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1. (WO2019025218) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM BESTIMMEN VON DURCH EIN PROJEKTIONSOBJEKTIV VERURSACHTEN WELLENFRONTABERRATIONEN
Anmerkung: Text basiert auf automatischer optischer Zeichenerkennung (OCR). Verwenden Sie bitte aus rechtlichen Gründen die PDF-Version.

Patentansprüche

Verfahren zum Bestimmen von durch ein Projektionsobjektiv verursachten Wellenfrontaberrationen, wobei das Verfahren folgende Schritte aufweist:

a) Bestrahlen eines Retikels (130) mit Strahlung, wobei das Retikel (130) eine Mehrzahl von strukturierten Bereichen aufweist und wobei von wenigstens einigen dieser strukturierten Bereiche ein Messstrahl ausgeht;

b) Projizieren dieser Messstrahlen, mit einem Projektionsobjektiv (120), auf eine in der Bildebene des Projektionsobjektivs befindliche Sensoranordnung (140); und

c) Messen der auf die Sensoranordnung (140) auftreffenden Strahlung zum Bestimmen von durch das Projektionsobjektiv (120) verursachten Wellenfrontaberrationen;

wobei die Schritte a)-c) in einer Mehrzahl von Messstellungen durchgeführt werden, welche sich hinsichtlich der Relativposition zwischen dem aus Retikel (130) und Sensoranordnung (140) gebildeten Messsystem und dem Projektionsobjektiv (120) voneinander unterscheiden; und

wobei in wenigstens einigen dieser Messstellungen Retikel (130) und/oder Sensoranordnung (140) einerseits und Projektionsobjektiv (120) andererseits relativ zueinander verdreht angeordnet werden, wobei diese Verdrehung innerhalb der Bildebene oder einer parallel zur Bildebene liegenden Ebene erfolgt.

Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass in wenigstens einigen der Messstellungen diese Verdrehung um einen Winkel von 90° oder um ein ganzzahliges Vielfaches hiervon erfolgt.

Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass in wenigstens einigen der Messstellungen diese Verdrehung um einen

Winkel erfolgt, der kein ganzzahliges Vielfaches von 90° beträgt.

Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass in wenigstens einigen der Messstellungen diese Verdrehung um einen Winkel im Bereich von 30° bis 45° oder im Bereich von 3 5° bis 330° erfolgt.

Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in wenigstens einigen der Messstellungen das Projektionsobjektiv (120) relativ zu einer zum Bestrahlen des Retikels (130) verwendeten Bestrahlungseinrichtung bzw. Beleuchtungseinrichtung (1 10) verdreht ist.

Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Bestimmung von durch das Projektionsobjektiv (120) verursachten Wellenfrontaberrationen jeweils auf Basis wenigstens einer ein lineares Gleichungssystem definierenden Designmatrix erfolgt.

Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass zur Ermittlung von wenigstens zwei, insbesondere von wenigstens drei, weiter insbesondere von wenigstens vier, unterschiedliche Wellenfrontaberrationen in einem vorgegebenen Funktionensystem beschreibenden Koeffizienten ein gemeinsames lineares Gleichungssystem aufgestellt wird.

Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass dieses Funktionensystem ein orthogonales Funktionensystem ist.

Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass dieses Funktionensystem durch Zernike-Polynome gebildet wird.

Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass zur Ermittlung von unterschiedliche Wellenfrontaberrationen beschreibenden Koeffizienten, welche bei der erfindungsgemäßen Ver-

drehung ineinander transformieren, eine gemeinsame Designmatrix bzw. ein gemeinsames lineares Gleichungssystem aufgestellt wird.

1 1 . Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass im Schritt c) der Bestimmung von durch das Projektionsobjektiv

(120) verursachten Wellenfrontaberrationen hinsichtlich der auf das zu untersuchende Projektionsobjektiv bezogenen Anteile der Designmatrix eine Interpolation bzw. Extrapolation durchgeführt wird.

12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Projektionsobjektiv (120) für einen Betrieb bei einer Wellenlänge von weniger als 30nm, insbesondere weniger als 15nm, ausgelegt ist.

13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Projektionsobjektiv (120) ein Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie, insbesondere ein Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, ist.

14. Vorrichtung zum Bestimmen von durch ein optisches System verursachten Wellenfrontaberrationen, dadurch gekennzeichnet, dass diese dazu konfiguriert ist, ein Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche durchzuführen.