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1. (WO2019028324) POLISHING PAD WITH WINDOW AND MANUFACTURING METHODS THEREOF
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Veröff.-Nr.: WO/2019/028324 Internationale Anmeldenummer PCT/US2018/045122
Veröffentlichungsdatum: 07.02.2019 Internationales Anmeldedatum: 03.08.2018
IPC:
B24B 37/013 (2012.01) ,B24B 37/20 (2012.01) ,B24B 37/24 (2012.01)
B Arbeitsverfahren; Transportieren
24
Schleifen; Polieren
B
Maschinen, Einrichtungen oder Verfahren zum Schleifen oder Polieren; Ab- oder Herrichten der Arbeitsflächen von Schleifwerkzeugen; Zuführen von Schleif-, Polier- oder Läppmitteln
37
Maschinen oder Einrichtungen zum Läppen; Zubehör hierfür
005
Steuer- oder Regeleinrichtungen für Läppmaschinen oder Läppeinrichtungen
013
Einrichtungen oder Mittel zum Erfassen des Endes des Läppvorgangs
B Arbeitsverfahren; Transportieren
24
Schleifen; Polieren
B
Maschinen, Einrichtungen oder Verfahren zum Schleifen oder Polieren; Ab- oder Herrichten der Arbeitsflächen von Schleifwerkzeugen; Zuführen von Schleif-, Polier- oder Läppmitteln
37
Maschinen oder Einrichtungen zum Läppen; Zubehör hierfür
11
Läppwerkzeuge
20
Läpptücher oder -filze zum Bearbeiten ebener Oberflächen
B Arbeitsverfahren; Transportieren
24
Schleifen; Polieren
B
Maschinen, Einrichtungen oder Verfahren zum Schleifen oder Polieren; Ab- oder Herrichten der Arbeitsflächen von Schleifwerkzeugen; Zuführen von Schleif-, Polier- oder Läppmitteln
37
Maschinen oder Einrichtungen zum Läppen; Zubehör hierfür
11
Läppwerkzeuge
20
Läpptücher oder -filze zum Bearbeiten ebener Oberflächen
24
gekennzeichnet durch die Beschaffenheit oder die Eigenschaften der Tuch- oder Filz-Werkstoffe
Anmelder:
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Erfinder:
FU, Boyi; US
GANAPATHIAPPAN, Sivapackia; US
REDFIELD, Daniel; US
BAJAJ, Rajeev; US
CHOCKALINGAM, Ashwin; US
BENVEGNU, Dominic J.; US
CORNEJO, Mario Dagio; US
YAMAMURA, Mayu; US
PATIBANDLA, Nag B.; US
VORA, Ankit; US
Vertreter:
PATTERSON, B. Todd; US
STEVENS, Joseph J.; US
Prioritätsdaten:
62/541,49704.08.2017US
62/562,23722.09.2017US
Titel (EN) POLISHING PAD WITH WINDOW AND MANUFACTURING METHODS THEREOF
(FR) TAMPON À POLIR DOTÉ D’UNE FENÊTRE ET SES PROCÉDÉS DE FABRICATION
Zusammenfassung:
(EN) Embodiments of the present disclosure provide for polishing pads that include at least one endpoint detection (EPD) window disposed through the polishing pad material, and methods of forming thereof. In one embodiment a method of forming a polishing pad includes forming a first layer of the polishing pad by dispensing a first precursor composition and a window precursor composition, the first layer comprising at least portions of each of a first polishing pad element and a window feature, and partially curing the dispensed first precursor composition and the dispensed window precursor composition disposed within the first layer.
(FR) La présente invention concerne, selon certains modes de réalisation, des tampons à polir qui comprennent au moins une fenêtre de détection de point d'extrémité (EPD) disposée dans le matériau de tampon à polir, et leurs procédés de formation. Selon un mode de réalisation, un procédé de formation d'un tampon à polir consiste à former une première couche du tampon à polir par distribution d'une première composition de précurseur et d'une composition de précurseur de fenêtre, la première couche comprenant au moins des parties d'un premier organe de tampon à polir et d'un élément fenêtre, et à durcir partiellement la première composition de précurseur distribuée et la composition de précurseur de fenêtre distribuée disposées dans la première couche.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Englisch (EN)
Anmeldesprache: Englisch (EN)