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1. (WO2019026021) MICROREPLICATED POLISHING SURFACE WITH ENHANCED CO-PLANARITY
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Veröff.-Nr.: WO/2019/026021 Internationale Anmeldenummer PCT/IB2018/055815
Veröffentlichungsdatum: 07.02.2019 Internationales Anmeldedatum: 02.08.2018
IPC:
B24B 37/26 (2012.01) ,B24B 37/16 (2012.01) ,B24B 37/22 (2012.01) ,B24B 37/24 (2012.01) ,B24D 3/28 (2006.01)
B Arbeitsverfahren; Transportieren
24
Schleifen; Polieren
B
Maschinen, Einrichtungen oder Verfahren zum Schleifen oder Polieren; Ab- oder Herrichten der Arbeitsflächen von Schleifwerkzeugen; Zuführen von Schleif-, Polier- oder Läppmitteln
37
Maschinen oder Einrichtungen zum Läppen; Zubehör hierfür
11
Läppwerkzeuge
20
Läpptücher oder -filze zum Bearbeiten ebener Oberflächen
26
gekennzeichnet durch die Oberflächengestalt des Läpptuchs oder Läppfilzes, z.B. genutet
B Arbeitsverfahren; Transportieren
24
Schleifen; Polieren
B
Maschinen, Einrichtungen oder Verfahren zum Schleifen oder Polieren; Ab- oder Herrichten der Arbeitsflächen von Schleifwerkzeugen; Zuführen von Schleif-, Polier- oder Läppmitteln
37
Maschinen oder Einrichtungen zum Läppen; Zubehör hierfür
11
Läppwerkzeuge
12
Läppscheiben zum Bearbeiten ebener Oberflächen
16
gekennzeichnet durch die Oberflächengestalt der Läppscheiben, z.B. genutet
B Arbeitsverfahren; Transportieren
24
Schleifen; Polieren
B
Maschinen, Einrichtungen oder Verfahren zum Schleifen oder Polieren; Ab- oder Herrichten der Arbeitsflächen von Schleifwerkzeugen; Zuführen von Schleif-, Polier- oder Läppmitteln
37
Maschinen oder Einrichtungen zum Läppen; Zubehör hierfür
11
Läppwerkzeuge
20
Läpptücher oder -filze zum Bearbeiten ebener Oberflächen
22
gekennzeichnet durch einen mehrlagigen Aufbau
B Arbeitsverfahren; Transportieren
24
Schleifen; Polieren
B
Maschinen, Einrichtungen oder Verfahren zum Schleifen oder Polieren; Ab- oder Herrichten der Arbeitsflächen von Schleifwerkzeugen; Zuführen von Schleif-, Polier- oder Läppmitteln
37
Maschinen oder Einrichtungen zum Läppen; Zubehör hierfür
11
Läppwerkzeuge
20
Läpptücher oder -filze zum Bearbeiten ebener Oberflächen
24
gekennzeichnet durch die Beschaffenheit oder die Eigenschaften der Tuch- oder Filz-Werkstoffe
B Arbeitsverfahren; Transportieren
24
Schleifen; Polieren
D
Werkzeuge zum Schleifen, Polieren oder Schärfen
3
Physikalische Merkmale von Schleifkörpern oder -blättern, z.B. mit einer Schleiffläche von besonderer Eigenart; Schleifkörper oder -blätter gekennzeichnet durch ihre Bestandteile
02
Bindemittel als Bestandteil
20
im wesentlichen organisch
28
Harze
Anmelder:
3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY [US/US]; 3M Center Post Office Box 33427 Saint Paul, Minnesota 55133-3427, US
Erfinder:
MEYER, Kenneth A. P.; US
SULLIVAN, John J.; US
LUECK, Brian W.; US
LEHUU, Duy K.; US
MURADIAN, David J.; US
SLAMA, David F.; US
Vertreter:
BRAMWELL, Adam M.,; US
BLANK, Colene H.,; US
HARTS, Dean M. ,; US
LEVINSON, Eric D.,; US
MAKI, Eloise J.,; US
NOWAK, Sandra K.,; US
OLSON, Peter L.,; US
RHODES, Kevin H.; US
RINGSRED, Ted K.,; US
Prioritätsdaten:
62/541,36204.08.2017US
Titel (EN) MICROREPLICATED POLISHING SURFACE WITH ENHANCED CO-PLANARITY
(FR) SURFACE DE POLISSAGE MICRO-RÉPLIQUÉE À COPLANARITÉ AMÉLIORÉE
Zusammenfassung:
(EN) An article includes a polishing layer that includes a plurality of raised cells separated by a plurality of channels. Each of the plurality of raised cells includes a microstructured working surface, a substantially vertical channel surface, and an offset surface between an edge of the working surface and an upper edge of the channel surface. The microstructured working surface includes a plurality of microstructures. Tops of the plurality of microstructures define a top plane and bases of the plurality of microstructures define a base plane. The substantially vertical channel surface defines a wall of a channel of the plurality of channels and the channel surface defines a channel plane. The offset surface includes a nonplanar portion of displaced material. The displaced material defines a displacement plane that is below the base plane or within a tolerance of the top plane.
(FR) La présente invention concerne un article comprenant une couche de polissage qui comprend une pluralité de cellules surélevées séparées par une pluralité de canaux. Chaque cellule surélevée de la pluralité de cellules surélevées comprend une surface de travail micro-structurée, une surface de canal sensiblement verticale et une surface de décalage entre un bord de la surface de travail et un bord supérieur de la surface de canal. La surface de travail micro-structurée comprend une pluralité de micro-structures. Les sommets de la pluralité de micro-structures délimitent un plan supérieur et les bases de la pluralité de micro-structures délimitent un plan de base. La surface de canal sensiblement verticale délimite une paroi d'un canal de la pluralité de canaux et la surface de canal délimite un plan de canal. La surface de décalage comprend une partie non plane de matériau déplacé. Le matériau déplacé délimite un plan de déplacement qui est en dessous du plan de base ou dans une tolérance du plan supérieur.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Englisch (EN)
Anmeldesprache: Englisch (EN)