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1. (WO2019033481) POLYMER MASK AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR AND USE THEREOF
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Veröff.-Nr.: WO/2019/033481 Internationale Anmeldenummer PCT/CN2017/101276
Veröffentlichungsdatum: 21.02.2019 Internationales Anmeldedatum: 11.09.2017
IPC:
C23C 14/24 (2006.01) ,C23C 14/04 (2006.01) ,H01L 51/56 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14
Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
22
gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
24
Vakuumbedampfen
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14
Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
04
Beschichten ausgewählter Oberflächenbereiche, z.B. unter Verwendung von Masken
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
51
Festkörperbauelemente, die organische Materialien oder eine Kombination von organischen mit anderen Materialien als aktives Medium aufweisen; Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von derartigen Bauelementen oder Teilen davon
50
besonders ausgebildet zur Lichtemission, z.B. organische lichtemittierende Dioden (OLED) oder polymere lichtemittierende Bauelemente (PLED)
56
Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von derartigen Bauelementen oder Teilen davon
Anmelder:
武汉华星光电半导体显示技术有限公司 WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS SEMICONDUCTOR DISPLAY TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国湖北省武汉市 东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室 305 Room, Building C5, Biolake of Optics Valley No. 666 Gaoxin Avenue, Wuhan East Lake High-tech Development Zone Wuhan, Hubei 430070, CN
Erfinder:
唐凡 TANG, Fan; CN
Vertreter:
深圳市铭粤知识产权代理有限公司 MING & YUE INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; 中国广东省深圳市 南山区南山街道前海路泛海城市广场2栋604室 Room 604, Building 2, Oceanwide City Square Qianhai Road, Nanshan Street, Nanshan District Shenzhen, Guangdong 518066, CN
Prioritätsdaten:
201710713991.118.08.2017CN
Titel (EN) POLYMER MASK AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR AND USE THEREOF
(FR) MASQUE POLYMÈRE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION S'Y RAPPORTANT ET UTILISATION CORRESPONDANTE
(ZH) 一种高分子掩膜版及其制作方法和应用
Zusammenfassung:
(EN) Disclosed are a polymer mask (1) and a manufacturing method therefor, and the use of the polymer mask (1) in the manufacturing of OLEDs, wherein the polymer mask (1) includes a bearing substrate (11) and a sacrificial layer (12) and a mask (13) successively laminated and arranged on the bearing substrate (11); the mask (13) includes a polymer film layer (131) and several holes (132) provided on the polymer film layer (131) and running through the polymer film layer (131); and the polymer film layer (131) is doped with magnetic nanoparticles. The manufacturing method for the polymer mask (1) comprises the steps of: S1. manufacturing a sacrificial layer (12) on a bearing substrate (11); S2. coating a polymer precursor doped with magnetic nanoparticles on the sacrifice layer (12) and curing same into a film, and forming a primary polymer film (13a); S3. ablating, by means of a photomask mask (21) and by means of laser scanning, the primary polymer film (13a) on the areas not shielded by the photomask mask (21) to form holes (132) and to form a mask (13), so as to obtain a polymer mask precursor (1a); and S4. after washing and drying the polymer mask precursor (1a), weakening the acting force between the bearing substrate (11) and the mask (13) to obtain the polymer mask (1).
(FR) L'invention concerne un masque polymère (1) et un procédé de production s'y rapportant, et l'utilisation du masque polymère (1) dans la production d'OLED, le masque polymère (1) comprenant un substrat de support (11), et une couche sacrificielle (12) et un masque (13) successivement stratifiés et agencés sur le substrat de support (11); le masque (13) comprenant une couche de film polymère (131) et plusieurs trous (132) disposés sur la couche de film polymère (131) et s'étendant à travers la couche de film polymère (131); et la couche de film polymère (131) étant dopée avec des nanoparticules magnétiques. Le procédé de production du masque polymère (1) comporte les étapes suivantes : S1. production d'une couche sacrificielle (12) sur un substrat de support (11); S2. revêtement d'un précurseur de polymère dopé avec des nanoparticules magnétiques sur la couche sacrificielle (12) et durcissement de ce dernier en un film, et formation d'un film polymère primaire (13a); S3. ablation, au moyen d'un masque de photomasque (21) et au moyen d'un balayage laser, le film polymère primaire (13a) sur les zones non protégées par le masque de photomasque (21) en vue de former des trous (132) et de former un masque (13), de façon à obtenir un précurseur de masque polymère (1a); et S4. après le lavage et le séchage du précurseur de masque polymère (1a), affaiblissement de la force d'action entre le substrat de support (11) et le masque (13) en vue d'obtenir le masque polymère (1).
(ZH) 一种高分子掩膜版(1)及其制作方法、以及该高分子掩膜版(1)在制作OLED中的应用,该高分子掩膜版(1)包括承载基板(11)以及依次叠层设置于承载基板(11)上的牺牲层(12)和掩膜(13);掩膜(13)包括高分子膜层(131)以及开设在高分子膜层(131)上并贯穿高分子膜层(131)的若干孔洞(132),高分子膜层(131)中掺有磁性纳米颗粒。该高分子掩膜版(1)的制作方法,包括步骤:S1、在承载基板(11)上制作牺牲层(12);S2、在牺牲层(12)上涂布掺有磁性纳米颗粒的高分子前驱体并固化成膜,形成高分子原膜(13a);S3、利用光罩掩膜版(21)采用激光扫描对高分子原膜(13a)上未被光罩掩膜版(21)遮挡的区域进行烧蚀形成孔洞(132)以形成掩膜(13),获得高分子掩膜版前驱体(1a);S4、清洗并干燥高分子掩膜版前驱体(1a)后,弱化承载基板(11)与掩膜(13)之间的作用力,获得高分子掩膜版(1)。
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Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Chinesisch (ZH)
Anmeldesprache: Chinesisch (ZH)