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1. (WO2019042580) MIKROMECHANIKSTRUKTUR UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN DER MIKROMECHANIKSTRUKTUR
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Veröff.-Nr.: WO/2019/042580 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/000415
Veröffentlichungsdatum: 07.03.2019 Internationales Anmeldedatum: 24.08.2018
IPC:
C23C 14/08 (2006.01) ,C23C 14/34 (2006.01) ,H01L 21/02 (2006.01) ,H01L 37/02 (2006.01) ,H01L 41/316 (2013.01) ,C23C 28/04 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14
Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
06
gekennzeichnet durch das Beschichtungsmaterial
08
Oxide
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14
Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
22
gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
34
durch Aufstäuben
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
21
Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von Halbleiter- oder Festkörperbauelementen oder Teilen davon
02
Herstellung oder Behandlung von Halbleiterbauelementen oder Teilen davon
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
37
Thermoelektrische Bauelemente ohne eine Kontaktstelle zwischen ungleichen Materialien; thermomagnetische Bauelemente, z.B. unter Verwendung des Nernst-Ettinghausen-Effekts; Verfahren oder Vorrichtungen, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung dieser Bauelemente oder Teilen davon
02
unter Verwendung der Temperaturabhängigkeit der Dielektrizitätskonstante, z.B. Arbeiten über und unter dem Curiepunkt
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
41
Piezoelektrische Bauelemente allgemein; Elektrostriktive Bauelemente allgemein; Magnetostriktive Bauelemente allgemein; Verfahren oder Vorrichtungen, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung dieser Bauelemente oder von Teilen davon; Einzelheiten dieser Bauelemente; Einzelheiten dieser Bauelemente
22
Verfahren oder Vorrichtungen, besonders ausgebildet für die Fertigung, Herstellung oder Behandlung von piezoelektrischen oder elektrostriktiven Bauelementen oder Teilen davon
31
Aufbringung von piezoelektrischen oder elektrostriktiven Teilen oder Körpern auf ein elektrisches Bauelement oder eine andere Basis
314
durch Ablagerung piezoelektrischer oder elektrostriktiver Schichten, z.B. Aerosoltechnik oder Siebdruck
316
durch Gasphasenabscheidung
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
28
Beschichten zur Herstellung von mindestens zwei übereinanderliegenden Schichten entweder durch Verfahren, die nicht in einer einzelnen der Hauptgruppen C23C2/-C23C26/203
04
nur Schichten aus anorganischen nichtmetallischen Stoffen
Anmelder:
SPECTROLYTIC LTD. [GB/GB]; 1.6 Techcube, Summerhall Edinburgh EH91PL, GB
Erfinder:
WIESENT, Benjamin; GB
Vertreter:
PATERIS Patentanwälte; Postfach 33 07 11 80067 München, DE
Prioritätsdaten:
10 2017 008 146.828.08.2017DE
10 2018 004 257.026.05.2018DE
Titel (EN) MICROMECHANICAL STRUCTURE AND METHOD FOR PRODUCING THE MICROMECHANICAL STRUCTURE
(FR) STRUCTURE MICROMÉCANIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE LA STRUCTURE MICROMÉCANIQUE
(DE) MIKROMECHANIKSTRUKTUR UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN DER MIKROMECHANIKSTRUKTUR
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to a micromechanical structure comprising a substrate (1), an adhesion layer (3) which is applied onto the substrate (1); a first metal layer (4) which is applied onto the adhesion layer (3); a ferroelectric layer (5) which is applied onto the first metal layer (4) and has lead zirconate titanate and the lead concentration of which decreases in a stepped manner as the distance to the first metal layer (3) increases such that the ferroelectric layer (5) has multiple sub-layers (13), in which the respective lead concentration is consistent; and a second metal layer which is applied onto the ferroelectric layer (5).
(FR) L’invention concerne une structure micromécanique comprenant un substrat (1), une couche d’adhésion (3) appliquée sur le substrat (1) ; une première couche métallique (4) appliquée sur la couche d’adhésion (3) ; une couche ferroélectrique (5) qui est appliquée sur la première couche métallique (4), qui contient du plomb zirconium titanate et dont la concentration en plomb diminue par paliers à mesure qu’augmente la distance séparant de la première couche métallique (3) de manière telle que la couche ferroélectrique (5) présente plusieurs couches partielles (13) dont la concentration en plomb respective est uniforme ; et une deuxième couche métallique qui est appliquée sur la couche ferroélectrique (5).
(DE) Die Erfindung betrifft eine Mikromechanikstruktur mit einem Substrat (1 ), einer Adhäsionsschicht (3), die auf das Substrat (1 ) aufgebracht ist, einer ersten Metallschicht (4), die auf die Adhäsionsschicht (3) aufgebracht ist, einer ferroelektrischen Schicht (5), die auf die erste Metallschicht (4) aufgebracht ist und die Bleizirkonattitanat aufweist sowie deren Bleikonzentration stufenförmig mit zunehmenden Abstand von der ersten Metallschicht (3) abnimmt, so dass die ferroelektrische Schicht (5) mehrere Teilschichten (13) aufweist, bei denen jeweils die Bleikonzentration einheitlich ist, und einer zweiten Metallschicht, die auf die ferroelektrische Schicht (5) aufgebracht ist.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)