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1. (WO2019030038) DREHRATENSENSOR MIT EINEM SUBSTRAT, HERSTELLUNGSVERFAHREN FÜR EINEN DREHRATENSENSOR
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Veröff.-Nr.: WO/2019/030038 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/070575
Veröffentlichungsdatum: 14.02.2019 Internationales Anmeldedatum: 30.07.2018
IPC:
G01C 19/5733 (2012.01)
G Physik
01
Messen; Prüfen
C
Messen von Entfernungen, Höhen, Neigungen oder Richtungen; Geodäsie; Navigation; Kreiselgeräte; Fotogrammmetrie oder Videogrammmetrie
19
Kreiselgeräte; drehempfindliche Vorrichtungen, die schwingende Massen nutzen; drehempfindliche Vorrichtungen ohne bewegliche Massen; Messen der Winkelgeschwindigkeit unter Benutzung von Kreiseleffekten
56
Drehempfindliche Vorrichtungen, die schwingende Massen nutzen, z.B. schwingende Winkelgeschwindigkeitssensoren, die auf Grundlage der Corioliskraft arbeiten
5719
die ebene schwingende Massen nutzen, die entlang einer Achse in Form einer Translationsschwingung bewegt werden
5733
bauliche Einzelheiten oder räumliche Struktur
Anmelder:
ROBERT BOSCH GMBH [DE/DE]; Postfach 30 02 20 70442 Stuttgart, DE
Erfinder:
LINCK-LESCANNE, Markus; DE
CARDANOBILE, Stefano; DE
Prioritätsdaten:
10 2017 213 815.708.08.2017DE
Titel (EN) ROTATIONAL RATE SENSOR COMPRISING A SUBSTRATE, METHOD FOR PRODUCING A ROTATIONAL RATE SENSOR
(FR) CAPTEUR DE VITESSE DE ROTATION COMPORTANT UN SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UN CAPTEUR DE VITESSE DE ROTATION
(DE) DREHRATENSENSOR MIT EINEM SUBSTRAT, HERSTELLUNGSVERFAHREN FÜR EINEN DREHRATENSENSOR
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to a rotational rate sensor (1) comprising a substrate, wherein the rotational rate sensor comprises at least one first compensation structure (10) and at least one second compensation structure (20). The first compensation structure (10) is formed by applying a voltage for a quadrature compensating in a first direction, and the second compensation structure (20) is formed by applying another voltage for a quadrature compensation in a second direction. The invention is characterized in that the first compensation structure (10) and the second compensation structure (20) are designed to at least partly adjoin each other as a compensation structure pair (30).
(FR) L’invention concerne un capteur de vitesse de rotation (1) comportant un substrat. Le capteur de vitesse de rotation comprend au moins une première structure de compensation (10) et au moins une deuxième structure de compensation (20). La première structure de compensation (10) est formée par application d’une tension de compensation en quadrature dans une première direction et la deuxième structure de compensation (20) est formée par application d’une autre tension de compensation en quadrature dans une deuxième direction. L’invention est caractérisée en ce que la première structure de compensation (10) et la deuxième structure de compensation (20) sont formées au moins en partie de manière adjacente l’une à l’autre comme une paire de structures de compensation (30).
(DE) Es wird ein Drehratensensor (1) mit einem Substrat beansprucht, wobei der Drehratensensor mindestens eine erste Kompensationsstruktur (10) und mindestens eine zweite Kompensationsstruktur (20) umfasst, wobei die erste Kompensationsstruktur (10) durch Anlegen einer Spannung zur Quadraturkompensation in eine erste Richtung und die zweite Kompensationsstruktur (20) durch Anlegen einer weiteren Spannung zur Quadraturkompensation in eine zweite Richtung ausgebildet ist, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Kompensationsstruktur (10) und die zweite Kompensationsstruktur (20) zumindest teileweise aneinander angrenzend als Kompensationsstrukturenpaar (30) ausgebildet sind.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)