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1. (WO2019031609) MANUFACTURING METHOD FOR MODIFIED LIGNIN AND MODIFIED POLYPHENOL, AND MODIFIED LIGNIN-INCLUDING RESIN COMPOSITION MATERIAL
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Veröff.-Nr.: WO/2019/031609 Internationale Anmeldenummer PCT/JP2018/030112
Veröffentlichungsdatum: 14.02.2019 Internationales Anmeldedatum: 10.08.2018
IPC:
C07G 1/00 (2011.01) ,C08H 7/00 (2011.01) ,C08K 5/07 (2006.01) ,C08K 5/13 (2006.01) ,C08L 97/00 (2006.01) ,C08L 101/00 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
07
Organische Chemie
G
Verbindungen unbekannter Zusammensetzung
1
Niedermolekulare Derivate des Lignins
C Chemie; Hüttenwesen
08
Organische makromolekulare Verbindungen; deren Herstellung oder chemische Verarbeitung; Massen auf deren Basis
H
Derivate von natürlichen makromolekularen Verbindungen
7
Lignin; modifiziertes Lignin; hiervon abgeleitete hochmolekulare Produkte
C Chemie; Hüttenwesen
08
Organische makromolekulare Verbindungen; deren Herstellung oder chemische Verarbeitung; Massen auf deren Basis
K
Verwendung von anorganischen oder nichtmakromolekularen organischen Stoffen als Zusatzstoffe
5
Verwendung von organischen Zusatzstoffen
04
Sauerstoff enthaltende Verbindungen
07
Aldehyde; Ketone
C Chemie; Hüttenwesen
08
Organische makromolekulare Verbindungen; deren Herstellung oder chemische Verarbeitung; Massen auf deren Basis
K
Verwendung von anorganischen oder nichtmakromolekularen organischen Stoffen als Zusatzstoffe
5
Verwendung von organischen Zusatzstoffen
04
Sauerstoff enthaltende Verbindungen
13
Phenole; Phenolate
C Chemie; Hüttenwesen
08
Organische makromolekulare Verbindungen; deren Herstellung oder chemische Verarbeitung; Massen auf deren Basis
L
Massen auf Basis makromolekularer Verbindungen
97
Massen auf Basis von Lignin enthaltenden Stoffen
C Chemie; Hüttenwesen
08
Organische makromolekulare Verbindungen; deren Herstellung oder chemische Verarbeitung; Massen auf deren Basis
L
Massen auf Basis makromolekularer Verbindungen
101
Massen auf Basis von nicht näher gekennzeichneten makromolekularen Verbindungen
Anmelder:
出光興産株式会社 IDEMITSU KOSAN CO.,LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内三丁目1番1号 1-1, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008321, JP
Erfinder:
田代 裕統 TASHIRO, Hironori; JP
小山 啓人 KOYAMA, Yoshihito; JP
Vertreter:
平澤 賢一 HIRASAWA, Kenichi; JP
滝沢 喜夫 TAKIZAWA, Yoshio; JP
大谷 保 OHTANI, Tamotsu; JP
Prioritätsdaten:
2017-15618610.08.2017JP
Titel (EN) MANUFACTURING METHOD FOR MODIFIED LIGNIN AND MODIFIED POLYPHENOL, AND MODIFIED LIGNIN-INCLUDING RESIN COMPOSITION MATERIAL
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE LIGNINE MODIFIÉE ET POLYPHÉNOL MODIFIÉ, ET MATÉRIAU DE COMPOSITION DE RÉSINE CONTENANT DE LA LIGNINE MODIFIÉE
(JA) 改質リグニン及び改質ポリフェノールの製造方法、並びに改質リグニンを用いた樹脂組成材料
Zusammenfassung:
(EN) A manufacturing method for a modified lignin and a modified polyphenol, and a modified lignin-including resin composition material, wherein the ratio [(2H+G)/S] of the sum of two times the relative abundance H (%) of an H-type skeleton and the relative abundance G (%) of a G-type skeleton to the relative abundance S (%) of an S-type skeleton, as calculated from integrated values measured by 31P-NMR, is 2.5 or greater, and the abundance of an aliphatic hydroxyl group as measured by the same technique is less than 20%.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'une lignine modifiée et d'un polyphénol modifié, et un matériau de composition de résine contenant de la lignine modifiée, le rapport [(2H +G)/S] de la somme de deux fois l'abondance relative H (%) d'un squelette de type H et l'abondance relative G (%) d'un squelette de type G à l'abondance relative S (%) d'un squelette de type S, telle que calculée à partir de valeurs intégrées mesurées par RMN-331P est de 2,5 ou plus, et l'abondance d'un groupe hydroxyle aliphatique telle que mesurée par la même technique est inférieure à 20 %.
(JA) 31P-NMRで測定される積分値から求めたS型骨格の相対存在率S(%)に対するH型骨格の相対存在率H(%)の2倍及びG型骨格の相対存在率G(%)の合計の比[(2H+G)/S]が2.5以上であり、同手法にて測定される脂肪族水酸基の存在率が20%未満である改質リグニン及び改質ポリフェノールの製造方法、並びに改質リグニン含有樹脂組成材料である。
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Afrikanische regionale Organisation für geistiges Eigentum (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasisches Patentamt (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPA) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Japanisch (JA)
Anmeldesprache: Japanisch (JA)