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1. (WO2019032753) MATERIALS, COMPONENT, AND METHODS FOR USE WITH EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION IN LITHOGRAPHY AND OTHER APPLICATIONS
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Veröff.-Nr.: WO/2019/032753 Internationale Anmeldenummer PCT/US2018/045878
Veröffentlichungsdatum: 14.02.2019 Internationales Anmeldedatum: 08.08.2018
IPC:
G02B 1/10 (2015.01) ,G02B 5/08 (2006.01) ,G03F 1/24 (2012.01)
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
1
Optische Elemente, gekennzeichnet durch das Material, aus dem sie hergestellt sind; optische Beschichtungen für optische Elemente
10
Optische Beschichtungen, die durch Aufbringen auf optische Elemente oder durch Oberflächenbehandlung hergestellt sind
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
5
Optische Elemente außer Linsen
08
Spiegel
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
1
Kopiervorlagen für die fotomechanische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Masken, Fotomasken oder Zielmarken; zugehörige Maskenrohlinge oder Pellicles; besonders hierfür ausgebildete Behälter; Herstellung derselben
22
Masken oder Maskenrohlinge zur Abbildung mittels Strahlung von 100 nm oder kürzerer Wellenlänge, z.B. Röntgen-Masken, EUV-Masken; Herstellung derselben
24
Reflexionsmasken; Herstellung derselben
Anmelder:
JAISWAL, Supriya [GB/US]; US
Erfinder:
JAISWAL, Supriya; US
Vertreter:
KOLEGRAFF, William, J.; US
Prioritätsdaten:
62/542,73408.08.2017US
Titel (EN) MATERIALS, COMPONENT, AND METHODS FOR USE WITH EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION IN LITHOGRAPHY AND OTHER APPLICATIONS
(FR) MATÉRIAUX, COMPOSANT, ET PROCÉDÉS D'UTILISATION AVEC UN RAYONNEMENT ULTRAVIOLET EXTRÊME EN LITHOGRAPHIE ET DANS D'AUTRES APPLICATIONS
Zusammenfassung:
(EN) New classes of materials and associated components for use in devices and systems operating at ultraviolet (UV), extreme ultraviolet (EUV), and/or soft X-ray wavelengths are described. This invention relates to increasing the bandwidth and general performance of EUV reflective and transmissive materials. Such a material structure and combination may be used to make components such as mirrors, lenses or other optics, panels, light sources, photomasks, photoresists, or other components for use in applications such as lithography, wafer patterning, astronomical and space applications, biomedical applications, or other applications.
(FR) L'invention concerne de nouvelles classes de matériaux et des composants associés destinés à être utilisés dans des dispositifs et des systèmes fonctionnant à des longueurs d'ondes de l'ultraviolet (UV), de l'ultraviolet extrême (EUV) et/ou du rayon X doux. La présente invention concerne l'augmentation de la largeur de bande et la performance générale de matériaux réfléchissants et transmissifs de l'ultraviolet extrême EUV. Une telle structure et combinaison de matériaux peut être utilisée pour fabriquer des composants tels que des miroirs, des lentilles ou d'autres éléments optiques, des panneaux, des sources lumineuses, des masques photographiques, des résines photosensibles ou d'autres composants destinés à être utilisés dans des applications telles que la lithographie, le modelage de contours sur plaquettes, des applications astronomiques et spatiales, des applications biomédicales, ou d'autres applications.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Afrikanische regionale Organisation für geistiges Eigentum (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasisches Patentamt (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPA) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Englisch (EN)
Anmeldesprache: Englisch (EN)