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1. (WO2019038404) OPTISCHE ANORDNUNG ZUM SCANNEN VON ANREGUNGSSTRAHLUNG UND/ODER MANIPULATIONSSTRAHLUNG IN EINEM LASER-SCANNING-MIKROSKOP UND LASER-SCANNING-MIKROSKOP
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Veröff.-Nr.: WO/2019/038404 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/072816
Veröffentlichungsdatum: 28.02.2019 Internationales Anmeldedatum: 23.08.2018
IPC:
G02B 21/00 (2006.01) ,G02B 26/10 (2006.01)
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
21
Mikroskope
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
26
Optische Vorrichtungen oder Anordnungen mit beweglichen oder verformbaren optischen Elementen zum Steuern der Intensität, Farbe, Phase, Polarisation oder Richtung von Licht, z.B. Schalten, Austasten, Modulieren
08
zum Steuern der Richtung von Licht
10
Abtastsysteme
Anmelder:
CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH [DE/DE]; Carl-Zeiss-Promenade 10 07745 Jena, DE
Erfinder:
ANHUT, Tiemo; DE
WALD, Matthias; DE
SCHWEDT, Daniel; DE
KAUFHOLD, Tobias; DE
BÖHME, Beate; DE
Vertreter:
SCHIFFER, Axel; DE
Prioritätsdaten:
10 2017 119 479.725.08.2017DE
Titel (EN) OPTICAL ASSEMBLY FOR SCANNING EXCITATION RADIATION AND/OR MANIPULATION RADIATION IN A LASER SCANNING MICROSCOPE, AND LASER SCANNING MICROSCOPE
(FR) SYSTÈME OPTIQUE POUR BALAYER UN RAYONNEMENT D'EXCITATION ET/OU UN RAYONNEMENT DE MANIPULATION DANS UN MICROSCOPE À BALAYAGE LASER ET MICROSCOPE À BALAYAGE LASER
(DE) OPTISCHE ANORDNUNG ZUM SCANNEN VON ANREGUNGSSTRAHLUNG UND/ODER MANIPULATIONSSTRAHLUNG IN EINEM LASER-SCANNING-MIKROSKOP UND LASER-SCANNING-MIKROSKOP
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to an optical assembly for scanning excitation radiation and/or manipulation radiation in a laser scanning microscope. The optical assembly according to the invention is characterized in that in addition to a first and a second focusing device, a third focusing device is provided in order to generate a third pupil plane which is optically conjugated to a first pupil plane, a third beam deflecting device is arranged on the third pupil plane in order to deflect the excitation radiation and/or manipulation radiation, a first beam deflecting means is provided between the second focusing device and the second pupil plane and the second pupil plane and the third focusing device in order to deflect the excitation radiation and/or manipulation radiation coming from the third focusing device while bypassing the second beam deflecting device in the direction of the second focusing device, a fourth focusing device is provided for generating a fourth pupil plane which is optically conjugated to the third pupil plane, and a variable second beam deflecting means is arranged on the fourth pupil plane in order to switch an optical beam path between a first beam path and a second beam path. The invention additionally relates to a laser scanning microscope.
(FR) La présente invention concerne un système optique servant à balayer un rayonnement d'excitation et/ou un rayonnement de manipulation dans un microscope à balayage laser. Le système optique selon l'invention est caractérisé en ce qu'il présente, en plus d'un premier et d'un deuxième dispositif de focalisation, un troisième dispositif de focalisation pour générer un troisième plan pupillaire qui est conjugué optiquement à un premier plan pupillaire, en ce qu'un troisième dispositif de déviation de faisceau est disposé dans le troisième plan pupillaire pour dévier le rayonnement d'excitation et/ou le rayonnement de manipulation, en ce qu’un premier moyen de déviation de faisceau est placé entre le deuxième dispositif de focalisation et le deuxième plan pupillaire d'une part et entre le deuxième plan pupillaire et le troisième dispositif de focalisation d'autre part pour dévier le rayonnement d'excitation et/ou le rayonnement de manipulation provenant du troisième dispositif de focalisation en contournant le deuxième dispositif de déviation de faisceau en direction du deuxième dispositif de focalisation, en ce qu'il est prévu un quatrième dispositif de focalisation pour générer un quatrième plan pupillaire qui est conjugué optiquement au troisième plan pupillaire, et en ce qu’un deuxième moyen de déviation de faisceau variable est disposé dans le quatrième plan pupillaire pour faire passer un chemin optique entre un premier trajet de faisceau et un deuxième trajet de faisceau. L’invention concerne en outre un microscope à balayage laser.
(DE) Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Anordnung zum Scannen von Anregungsstrahlung und/oder Manipulationsstrahlung in einem Laser-Scanning-Mikroskop. Die erfindungsgemäße optische Anordnung ist dadurch gekennzeichnet, dass, zusätzlich zu einer ersten und einer zweiten fokussierenden Einrichtung eine dritte fokussierende Einrichtung vorhanden ist zum Erzeugen einer dritten Pupillenebene, die zu einer ersten Pupillenebene optisch konjugiert ist, dass in der dritten Pupillenebene eine dritte Strahlumlenkeinrichtung angeordnet ist zum Umlenken der Anregungsstrahlung und/oder Manipulationsstrahlung, dass zwischen der zweiten fokussierenden Einrichtung und der zweiten Pupillenebene einerseits und der zweiten Pupillenebene und der dritten fokussierenden Einrichtung andererseits ein erstes Strahlumlenkmittel vorhanden ist zum Umlenken der von der dritten fokussierenden Einrichtung kommenden Anregungsstrahlung und/oder Manipulationsstrahlung unter Umgehung der zweiten Strahlumlenkeinrichtung in Richtung der zweiten fokussierenden Einrichtung, dass eine vierte fokussierende Einrichtung zum Erzeugen einer vierten Pupillenebene vorhanden ist, die zur dritten Pupillenebene optisch konjugiert ist, dass in der vierten Pupillenebene ein variables zweites Strahlumlenkmittel angeordnet ist zum Umschalten eines optischen Strahlengangs zwischen einem ersten Strahlweg und einem zweiten Strahlweg. Die Erfindung betrifft außerdem ein Laser-Scanning-Mikroskop.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)