrahlen z.B. Schweißen, Schneiden, Bohren
02
Positionieren oder Beobachten des Werkstückes, z.B. im Hinblick auf den Auftreffpunkt; Ausrichten oder Fokussieren der Laserstrahlen
06
Formen der Laserstrahlen, z.B. mittels Masken oder Mehrfach-Fokussierung
067
Teilen des Laserstrahls in mehrere Strahlen, z.B. Mehrfach-Fokussierung
Anmelder:
ROBERT BOSCH GMBH [DE/DE]; Postfach 30 02 20 70442 Stuttgart, DE
Erfinder:
MIKHAYLOV, Dmitriy; DE
GAUCH, Roland; DE
GRAF, Tobias; DE
Prioritätsdaten:
10 2017 215 025.428.08.2017DE
Titel (EN) DEVICE AND METHOD FOR SHAPING LASER RADIATION FOR MACHINING MATERIAL
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ POUR FORMER UN RAYONNEMENT LASER POUR UN USINAGE DE MATÉRIAUX
(DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR FORMUNG VON LASER-STRAHLUNG FÜR EINE MATERIALBEARBEITUNG
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to a device for shaping coherent radiation of a laser source for the machining of material by means of at least one diffractive beam shaper. According to the invention, at least one first and one second laser source are provided for generating an intensity pattern in the far field, the first and the second laser sources being incoherent with respect to each other. The device according to the invention enables the generation of intensity patterns having structure sizes that are less than those that would correspond to twice the divergence angle of the laser source.
(FR) L'invention concerne un dispositif pour former un rayonnement cohérent d'une source laser pour l'usinage de matériaux au moyen d'au moins un dispositif de formation de faisceau diffractif. Selon l'invention, au moins une première et une deuxième source laser sont prévues pour générer un motif d'intensité dans le champ lointain, cette première et cette deuxième source laser étant incohérentes l'une par rapport à l'autre. Le dispositif selon l'invention permet de générer des motifs d'intensité présentant des tailles de structure qui sont inférieures à ce qui correspond au double de l'angle de divergence de la source laser.
(DE) Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Formung von kohärenter Strahlung einer Laserquelle zur Materialbearbeitung mittels zumindest einem diffraktiven Strahlformer. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass zumindest eine erste und eine zweite Laserquelle zur Erzeugung eines Intensitätsmusters im Fernfeld vorgesehen sind, wobei die erste und die zweite Laserquelle zueinander inkohärent sind. Die erfindungsgemäße Vorrichtung ermöglicht die Erzeugung von Intensitätsmustern mit Strukturgrößen, die kleiner sind als dies dem doppelten des Divergenzwinkels der Laserquelle entspricht.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)