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1. (WO2019038407) OPTISCHE ANORDNUNG ZUM SCANNEN VON ANREGUNGSSTRAHLUNG UND/ODER MANIPULATIONSSTRAHLUNG IN EINEM LASER-SCANNING-MIKROSKOP UND LASER-SCANNING-MIKROSKOP
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Veröff.-Nr.: WO/2019/038407 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/072821
Veröffentlichungsdatum: 28.02.2019 Internationales Anmeldedatum: 23.08.2018
IPC:
G02B 21/00 (2006.01) ,G02B 21/24 (2006.01) ,G02B 27/28 (2006.01)
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
21
Mikroskope
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
21
Mikroskope
24
Grundlegender Aufbau
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
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Andere optische Systeme; andere optische Geräte
28
für die Lichtpolarisation
Anmelder:
CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH [DE/DE]; Carl-Zeiss-Promenade 10 07745 Jena, DE
Erfinder:
ANHUT, Tiemo; DE
WALD, Matthias; DE
SCHWEDT, Daniel; DE
BÖHME, Beate; DE
Vertreter:
SCHIFFER, Axel; DE
Prioritätsdaten:
10 2017 119 480.025.08.2017DE
Titel (EN) OPTICAL ASSEMBLY FOR SCANNING EXCITATION RADIATION AND/OR MANIPULATION RADIATION IN A LASER SCANNING MICROSCOPE, AND LASER SCANNING MICROSCOPE
(FR) SYSTÈME OPTIQUE POUR BALAYER UN RAYONNEMENT D'EXCITATION ET/OU UN RAYONNEMENT DE MANIPULATION DANS UN MICROSCOPE À BALAYAGE LASER ET MICROSCOPE À BALAYAGE LASER
(DE) OPTISCHE ANORDNUNG ZUM SCANNEN VON ANREGUNGSSTRAHLUNG UND/ODER MANIPULATIONSSTRAHLUNG IN EINEM LASER-SCANNING-MIKROSKOP UND LASER-SCANNING-MIKROSKOP
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to an optical assembly for scanning excitation radiation and/or manipulation radiation in a laser scanning microscope, said assembly having the following components: an optical scanning unit as a first focusing device for providing a first pupil plane, a first beam deflecting device, which is made of a first scanner arranged in the first pupil plane, for scanning the excitation radiation and/or manipulation radiation in a first coordinate direction, and a second focusing device for generating a second pupil plane, which is optically conjugated to the first pupil plane, comprising a second beam deflecting device for deflecting the excitation radiation and/or manipulation radiation, said second deflecting device being arranged in the second pupil plane. The optical assembly according to the invention is characterized in that a third focusing device is provided in order to generate a third pupil plane, which is optically conjugated to the first pupil plane, a third beam deflecting device is arranged in the third pupil plane in order to deflect the excitation radiation and/or manipulation radiation, and a variable beam deflecting means is provided in order to switch an optical beam path between a first beam path and a second beam path. Another aspect of the invention relates to a laser scanning microscope.
(FR) L'invention concerne un système optique servant à balayer un rayonnement d'excitation et/ou un rayonnement de manipulation dans un microscope à balayage laser et comprenant les éléments suivants : une optique de balayage constituant un premier dispositif de focalisation pour fournir un premier plan pupillaire, un premier dispositif de déviation de faisceau qui est formé par un premier scanner disposé dans le premier plan pupillaire pour balayer le rayonnement d'excitation et/ou le rayonnement de manipulation dans une première direction de coordonnées, un deuxième dispositif de focalisation pour générer un deuxième plan pupillaire qui est conjugué optiquement au premier plan pupillaire, ainsi qu’un deuxième dispositif de déviation de faisceau servant à dévier le rayonnement d'excitation et/ou le rayonnement de manipulation qui est disposé dans le deuxième plan pupillaire. Le système optique selon l'invention est caractérisé en ce qu'il présente un troisième dispositif de focalisation destiné à générer un troisième plan pupillaire qui est conjugué optiquement au premier plan pupillaire, en ce qu’un troisième dispositif de déviation de faisceau est disposé dans le troisième plan pupillaire pour dévier le rayonnement d'excitation et/ou le rayonnement de manipulation, et en ce qu'un moyen de déviation de faisceau variable est prévu pour faire passer un chemin optique entre un premier trajet de faisceau et un deuxième trajet de faisceau. Selon un autre aspect, l'invention concerne un microscope à balayage laser.
(DE) Die Erfindung betrifft eine optische Anordnung zum Scannen von Anregungsstrahlung und/oder Manipulationsstrahlung in einem Laser-Scanning-Mikroskop und weist folgende Komponenten auf: eine Scanoptik als erste fokussierende Einrichtung zum Bereitstellen einer ersten Pupillenebene, eine erste Strahlumlenkeinrichtung, die durch einen in der ersten Pupillenebene angeordneten ersten Scanner gebildet ist, zum Scannen der Anregungsstrahlung und/oder Manipulationsstrahlung in einer ersten Koordinatenrichtung, eine zweite fokussierende Einrichtung zum Erzeugen einer zweiten Pupillenebene, die zu der ersten Pupillenebene optisch konjugiert ist, mit einer zweiten Strahlumlenkeinrichtung zum Umlenken der Anregungsstrahlung und/oder Manipulationsstrahlung, die in der zweiten Pupillenebene angeordnet ist. Die erfindungsgemäße optische Anordnung ist dadurch gekennzeichnet,dass eine dritte fokussierende Einrichtung vorhanden ist zum Erzeugen einer dritten Pupillenebene, die zu der ersten Pupillenebene optisch konjugiert ist, dass in der dritten Pupillenebene eine dritte Strahlumlenkeinrichtung angeordnet ist zum Umlenken der Anregungsstrahlung und/oder Manipulationsstrahlung, dass ein variables Strahlumlenkmittel vorhanden ist zum Umschalten eines optischen Strahlengangs zwischen einem ersten Strahlweg und einem zweiten Strahlweg. In einem weiteren Gesichtspunkt bezieht sich die Erfindung auf ein Laser-Scanning-Mikroskop.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)